JPS63108630U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS63108630U JPS63108630U JP19968786U JP19968786U JPS63108630U JP S63108630 U JPS63108630 U JP S63108630U JP 19968786 U JP19968786 U JP 19968786U JP 19968786 U JP19968786 U JP 19968786U JP S63108630 U JPS63108630 U JP S63108630U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hook
- gas
- nozzle
- cassette
- draining device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Weting (AREA)
Description
第1図は本考案に係る液切り装置を備える洗浄
槽内を示す縦断正面図、第2図はその縦断側面図
、第3図〜第5図は従来例に関するもので、第3
図は2連式カセツト搬送装置の斜視図、第4図は
浸漬型基板処理装置の斜視図、第5図は液切り装
置の従来例を示す縦断正面図である。 4…洗浄槽、5…固定ノズル、10…移動ノズ
ル、17…エアシリンダ、21…第1のガス供給
弁、22…第2のガス供給弁、28…洗浄液供給
バルブ、31…カセツト搬送用フツク、31a…
揺動縦腕部、31b…掛持横腕部。
槽内を示す縦断正面図、第2図はその縦断側面図
、第3図〜第5図は従来例に関するもので、第3
図は2連式カセツト搬送装置の斜視図、第4図は
浸漬型基板処理装置の斜視図、第5図は液切り装
置の従来例を示す縦断正面図である。 4…洗浄槽、5…固定ノズル、10…移動ノズ
ル、17…エアシリンダ、21…第1のガス供給
弁、22…第2のガス供給弁、28…洗浄液供給
バルブ、31…カセツト搬送用フツク、31a…
揺動縦腕部、31b…掛持横腕部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 洗浄槽内に少なくとも一組以上のガスノズル
を設け、カセツト搬送用フツクに付着した洗浄液
を除去するように構成したカセツト搬送用フツク
の液切り装置において、 ガスノズルがフツクの掛持横腕部に対向するよ
うに配置され水平移動可能に設けられた移動ノズ
ルを備えて成り、掛持横腕部に付着した洗浄液を
当該横腕部に沿つて吹き流すように構成したこと
を特徴とするカセツト搬送用フツクの液切り装置
。 2 ガスノズルがフツクの揺動縦腕部に対向する
ように配置された少なくとも一組の固定ノズルを
含んで成り、ガス供給弁を介して順次固定ノズル
と移動ノズルとにガスを切換えて供給するように
構成した実用新案登録請求の範囲第1項に記載の
カセツト搬送用フツクの液切り装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19968786U JPH0244522Y2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19968786U JPH0244522Y2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63108630U true JPS63108630U (ja) | 1988-07-13 |
JPH0244522Y2 JPH0244522Y2 (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=31161543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19968786U Expired JPH0244522Y2 (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0244522Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06208098A (ja) * | 1993-09-20 | 1994-07-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 基板洗浄装置 |
WO2007077992A1 (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-12 | Tokyo Electron Limited | 被処理体搬送器の洗浄・乾燥処理方法、及び洗浄・乾燥処理装置、並びに記憶媒体 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4907468B2 (ja) * | 2007-08-16 | 2012-03-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP19968786U patent/JPH0244522Y2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06208098A (ja) * | 1993-09-20 | 1994-07-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | 基板洗浄装置 |
WO2007077992A1 (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-12 | Tokyo Electron Limited | 被処理体搬送器の洗浄・乾燥処理方法、及び洗浄・乾燥処理装置、並びに記憶媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0244522Y2 (ja) | 1990-11-27 |