JPS63107021A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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JPS63107021A
JPS63107021A JP62068127A JP6812787A JPS63107021A JP S63107021 A JPS63107021 A JP S63107021A JP 62068127 A JP62068127 A JP 62068127A JP 6812787 A JP6812787 A JP 6812787A JP S63107021 A JPS63107021 A JP S63107021A
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JP
Japan
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axis
manipulator
support
positioning device
elastic
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Pending
Application number
JP62068127A
Other languages
English (en)
Inventor
ヤン・ファン・アエイク
マリヌス・アルト・ファン・デン・ブリンク
ヨハネス・マティエイス・マリア・ファン・キメナデ
フベルト・アレキサンダー・マリー・ネイレン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPS63107021A publication Critical patent/JPS63107021A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/34Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
    • B23Q1/36Springs

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は第1支持体と、この第1支持体に対し回転軸線
の周りに回転し得る第2支持体とを有するZマニプレー
タを具え、前記支持体の一方に連結された直交座標(X
、Y、Z)のZ軸線方向に前記Zマニプレータによって
実質的に摩擦がなくヒステリシスのない並進運動により
移動できる物体ホルダを具え、前記直交座標のZ軸線方
向に合致する回転軸線θの周りに前記物体ホルダを実質
的に摩擦がなくヒステリシスがなく回転させるθマニプ
レータを具え、前記第1支持体と前記第2支持体とを互
いに取付ける第1弾性連結部材を設け、前記第1支持体
と前記第2支持体との一方が前記直交座標(X、Y、Z
)のZ軸線に沿う固定位置を占める位置決め装置に関す
るものである。
また本発明はこのような位置決め装置を具える光学IJ
 )グラフ装置に関する。
既知の上述の位置決め装置(例えばrL6sungsk
ataloge fur 5ensorenJ of 
RoBreitinger、 1975゜p、60. 
l5BN 3−7830−0111−0)においては、
第1支持体く物体ホルダ)に連結した軸のZ方向の並進
運動は、Z軸線に合致する回転軸線θの周りに第1支持
体を第2支持体に対し回転させることによって得られる
。この第2支持体は固定されており、傾斜して配置した
板ばねを介して第1支持体に連結されている。このよう
な位置決め装置は実際上、トムリンソン素子として知ら
れている。
この既知の位置決め装置の欠点はZ方向の並進運動と軸
線θの周りの回転運動とを互いに独立して行えないこと
である。従ってこの位置決め装置の使用分野は制約を受
ける。
本発明の目的はZ軸線方向の物体ホルダの並進運動は回
転軸線θの周りの物体ホルダの同時の回転がなくとも可
能であり、また回転軸線θの周りの物体ホルダの回転は
Z軸線方向の同時の並進運動がなくとも可能であり、Z
軸線の方向の並進運動と回転軸線θの周りのそれと無関
係な回転運動とを行うことができる位置決め装置を(辱
るにある。
この目的を達成するため、本発明位置決め装置は前記Z
軸線の方向に弾性的に変形できるセパレータであって前
記Zマニプレータを前記θマニプレータに連結するセパ
レータを設け、前記Z軸線に沿う前記物体ホルダの並進
運動は行わせず前記回転軸線θの周りに前記物体ホルダ
を前記θマニプレータによって回転させると共に、前記
第2支持体に対し前記第1支持体が相対的に回転運動を
する際、前記第1弾性連結部材の弾性変形に起因して前
記回転軸線θの周りの前記物体ホルダの回転運動は行わ
せず前記Z軸線の方向の前記物体ホルダの並進運動を行
わせることを特徴とする。
米国特許第3887811号に開示された位置決め装置
は半導体集積回路の製造のための電子ビームパターン発
振器の一部を形成している。この位置決め装置はZ軸線
方向に移動できる機構と、実質的に摩擦がなく、ヒステ
リシスのないθマニプレータを有する。このZ軸線方向
に移動するための機構と、θマニプレータとはマスク又
は半導体基材と共に物体ホルダを位置決めする。Z軸線
方向の運動は回転軸線θの周りの回転運動と無関係であ
る。Z軸線方向に移動するための機構は摺動軸を具え、
弾性ベローの弾性力によってこの摺動軸をZ軸線方向に
移動させるようにしているので、摺動軸やベローによる
遊び、摩擦及びヒステリシスのため微細な運動には適さ
ない、従って集束コイルによって電子ビームを集束させ
ている。
本発明の好適な実施例では中心が前記Z軸線上にあって
前記Z軸線に直角方向に延在し前記θマニプレータに取
付けた平坦リングを前記セパレータに設け、前記Zマニ
プレータの回転軸線の周りに前記θマニプレータの部分
に対し相対的に前記平坦リングが回転しないよう前記位
置決め装置の固着部分に前記平坦リングを連結する板ば
ねの形状の可撓性スポークを設ける。
本発明の他の実施例では前記θマニプレータを前記Zマ
ニプレータによって支持し、固着した外部部材と、前記
Z軸線に対し直角な平面内でのみ変形し得る第1弾性枢
着体によって前記外部部材に連結した内部部村とを前記
Zマニプレータの前記第1支持体に設け、前記内部部村
、前記外部部材及び前記第1弾性枢着体を単一の金属板
で一体構造にし、前記第1弾性枢着体によって前記内部
部村を前記第2支持体に連結し、前記内部部村を前記第
1支持体の上方に配置すると共に、前記内部部村を前記
セパレータによって前記第1支持体の前記外部部材に取
付けると共に、前記第2支持体の上方に配置した第3支
持体の内部部村に前記内部部村を取付け、前記物体ホル
ダに第2連結部材を通じて取付けた外部部材を前記第3
支持体に設け、前記Z軸線に直角な平面内でのみ変形し
得る第2弾性枢着体によって前記第3支持体の前記外部
部材を関連する内部部村に連結し、前記θマニプレータ
として作用する前記第3支持体を単一の金属板で一体構
造として構成する。
本発明の他の実施例では前記Zマニプレータの前記第1
支持体と前記第2支持体との間の前記第1弾性連結部材
を円形の円筒ロッドとして構成し、この円筒ロッドの両
端に弾性枢着体を設け、この両端を前記第1支持体と第
2支持体との孔に取付け、前記Z軸線に平行で前記支持
体に垂直な線に対し前記孔の中心軸線が鋭角になるよう
にする。
更に、本発明の実施例では前記第3支持体と前記物体ホ
ルダとの間の前記第2連結部材を弾性的に変形し得るよ
う3個の板ばねで構成し、前記板ばねの平面に直角な軸
線を存する第1弾性枢着体を前記板ばねに設け、前記板
ばねの平面に平行でその中心線に垂直に交差する軸線を
有する第2弾性枢着体を前記3個の板ばねのうちの2個
の板ばねに付加的に設ける。
本発明の好適な実施例では前記Z軸線に沿う前記物体ホ
ルダの並進運動を第1作動部材によって行い、前記回転
軸線θの周りの前記物体ホルダの回転運動を第2作動部
材によって行い、前記Z軸線に平行な線に沿って互いに
交差する平面内にある2個の板ばねでこれ等作動部材を
構成し、対をなすこれ導板ばねの互いに向き合う端部を
固定フレームにクランプし、互いに反対方向に向く端部
を橋絡材料に取付け、前記Z軸線に平行な交線上に中心
がある円の接線方向に前記橋絡材料が移動し得るように
し、前記Z軸線に直角な平面に互いに平行に取付けた2
個の板によって前記回転軸線の周りに回転し得る前記Z
マニプレータと前記θマニプレータの部材に前記橋絡材
料を連結する。
前記物体ホルダにマスク支持体を設け、前記Zマニプレ
ータの前記第1支持体の前記外部部材に固着したレンズ
ホルダ内に配置した光学投映レンズのZ軸線に合致する
光学軸線に直角に掛合面を前記マスク支持体に設け、光
源と、ダイアフラムと、収光レンズと、前記位置決め装
置と、前記投映レンズと、X、Yテーブルとを投映の方
向にこの順序で光学リトグラフ装置に設け、基材を繰返
し露光するためX方向とY方向とに並進運動をするよう
前記投映レンズの下に前記X、Yテーブルを配置した位
置決め装置を集積回路の製造のための光学リトグラフ装
置に設ける。
図面につき本発明を説明する。
線図的にそれぞれ第1,2及び3図に示す本発明の第1
.2及び3実施例ではできるだけ同一部分に同一符号を
付して説明する。第1〜3図では第4図についての説明
のための本発明の原理と、発明の詳細な説明する。
第1図に示す第1実施例の位置決め装置は直交座標系X
、Y、Zにフレーム1を固着して配置する。このフレー
ムlの円筒室3にZマニプレータを収容する。以後詳細
に説明するこのZマニプレータは物体ホルダ5に2軸方
向の並進運動を与えるものである。このZマニプレータ
の外側リング7をフレーム1に取付ける。Z軸線の放射
方向に指向する多数の第1弾性枢着体9を介してこの外
側リング7を内側リング11に連結する。外側リング7
、弾性枢着体9及び内側リング11によってZマニプレ
ータの第1支持体を構成する。第4図を参照して一層詳
細に説明するが、図示のような板ばね又は回転ロッドに
よって弾性枢着体9を構成することができる。弾性枢着
体9の数は2個又は3個以上である。リング7.11に
沿って枢着体9を配置し、外側リング7に対しZ軸線に
沿って内側リング11が動かないようにする。ロッドの
形状の第1作動部材13を内側リング11に取付けてト
ルクを作用し得るようにする。第1作動部材13によっ
て内側リング11にトルクを加えた時、枢着体9は弾性
的に変形し、Z軸線に合致する回転軸線(θ)の周りに
外側リング7に対し内側リング11が回転する。Zマニ
プレータの第2支持体を構成する円板15を環状ダイア
フラム(セパレータ)17によってフレーム1に連結す
る。環状ダイアフラム17によってZ軸線に沿う円板1
5の並進運動が可能である。第1弾性ロッド連結部材1
9によって円板15を内側リング11に取付ける。この
弾性ロッド連結部材19に弾性枢着体又はヒンジ21を
設ける。
連結部材19の取付方法及び形状は第6及び8図を参照
して後に一層詳細に説明する。連結部材19を板ばねで
構成してもよい。この場合、この明細書の前文で説明し
た既知のトムリンソン素子が関係する。連結部材19を
内側リング11と円板15との周囲に沿って規則的に配
置する。リング7.11及び円板15の平面はZ軸線に
対し直角であるリング7゜11の中心及び円板15の中
心はいつもZ軸線上にある。
回転軸線θの周りの外側リング7に対する内側リング1
1の回転運動が行われると連結部材19上の点は螺旋通
路に従って動く。連結部材19によって円板15の傾動
を防止するから、その中心平面はリング7.11の中心
平面に対し平行なままに留まる。
従って、円板15はZ軸線に沿う並進運動を行うだけで
ある。第2連結部材23によって円板15をθマニプレ
ータに連結する。θマニプレータの内側リング25を第
2弾性枢着体27によって外側リング29に連結し、第
3支持体を構成し、この上に物体ホルダ5を取付ける。
第2弾性枢着体27は第1弾性枢着体9と同一である。
リング25.29の中心平面はZ軸線に直角であり、こ
れ等のリングの中心線はZ軸線上にある。第2連結部材
23を剛強リングで構成してもよいが、代案として第9
及び10図につき説明するように弾性があり調整できる
ものでもよい。環状の第2作動部材31をθマニプレー
タの外側リング29に取付ける(第3支持体)。作動部
材31によって、外側リング29にトルクを作用させる
ことができ、その結果、回転軸線θの周りに、内側リン
グ25に対し外側リング29を回転させる。
簡明のため、回転運動を行わない部片を第1図に斜線を
付して示した。このことは第2及び3図についても同様
である。Zマニプレータの第1作動部材13を作動させ
て希望する並進運動をテーブルホルダ5に加えた時、θ
マニプレータの第2作動部材31が作動しない限り、セ
パレータとして作用する第1作動部材13によって、回
転軸線θの周りの物体ホルダ50回転運動は阻止される
。Z軸線方向の運動と回転運動とは互いに関連がなく、
順次に又は同時に行われてよい。すべての連結部材を弾
性の変形し得る部材で構成するから、弾性変形によって
生ずる運動はもともと摩擦がな(、ヒステリシスがない
第2図に示す位置決め装置の第2実施例が第1実施例と
異なるところはZマニプレータ及びθマニプレータの内
側リング7.25が同一なことである。従って環状ダイ
アフラム17の近くの部材7゜9.11.15.25.
27.29がこの環状ダイアフラムに関し対称である単
純な構造が得られる。またこの発明の第2実施例でも、
物体ホルダのZマニプレータ及びθマニプレータは互い
に独立であり順次又は同時に作動してもよい。第1及び
第2実施例ではセパレータとして作用する環状ダイアフ
ラム17によってθマニプレータの回転がZマニプレー
タに伝わるのを防止するが、一方Zマニブレークの並進
運動はθマニプレータ及び物体ホルダに伝える。
第3図に示す位置決め装置の第3実施例が第1及び第2
実施例と異なるのはくプラスのZ軸線の方向に見て)θ
マニプレータの上方にZマニプレータを配置しているこ
とである。θマニプレータは円筒室3内にある。第2連
結部材23をθマニプレータの内側リング29に取付け
る。第2連結部材23を剛強リング又は弾性調整部材に
よって構成してもよい。2個のリング33.35によっ
て第2連結部材23をZマニプレータの内側リング7に
連結する。環状ダイアフラム17の内周縁をリング35
に取付け、外周縁をリング37に取付ける。リング37
を物体ホルダ5に連結する。第2連結部材23を単一の
剛強リングとして構成する場合、リング?、35゜33
、23.29を管で置換し、この管の上部によりZマニ
プレータの第1支持体の内側リング7を構成すると共に
、この管の下部によりθマニプレータの内側リング29
を構成する。第3図に示す実施例ではZマニプレータの
第2支持体は物体ホルダ5によって構成する。すべての
リング11. 7.37゜35、33.23.29.2
5の中心平面はZ軸線に直角である。これ等のリングの
中心は作動中のZ軸線上にある。第3図に点線で示した
アーム39をリング33に取付け、Zマニプレータの第
2作動部材13に協働するZアクチャエータ41をこの
アームに取付ける。Zアクチュエータ41は例えば電磁
石であり、そのコイルをアーム39に取付け、そのアー
マチャによって圧力(Zl)又は引張力を作動部材13
に作用させる。またZアクチュエータ41を電気力学的
なものにすることもでき、その場合、移動できるコイル
によって作動部材13に力を作用させ、永久磁石をアー
ム39に配置する。Zアクチュエータ41によって作動
部材13に作用する力Z+の反力Z−は当然アーム39
に作用する。しかし、リング11゜第1連結部材19、
物体ホルダ5及び環状ダイアフラム17を通じてアーム
39にフィードバックされる力Z゛によって反力Z−は
完全に補正される。従ってアーム39に加わる力は零に
なる。このシステムは力に関しては有効に内部的に閉じ
た状態、即ち内部で生じた力が内部で釣合って打消し合
い、力が外部に作用せず中立の状態にある。また、この
実施例では、第1及び2図に示す実施例と異なるが、環
状ダイアフチム17はセパレータとして作用する。環状
ダイアフラム17はリング37を通じてリング29のす
べての回転運動を直接物体ホルダ5に伝えると共に、Z
軸線に沿う物体ホルダ5の並進運動はZ軸線の方向の環
状ダイアフラム17の変形によって打消される。従って
Z軸線の方向の並進運動はZマニプレータからθマニブ
レークニ伝わらない。次に説明するところから明らかな
ように、θマニプレータの弾性枢着体27はZ軸線の方
向のリング25に対するリング29の移動を許さない。
第1,2及び3図に示した本発明の実施例は同一の原理
に基づいて多くの変更を加えることができる。一般に、
同一平面内にある対をなす内側及び外側のリング及びZ
マニプレータ及びθマニプレータ内の支持体の内側部分
及び外側部分の内側で運動を転換することができる。固
定するリングはフレームに一体に形成してもよい。物体
ホルダに一体に環を設けて、物体ホルダを円板状でなく
コツプ状にしてもよい。第1及び第2連結部材を板ばね
状またはロッド状にしてもよく、第1及び第2弾性枢着
体を板ばね又はロッドで構成してもよく、ロッド機構と
一体にしてもよい。この位置決め装置はZ方向及びθ方
向に精密に物体を取扱わねければならない測定装置に特
に適する。摩擦がなく、ヒステリシスがない構造である
から、ミクロン以下の精度を要する移動、特に繰返し精
度を要する場合に適している。この位置決め装置の性質
は集積回路の製造のためのいわゆる光学リトグラフ装置
に使用して明らかになる。
第1図の第1実施例に対応する第4図の位置決め装置は
構造が簡単であり、機械的に安定しており、比較的好適
に負荷を受けるセパレータを有する。この位置決め装置
は第5図に示す光学リトグラフ装置に組合せるのに適す
るよう僅かに変更を加えている。まず、この第4図に示
す位置決め装置の種々の部分の連結構造を特に説明する
。次に第5図と組合せて、この位置決め装置を光学リト
グラフ装置にどのように組合せるかを説明する。
第4図に示す位置決め装置は回転軸線θの周りに回転し
得る内部部村109及び外部部材107を固定した第1
支持体を有するZマニプレータを具える。外部部[第1
07、内部部村109は環状ではないが、第1図の外側
リング7及び内側リング11に対応する機能を有する。
第6図に第4図の位置決め装置のZマニプレータの第1
支持体を詳細に示す。
金属板に多数の溝孔111.113.115.117.
119及び121を設けることによってこの第1支持体
を形成する。溝孔111.113及び115のパターン
は切除部117.119及び121のパターンと同一で
ある。Z軸線と直角に交差する中心線123に対し、こ
れ等2個のパターンは対称である。これ等溝孔はレーザ
のような金属除去方法で形成することができる。
溝孔113 と111 との間及び113 と115 
との間に橋渡しする材料即ち橋絡材料を残し、この材料
を枢着ロッドとして作用させる。例えば、弾性枢着体1
27、129を有するロッド125が溝孔111.11
3間に得られ、弾性枢着体133.135を有するロッ
ド131が溝孔115.113間に得られる。また、溝
孔117゜119間及び溝孔121.119間に橋渡し
する材料即ち橋絡材料を残し、枢着ロッドとして作用さ
せる。
例えば、溝孔117,119間に弾性枢着体139.1
41を有するロッド137を形成し、溝孔121.11
9間に弾性枢着体145.147を有するロッド143
を形成する。
ロッド125.143の中心線を一線にし、ロッド13
1゜137の中心線を一線にし、これ等中心線をZ軸線
に垂直に交差させる。これ等1対の一線をなすロッドの
中心線を他の1対の一線をなすロッドの中心線に直角に
交差させる。従って弾性枢着体129゜135、147
.141及び127.133.145.139は共通中
心がZ軸線上にある2個の同、心円上にある。次に説明
する機能を有する中心開口149を中心部109に設け
る。ロッド125. 131.143.137は合体し
てロッド機構として作用する。このロッド機構により、
内部部村109は外部部材107に対し回転軸線θの周
りに回転することができる。この場合、外部部材107
を固着し、第4図につき一層詳細に説明する予定の第1
作動部材によってZ軸線の周りのトルクを内部部村10
9に作用させることができる。弾性枢着体を有するロッ
ドと、−外部部材107と、内部部村109とを一体の
構造の金属板で作ることができるから、第1支持体を静
的に拘束することができる。実際上、これは2個のロッ
ドでなく4個のロッド125.131.143.137
を使用する場合である。4個のロッドを使用する利点は
構造が対称になり比較的剛性が高くなることである。Z
軸線に平行な方向の外部部材107に対する内部部村1
09の移動に比較的強く抵抗し、しかもロッドや関連す
る弾性枢着体を屈撓させる厚さを第1支持体の金属板が
有するようにする。従って、回転軸線θに平行な軸線の
周りにのみロッド125.131゜143、137は回
転する。内部部村109は回転軸線θの周りに外部部材
107に対し相対的に回転する。
これは、弾性枢着体127.133.145. 139
と、129゜135、147.141とがそれぞれ回転
軸線上に共通中心を有する同心円上にあり、しかもロッ
ド125゜131、143.137の長さが等しいため
である。第6b図に溝孔113.119について示すよ
うに、Zマニプレータの第1支持体のすべての溝孔は金
属板の厚さを貫通していることは言うまでもない。第1
支持体は更に3個の円筒孔151(第6a図参照)を有
し、その中心軸線は第1支持体の中心平面と鋭角をなす
(第6C図参照)。孔151はZマニプレータの第1支
持体と第2支持体との間の上述の第1弾性連結部材のた
めに使用するものである。第4゜8a及び8b図に示し
た第1弾性連結部材を説明する前に、Zマニプレータの
第1及び第2支持体を説明する。
第4図に示すZマニプレータの第2支持体は円形リング
152をZマニプレータの第1支持体の上方酸る距離に
配置する。円形リング152の中心平面はZ軸線に直角
であり、円形リング152の中心はZ軸線上にある。後
で説明するθマニプレータの一部を円形リング152に
取付ける。Z軸線に対し放射方向に向く板ばねの形状の
3個の可撓性スポーク157を有する円形リング155
によって構成したセパレータ153に円形リング152
をねじ止めする。Zマニプレータの第1支持体の外部部
材107に取付けた他の円形リング159にこれ等スポ
ークをねじ止めする。円形リング152は第1図の円板
15として作用し、セパレータ153は第1図の環状ダ
イアフラム17として作用する。第4図ではZマニプレ
ータの第1支持体の内部部村109に円形リング159
を固着しているように見えるが、そうではない。外部部
材107に取付けた円形リング159に対し内部部村1
09は自由に回転することができる。支持リング161
を介してセパレータ153の円形リング155をθマニ
プレータに取付ける。
特に、θマニプレータと別個にZマニプレータを試験で
きるようにするため、支持リング161を使用する。円
形リング159に第4図に示す凹部163を設け、スポ
ーク157の下方に曲げた舌片165をこの凹所163
にねじ止めする。舌片165の一部が円形リング159
の上方に突出するように舌片165の長さを定める。こ
のようにして、スポーク157を変形させ、セパレータ
1530円形リング155がZ軸線方向に移動できるよ
うにする。第4図ではセパレータ153の唯1個のスポ
ーク157が見えているが、セパレータ153はその外
周に規則的に3個のスポークを配置している。Zマニプ
レータの第2支持体として作用する円形リング152に
3個の取付孔167を設ける。この取付孔はZマニプレ
ータの第1支持体の3個の円筒孔151に対応している
(第6a及び60図参照)。第8図に示す第1弾性ロッ
ド連結部材173の端部169.171を3対の取付孔
151.167に接着する。円形断面の第1連結部材1
730両端近くを局部的に細くして弾性枢着体175、
177を設ける。各連結部材の端部169.171をそ
れぞれの孔161.167に取付ける接着剤を縦導管1
83と横導管185とを通じて連結部材の接着面179
、181にそれぞれ加える。接着面179.181の区
域の直径より小さい直径を有する部分で横導管185は
開口するから、連結部材を取付孔に取付けた後に、接着
剤を接着面にひろげることができる。負荷を受けていな
いZマニプレータを取付けた状態で、3個の同一の第1
弾性連結部材173の中心線はZ軸線に直角な平面に対
し約75°の角度をなす。
Zマニプレータの負荷特性がほぼ直線状になるようこの
角度を選択する。Zマニプレータの第1支持体の内部1
09がこの支持体の外部部材107に対し回転軸線θの
周りに回転する際、第1連結部材173は弾性枢着体1
75.177の区域で変形する。第1連結部材173上
の点は螺旋通路に従って動く。
円形リング152の中心平面はZ軸線に対し直角のまま
である。内部部村109の回転方向に応じて、スポーク
157が同時に変形する間、リング152は上下に移動
する。舌片165が固着配置したリング159に取付け
られているから、リング152は回転軸線θの周りに回
転することはできない。Z方向の運動のため第1作動部
材によって内部部村109にトルクを作用させる方法を
次に一層詳細に説明し、同時にθマニプレータのための
同様の作動部材についても説明する。
第1支持体と、第1弾性連結部材と、第2支持体との組
合せに成る構造によっていわゆるトムリンソン素子を形
成する。既知のトムリンソン素子は第1支持体と第2支
持体との間の板ばね状の連結部材を有し、従って静的に
拘束される。円形断面の棒状連結部材を選択するから、
静的に拘束される構造が得られ、従って、特に温度の影
響、収縮及び衝撃に基因して、刻々変化する未知の応力
を生ぜしめない。
リング155は支持リング161 と共に、一方ではZ
マニプレータの環状第2支持体152に取付けられ、θ
マニプレータを構成する第3支持体に関連する内部部村
187に取付けられる。第3支持体は更に外部部材18
9を具え、弾性部材を介してこの外部部材189を内部
部村187に連結している。第4.7a及び7b図に示
す第3支持体の内部部村187と外部部材189とは、
金属板の厚さに貫通する多数の溝孔191.193.1
95.197.199.2(11,203,205を金
属板に設けることによって形成する。溝孔191〜19
7の配置パターンは溝孔199〜205の配置パターン
にほぼ等しい。これ等の両方のパターンはZ軸線に直角
に交わる中心線207に対しほぼ対称である。次に説明
する理由で内部部村187にも中心開口209を設ける
。溝孔191と193との間及び溝孔197と195と
の間に橋絡材料を残し枢着ロッドとして作用させる。例
えば、溝孔191と193との間に弾性枢着体213.
215を有するロッド211が得られ、溝孔197と1
95との間に弾性枢着体219.221を有するロッド
217が得られる。また溝孔199と201 との間及
び溝孔205と203との間に橋渡しの材料を残し枢着
ロッドとして作用させる。
例えば溝孔199と201 との間に弾性枢着体225
゜227を有するロッド223が得られ、溝孔205と
203との間に弾性枢着体231.233を有するロッ
ド229が得られる。ロッド211.229の中心線を
互いに一線にし、ロッド217.223の中心線を互い
に一線にし、これ等中心線をZ軸線に垂直に交差させる
またこれ等1対の一線をなすロッドの中心線を他の1対
の一線をなすロッドの中心線に垂直に交差させる。弾性
枢着体213.219.233.227及び弾性枢着体
215.221.231.225はZ軸線上に中心があ
る2個の同心円上に配置される。ロッド211.217
゜229及び223は合体して1個のロッド機構として
作用する。このロッド機構により、回転軸線θの周りに
、内部部村187に対し相対的に外部部材189を回転
し得るようにする。この場合、内部部村187を回転し
ないようロックして配置し、第4図につき更に詳細に説
明するθ運動のため、第2作動部材によってZ軸線の周
りのトルクを外部部材189に作用させることができる
。第1支持体と第3支持体とはその内部と外部とが僅か
に異なっているが、Zマニプレータの第1支持体のロッ
ド125.131.143.137 (第6a図参照)
に対応するロッド211.217.229.223 (
第7a図参照)に基因し、θマニプレータとして作用す
る第3支持体は第1支持体と原理的に同一に作用する。
このことは、Zマニプレータの第1作動部材が内部部村
109に連結されていると共に、θマニプレータの第2
作動部材が外部部材189に連結されているからである
。マニプレータとの作動部材の連結については第4図に
つき一層詳細に説明する。θマニプレータの外部部材1
89と内部部村187との間の回転軸線θの周りの相対
回転運動は内部部村187の突部230が外部部材18
9の凹所234の側壁232に衝合することによって限
定される。
第7a図から明らかなように、第3支持体の外部部材1
89に3対の孔235を設ける。この3対の孔235は
3個の第2弾性連結部材をねじにより第3支持体に取付
けるのに役立つ。第4図には3個の連結部材のうちの2
個のみを示すが、その長さは等しく連結部材237.2
39である。第4図に関連して第7a図の対をなす孔2
35の位置から第3連結部材の位置を定める。第9a及
び9b図につき一層詳細に説明する連結部材237は第
101及び10b図の連結部材239と僅かに相違して
おり、2個の試料を有している。連結部材237.23
9はθマニプレータとして作用する第3支持体の外部部
材189の孔235にねじ山で一端を取付けられ、物体
ホルダ241(第4図参照)に他端を接着している。連
結部材237.239と物体ホルダ241 とはそれぞ
れ第1図の連結部材23と物体ホルダ5とに対応する。
物体ホルダ241は矩形状のフレーム構造であり、例え
ば平坦な物体のための掛合面243を有し、可撓性ホー
ス245によって真空源に連結できる。Zマニプレータ
とθマニプレータとによるZ方向の並進運動とθ軸線の
周りの回転運動との他に、連結部材237.239は物
体ホルダ241を付加的に位置決めできる可能性がある
。この位置決めは、物体ホルダ241の傾動運動から成
り、X軸線に平行な軸線の周りの傾動運動と、Y軸線に
平行な軸線の周りの傾動運動とから成ると考えられる。
成る理由でZ軸線が掛合面243を含む平面に対し90
”からずれた角度をなす場合に、この傾動運動を利用し
て、掛合面243を含む平面を調整し、Z軸線に直角な
位置にすることができる。例えば、これに関連して、Z
マニプレータ又はθマニプレータにふける製造公差又は
取付公差に基因して、角度が変わることがある。また、
連結部材237.239は物体ホルダ241に高い機械
的な応力が発生するのを防止することができる。光学リ
トグラフ装置に使用する場合に物体ホルダ241の一部
又は全部をガラスで造ることがある。θマニプレータの
外部部材1890′金属と、物体ホルダとの膨張係数の
相違によって、このような応力が生ずる。連結部材23
7及び連結部材239(2個)を詳細にそれぞれ示す第
9a、 9b図及び第101及び1(111図を参照し
て3個の弾性連結部材237.239の二重の機能を説
明する。
第9図に示す連結部材237は上部取付ブロック247
と下部取付ブロック249とを具え、これ等ブロックを
板ばね251で相互に連結する。これ等ブロックと板ば
ねとは1個の金属片から成る一体構造である。下部取付
ブロック249に2個の溝孔253、255 (第9b
図参照)を設け、その結果、橋渡しの材料即ちP!絡材
料257を残し、板ばね251の平面に対し直角な枢着
軸線259を有する弾性枢着体として作用させる。連結
部材237に2個のねじ孔261を設け、このねじ孔に
より1対の孔235の一方を介してθマニプレータの外
部部材189に取付ブロック249を取付ける。上部取
付ブロック247を物体ホルダ241に接着する。
第10図に示す連結部材239は上部取付ブロック26
3と下部取付ブロック265とを具え、これ等ブロック
を板ばね267によって相互に連結する。ブロック26
3.265及び板ばね267によって金属から成る一体
構造を形成する。下部取付ブロック265に2個の溝孔
269.271(第10a図参照)と、これ等溝孔に直
角な他の2個の溝孔273.275 (第10b図参照
)とを設ける。4個の溝孔269〜275によって比較
的細長い橋絡材料277を残し、板ばね267の平面に
直角な第1枢着軸線279 と、板ばね267の平面に
平行な第2枢着軸線281とを有する二重弾性枢着体と
してこの橋絡材料277を作用させる。
枢着軸線271.281 (第10a及び10b図参照
)は互いに垂直に交差する。板ばね267の平面に平行
な第5溝孔283を下部取付ブロック265に設ける。
その結果、アーム285が得られ、これにより橋絡材料
277を枢着軸線281の周りに捩ることができる。
この捩りは板ばね267の下端に作用する曲げモーメン
トの作用を有する。従って板ばね267の下端はZ方向
に移動する。この移動は第2枢着軸線281を含み板ば
ねの平面に平行な平面と、板ばねの中心線を含み板ばね
の平面に平行な平面との間の距離であって第tob図に
Aで示した距離に比例する。アーム285にねじ孔28
7を設ける。ねじ孔287は取付ブロック265の支持
孔289に対し中心を占める。ねじ孔287にボルトを
ねじ込み、このボルトが支持孔289内に所定の力で掛
合するまでねじ込むと、溝孔283の幅を変化させるこ
とができるから、弾性枢着体として作用する橋絡材料2
77の変形の程度を変えることができる。下部取付はブ
ロック265に更に2個の対向して配置した溝291.
293を設け、この溝に板ばね295を支持する。板ば
ね295にプリストレスを加えることによって橋絡材料
277を変形させ、アーム285によってこの変形を拡
大する。従って板ばね267、上部取付ブロック263
及び物体ホルダ241の移動によって正負のZ方向の移
動が得られる。下部取付ブロックをZ方向に固着するも
のと仮定する。連結部材239にねじ孔297(第10
b図には1個のみ図示)を設け、このねじ孔297によ
って1対の孔235の一方を介してθマニプレータの外
部189に下部取付ブロック265を取付けることがで
きる。上部取付ブロック263を物体ホルダ241に接
着する。
連結部材237.239の板ばね251.267が中立
位置で垂直に位置する時、この板ばねの平面はX軸線上
に中心がある円の接線方向である。
調整自在の連結部材239のX軸線に平行な能動的な調
整に基因し、X軸線に平行な軸線の周りの物体ホルダ2
41の傾動が連結部材2390反対方向に向く調整によ
って得られると共に、Y軸線に平行な軸線の周りの傾動
が連結部材239の同一方向の調整によって得られる。
このY軸線に平行な傾動の軸線は連結部材237の板ば
ね251の平面に平行であると共に、X軸線に平行な傾
動の軸線は板ばね251の平面に直角である。3個の連
結部材以外のものによっては得られない調整によって物
体ホルダ241の過大な機械的応力を防止する。従って
、第2弾性連結部材237.239によってこの位置決
め装置のための付加的な調整の可能性を生ずる。
このことは後で一層詳細に説明するように光学リトグラ
フ装置にこの位置決め装置を使用する時特に有利である
Zマニプレータの第1作動部材と、θマニプレータの第
2作動部材とは原理的に同一種類のものであるが、順次
又は同時に作動させることができる。Z方向の運動と回
転運動とは互いに独立している。両方の作動部材を第4
図につき一層詳細に説明する。
第1作動部材によって、回転軸線θの周りのZマニプレ
ータの第1支持体の内部部村109の外部部材107に
対する相対的な回転が得られる。この第1作動部材は2
個の平行な板ばね299.301を有し、その平面はX
軸線に対し直角である。剛強連結ビーム303によって
板ばね299.301を互いに取付ける。Zマニプレー
タの第1支持体の内部部村109にねじによって板ばね
299を取付けると共に、橋絡材料305に板ばね30
1を取付ける。このビーム状の橋絡材料305を延在し
て、2個の板ばね(第4図には唯1個の板ばね307を
示す)のZ方向の軸線に平行な交線上に中心がある円の
接線方向にこの橋絡材料305を移動できるようにする
この板ばねは一端を橋絡材料305に取付け、他のビー
ム状の橋絡材料(図示せず)を介して他端を固定ビーム
309に取付ける。鎖線で第4図に示した既知の電動ア
クチュエータ311を使用し、移動できるコイル支持体
によってこの橋絡材料の中心線に平行な方向に橋絡材料
305に力を作用させる。
θマニプレータとして作用する第3支持体の外部部材1
89の回転運動であってこの支持体の内部部村187に
対する回転軸線θの周りの回転運動が第2作動部材によ
って1尋られる。この第2作動部材はX軸線に直角な平
面内にある2個の平行な板ばね313,315を有する
。剛強連結ビーム317によって板ばね313.315
を互いに取付ける。θマニプレータの第3支持体の外部
部材189にねじにより板ばね313を取付けると共に
、板ばね315を橋絡材料319に取付ける。ビーム状
の橋絡材料319を延在し、2個の板ばね321.32
3のX軸線に平行な交線上に中心がある円への接線の方
向にこの橋絡材料319を移動し得るようにする。これ
導板ばねの一端を橋絡材料319に取付け、他のビーム
状橋絡材料325を介して上記板ばねの他端をフレーム
(即ち固定ビーム)309に取付ける。ビーム状橋絡材
料305.319.425の中心線と、ビーム303.
317の中心線を互いに平行に配置する。アクチュエー
タ311 と同一の種類の電動アクチュエータ327を
使用して橋絡材料319にその中心線に平行に力を作用
させる。
両方の作動部材について、フレーム309に対する橋絡
材料305.319の捩りに対して強い連結と、内部部
村109と外部部材189とのこれ等橋絡材料との捩り
に対して弱い連結とに起因し、純粋のトルクのみがアク
チュエータ311.327によってこの部分に伝わる。
X軸線又はY軸線に平行な起り得る横方向の力はフレー
ム309に伝わるが、内部部村109と外部部材189
とには実質的に伝わらない。
このことは作動部材の重要な性質であり、これによりこ
の位置決め装置を光学IJ )グラフ装置に使用できる
ようにすることができる。光学リトグラフ装置ではレン
ズ系の光軸(X軸線)に対し横方向の力はできるだけ避
けなければならない。
第1.2.3.4.6.7,8.9.10図及び特に第
5図に示すように本発明位置決め装置はかかる光学す)
グラフ装置に使用することができる。
第5図に示す装置は集積回路の製造に使用でき、実際上
、Zマニプレータとθマニプレータとを有するステラプ
レピートオプティカルプロジェクションシステム(いわ
ゆるウェハステッパー)ヲ形成する。第5図に符号32
9で示したマニプレータは第4図に示す種類のもので、
Zマニプレータの第1支持体の固定配置した外部部材1
07に投映レンズ331を取付ける。これを第4図に鎖
線で示した。投映レンズ331(第5図参照)をそのレ
ンズホルダと共に対物レンズ板333に固着する。対物
レンズ板333は光学リトグラフ装置のフレーム335
の一部を形成する。非常に平坦なみかげ石板337と上
板339とによってフレーム335の一部を形成する。
みかげ石板337をX軸線に直角に水平平面内に延在し
て、調整自在の支持体341上に配置する。投映レンズ
331の光学軸線がX軸線に合致するようフレーム33
5を配置する。物体ホルダ241の掛合面243(第4
図参照)はこの場合マスク343(第5図参照)を支持
する。投映レンズ331の下に既知のX−Yキャリニジ
345(ヨーロッパ特許出願第109718−Al)を
配置し、みかげ石板337上にエアフット347を案内
する。繰返し露光すべき感光ラッカーを有する半導体基
材349をキャリニジ345上に配置する。投映レンズ
331 に対するキャリニジ345の多数の異なる位置
で基材349の露光が行われる。放物面鏡355を有す
る光源353を上板339の上方に配置する。鏡357
、ダイアフラム部359、鏡361及び集光レンズ36
3を通じて光線をマスク343まで案内する。投映レン
ズ331によって、基材349上にマスク343の像を
結ばせる。既知の焦点合せ装置(米国特許第43563
92)によってマスク343の映像を基材349上に結
ばせる。マスク343と基材349 とに例えばX、Y
格子のような2個の配列マークを設ける。これ等配列マ
ークはマスクを基材に対し合致させるのに使用される(
オランダ特許出願第8600639の配列装置367)
。この配列装置367はマスク及び基材上の配列マーク
の投映が互いに合致する時を検出し、X方向とY方向と
のキャリニジ345の水平移動がどれだけ大きいかを測
定装置351によって決定する。これ等のデータから、
基材に対するマスクの配列のために必要な角度Δθと、
正しい拡大を得るため必要なマスクとレンズとのZ方向
の相対並進運動とを計算する。この位置決め装置によっ
て、回転軸線θの周りに基材349に対してマスク34
3を回転し、完全な合致と、正しい拡大とが得られるま
でX軸線の方向に並進運動を行わせる。連結部材237
.239  (第4図参照)によってマスクと基材とが
予め平行に配置されているものと仮定する。上述した物
体ホルダ241の傾動によって、投映レンズの光学軸線
(Z軸線)に対し映像平面が直角であるように、基材に
対してマスクを傾ける。映像の歪を除去できるからこの
ことは重要である。上述の位置決め装置はミクロン以下
の非常に小さい範囲内での物体の非常に正確な操作に特
に適している。弾性変形に起因してすべての移動は遊び
なく行われるので、運動に摩擦がなく、ヒステリシスも
ない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明位置決め装置の第1実施例の線図的断面
図、 第2図は第2実施例の線図的断面図、 第3図は第3実施例の線図的断面図、 第4図は光学IJ )グラフ装置に使用して好適な第1
図の原理による本発明位置決め装置の斜視図、第5図は
本発明位置決め装置を具える光学リトグラフ装置の線図
的正面図、 第6a、 6b及び60図は第1及び4図の位置決め装
置のZマニプレータの第1支持体の平面図及び断面図、 第7a、 7b及び70図は第1及び4図の位置決め装
置のθマニプレータの一部の平面図及び断面図、第8a
及び8b図はZマニプレータの連結部材を示し、 第9a及び9b図はθマニプレータの連結部材を示し、 第10a及び10b図はθマニプレータの連結部材の他
の例を示す正面図である。 1・・・フレーム     3・・・円筒室5・・・物
体ホルダ    7・・・外側リング9・・・第1弾性
枢着体  11・・・内側リング13・・・第1作動部
材   15・・・円板17・・・環状ダイアフラム(
セパレータ)19・・・弾性ロッド連結部材 21・・・弾性枢着体    23・・・第2連結部材
25・・・内側リング    27・・・第2弾性枢着
体29・・・外側リング    31・・・第2作動部
材33、35.37・・・リング   39・・・アー
ム41・・・Zアクチユエータ 107・・・外部部材
109・・・内部部村 111、113.115.117.119.121・・
・溝孔117、119.121・・・切除部 123・・・中心線 125、131.137.143・・・ロッド127、
129.133.135.139.141.145.1
47・・・弾性枢着体 149・・・中心開口    151・・・円筒孔15
2・・・円形リンク153・・・セパレータ155、 
159・・・円形リング 157・・・スポーク161
・・・支持リング   163・・・凹所165・・・
舌片      167・・・取付孔169、171・
・・端部    173・・・第1連結部材175、1
77・・・弾性枢着体 179.181・・・接着面1
83・・・縦導管     185・・・横導管187
・・・内部部村    189・・・外部部材191、
193.195.197.199.201.203.2
05・・・溝孔207・・・中心線     209・
・・中心開口211、217・・・ロッド 213、215.219.221・・・弾性枢着体22
3、229・・・ロッド 225、227.231.233・・・弾性枢着体23
0・・・突部      234・・・凹所235・・
・孔       237.239・・・連結部材24
1・・・物体ホルダ   243・・・掛合面247、
263・・・上部取付ブロック257・・・橋絡材料 249、265・・・下部取付ブロック251、267
・・・板ばね   253.255・・・溝孔259・
・・枢着軸線 269、271.273.275・・・溝孔277・・
・橋絡材料    279・・・第1枢着軸線281・
・・第2枢着軸線  283・・・第5溝孔285・・
・アーム     287・・・ねじ孔289・・・支
持孔     291.293・・・溝295・・・板
ばね     297・・・ねじ孔299、301・・
・板ばね   303・・・剛強連結ビーム305・・
・橋絡材料    309・・・固定ビーム311・・
・電動アクチュエータ 313.315・・・板ばね   317・・・剛強連
結ビーム319・・・橋絡材料    321.323
・・・板ばね327・・・電動アクチュエータ 329・・・マニプレータ  331・・・投映レンズ
333・・・対物レンズ板335・・・フレーム337
・・・みかげ石板   339・・・上板341・・・
支持体     343・・・マスク345・・・X−
Yキャリニジ 347・・・エアフット349・・・半導体基材353
・・・光源      355・・・放物面鏡357・
・・鏡359・・・ダイアフラム部361・・・鏡36
3・・・集光レンズ367・・・配列装置

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 第1支持体と、この第1支持体に対し回転軸線の周
    りに回転し得る第2支持体とを有するZマニプレータを
    具え、前記支持体の一方に連結された直交座標(X,Y
    ,Z)のZ軸線方向に前記Zマニプレータによって実質
    的に摩擦がなくヒステリシスのない並進運動により移動
    できる物体ホルダを具え、前記直交座標のZ軸線方向に
    合致する回転軸線θの周りに前記物体ホルダを実質的に
    摩擦がなくヒステリシスがなく回転させるθマニプレー
    タを具え、前記第1支持体と前記第2支持体とを互いに
    取付ける第1弾性連結部材を設け、前記第1支持体と前
    記第2支持体との一方が前記直交座標(X,Y,Z)の
    Z軸線に沿う固定位置を占める位置決め装置において、
    前記Z軸線の方向に弾性的に変形できるセパレータであ
    って前記Zマニプレータを前記θマニプレータに連結す
    るセパレータを設け、前記Z軸線に沿う前記物体ホルダ
    の並進運動は行わせず前記回転軸線θの周りに前記物体
    ホルダを前記θマニプレータによって回転させると共に
    、前記第2支持体に対し前記第1支持体が相対的に回転
    運動をする際、前記第1弾性連結部材の弾性変形に起因
    して前記回転軸線θの周りの前記物体ホルダの回転運動
    は行わせず前記Z軸線の方向の前記物体ホルダの並進運
    動を行わせることを特徴とする位置決め装置。 2 中心が前記Z軸線上にあって前記Z軸線に直角方向
    に延在し前記θマニプレータに取付けた平坦リングを前
    記セパレータに設け、前記Zマニプレータの回転軸線の
    周りに前記θマニプレータの部分に対し相対的に前記平
    坦リングが回転しないよう前記位置決め装置の固着部分
    に前記平坦リングを連結する板ばねの形状の可撓性スポ
    ークを設けた特許請求の範囲第1項に記載の位置決め装
    置。 3 前記θマニプレータを前記Zマニプレータによって
    支持し、固着した外部部材と、前記Z軸線に対し直角な
    平面内でのみ変形し得る第1弾性枢着体によって前記外
    部部材に連結した内部部材とを前記Zマニプレータの前
    記第1支持体に設け、前記内部部材、前記外部部材及び
    前記第1弾性枢着体を単一の金属板で一体構造にし、前
    記第1弾性枢着体によって前記内部部材を前記第2支持
    体に連結し、前記内部部材を前記第1支持体の上方に配
    置すると共に、前記内部部材を前記セパレータによって
    前記第1支持体の前記外部部材に取付けると共に、前記
    第2支持体の上方に配置した第3支持体の内部部村に前
    記内部部材を取付け、前記物体ホルダに第2連結部材を
    通じて取付けた外部部材を前記第3支持体に設け、前記
    Z軸線に直角な平面内でのみ変形し得る第2弾性枢着体
    によって前記第3支持体の前記外部部材を関連する内部
    部材に連結し、前記θマニプレータとして作用する前記
    第3支持体を単一の金属板で一体構造として構成した特
    許請求の範囲第1項に記載の位置決め装置。 4 前記Zマニプレータの前記第1支持体と前記第2支
    持体との間の前記第1弾性連結部材を円形の円筒ロッド
    として構成し、この円筒ロッドの両端に弾性枢着体を設
    け、この両端を前記第1支持体と第2支持体との孔に取
    付け、前記Z軸線に平行で前記支持体に垂直な線に対し
    前記孔の中心軸線が鋭角をなす特許請求の範囲第1項に
    記載の位置決め装置。5 前記第3支持体と前記物体ホ
    ルダとの間の前記第2連結部材を弾性的に変形し得るよ
    う3個の板ばねで構成し、前記板ばねの平面に直角な軸
    線を有する第1弾性枢着体を前記板ばねに設け、前記板
    ばねの平面に平行でその中心線に垂直に交差する軸線を
    有する第2弾性枢着体を前記3個の板ばねのうちの2個
    の板ばねに付加的に設けた特許請求の範囲第3項に記載
    の位置決め装置。 6 前記Z軸線に沿う前記物体ホルダの並進運動を第1
    作動部材によって行い、前記回転軸線θの周りの前記物
    体ホルダの回転運動を第2作動部材によって行い、前記
    Z軸線に平行な線に沿って互いに交差する平面内にある
    2個の板ばねでこれ等作動部材を構成し、対をなすこれ
    等板ばねの互いに向き合う端部を固定フレームにクラン
    プし、互いに反対方向に向く端部を橋絡材料に取付け、
    前記Z軸線に平行な交線上に中心がある円の接線方向に
    前記橋絡材料が移動し得るようにし、前記Z軸線に直角
    な平面に互いに平行に取付けた2個の板によって前記回
    転軸線の周りに回転し得る前記Zマニプレータと前記θ
    マニプレータの部材に前記橋絡材料を連結した特許請求
    の範囲第1項に記載の位置決め装置。 7 前記物体ホルダにマスク支持体を設け、前記Zマニ
    プレータの前記第1支持体の前記外部部材に固着したレ
    ンズホルダ内に配置した光学投映レンズのZ軸線に合致
    する光学軸線に直角に掛合面を前記マスク支持体に設け
    、光源と、ダイアフラムと、収光レンズと、前記位置決
    め装置と、前記投映レンズと、X,Yテーブルとを投映
    の方向にこの順序で光学リトグラフ装置に設け、基材を
    繰返し露光するためX方向とY方向とに並進運動をする
    よう前記投映レンズの下に前記X,Yテーブルを配置し
    た特許請求の範囲第3項に記載の位置決め装置を具え集
    積回路の製造のための光学リトグラフ装置。
JP62068127A 1986-03-27 1987-03-24 位置決め装置 Pending JPS63107021A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8600785A NL8600785A (nl) 1986-03-27 1986-03-27 Positioneerinrichting met een z-manipulator en een o-manipulator.
NL8600785 1986-03-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63107021A true JPS63107021A (ja) 1988-05-12

Family

ID=19847782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62068127A Pending JPS63107021A (ja) 1986-03-27 1987-03-24 位置決め装置

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US (1) US4746800A (ja)
EP (1) EP0240058A1 (ja)
JP (1) JPS63107021A (ja)
NL (1) NL8600785A (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3623891A1 (de) * 1986-07-15 1988-01-28 Siemens Ag Anordnung zur genauen gegenseitigen ausrichtung einer maske und einer halbleiterscheibe in einem lithographiegeraet und verfahren zu ihrem betrieb
GB8808282D0 (en) * 1988-04-08 1988-05-11 Lk Tool Co Ltd Support assemblies
JP2623123B2 (ja) * 1988-08-17 1997-06-25 キヤノン株式会社 微動ステージ装置
NL9100421A (nl) * 1991-03-08 1992-10-01 Asm Lithography Bv Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.
US5835198A (en) * 1997-01-06 1998-11-10 Etec Systems, Inc. Articulated platform mechanism for laser pattern generation on a workpiece
US6089525A (en) * 1997-10-07 2000-07-18 Ultratech Stepper, Inc. Six axis active vibration isolation and payload reaction force compensation system
DE10257423A1 (de) 2002-12-09 2004-06-24 Europäisches Laboratorium für Molekularbiologie (EMBL) Mikroskop
WO2005015615A1 (ja) * 2003-08-07 2005-02-17 Nikon Corporation 露光方法及び露光装置、ステージ装置、並びにデバイス製造方法
CN107102518B (zh) * 2017-06-26 2018-11-13 中国科学技术大学 应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3684904A (en) * 1969-04-24 1972-08-15 Gennady Vasilievich Galutva Device for precision displacement of a solid body
US3887811A (en) * 1971-10-08 1975-06-03 Radiant Energy Systems Electro mechanical alignment apparatus for electron image projection systems
US3790155A (en) * 1972-07-17 1974-02-05 Radiant Energy Systems X-y table for vacuum systems
US3870416A (en) * 1974-01-09 1975-03-11 Bell Telephone Labor Inc Wafer alignment apparatus
JPS51111076A (en) * 1975-03-26 1976-10-01 Hitachi Ltd Exposure device
JPS51123565A (en) * 1975-04-21 1976-10-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Three-dimention-position differential adjustment of processing article
US4506154A (en) * 1982-10-22 1985-03-19 Scire Fredric E Planar biaxial micropositioning stage
US4516029A (en) * 1983-04-28 1985-05-07 Control Data Corporation E beam stage with below-stage X-Y drive
DE3317033A1 (de) * 1983-05-10 1984-04-19 Kodak Ag, 7000 Stuttgart Objektiveinstellvorrichtung fuer ein photographisches geraet
JPH0614789B2 (ja) * 1984-06-25 1994-02-23 株式会社東芝 テーブル微動方法およびこの方法を用いた微動装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0240058A1 (en) 1987-10-07
US4746800A (en) 1988-05-24
NL8600785A (nl) 1987-10-16

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