JPS6310579A - 半導体レ−ザ− - Google Patents

半導体レ−ザ−

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Publication number
JPS6310579A
JPS6310579A JP15397086A JP15397086A JPS6310579A JP S6310579 A JPS6310579 A JP S6310579A JP 15397086 A JP15397086 A JP 15397086A JP 15397086 A JP15397086 A JP 15397086A JP S6310579 A JPS6310579 A JP S6310579A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
waveguide
coherent
present
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP15397086A
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English (en)
Inventor
Akira Shimizu
明 清水
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS6310579A publication Critical patent/JPS6310579A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体レーザーに関し、特に2本のコヒーレン
トな光束(レーザー)を発生する簡単な構造の半導体レ
ーザーに関する。
(従来の技術及び問題点) 従来の単導体レーザーは、例えば第3図に示すような(
リッジ導波路型)構成をしており、導波路1により導か
れた光が図中の矢印のように互いに正反対の方向に光束
L1、L2として出射される。
このため、同方向に進む2本のコヒーレントな光束を得
るためには、第4図に示すようなハーフミラ−4等を用
いなければならず、複雑な外部光学系が必要であると共
に、それだけ装首が大きくなってしまうという問題点が
あった。また、第4図に示しであるように、片端面から
の光束(L2)は、無駄になってしまっていた。
また第3図に示すような導波路が微細な間隔をおいて平
行に並んでいる場合はそれらの導波路から出射される光
束はコヒーレントになるが、2つの導波路の間隔が数μ
以上になるとコヒーレントにはならず、数μj以以上孔
たコヒーレントな2本の光束を得るためにはやはり外部
光学系が必要であるいう問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み成されたものてあつ、その目
的は、簡単な構造であって2本のコヒーレントな光速を
出射することのできる半導体レーザーを提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の上記目的は、屈曲した形状の導波路を有してな
る半導体レーザーによって達成される。
本発明においで導波路とは、レーザー光が発生しかつレ
ーザー光が外部にほとんど漏れずに流れる光の閉じ込め
領域のことをいう。
本発明(こおいで、屈曲した形状とは任意の形状に白が
っている状態を意味する。しかし実際は、導波路及び周
辺の材質にもよるが、鋭角的に曲がった部分のある形状
は好ましくない。
第1図(a)は、リッジ型導波路を有する本発明の半導
体レーザーの一英施態様の模式図である。
この半導体レーザーにおいて導波路は活性層2内にあっ
てU字状のリッジ1の真下にあたる部分であり、U字状
に屈曲した形状であつ、導波路の端からは互いに平行な
光束口とし2が出射される。シ1とL2は同じ導波路か
ら出射されているからコヒーレトである。
第1図(b)(よ第1図(a)の半導体レーザーを上か
ら見た模式図であつ、図中に示すWは通常は60μj1
〜300μ)呈度であつDは50〜500μm程度であ
るが、これらは数百μから数mm程度でもLlとL2の
コヒーレンスをある程度保ち得る。
本発明の半導体レーザーは、第1図(a)、(b)のよ
うにU字状の導波路を形成するものに限らず、第2図(
a)のように導波路が弧状をなしでおつ光束[1とし2
が非平行方向に出射されるものであってもよい、また第
2図(b)や第2図(C)のように光束L1とL2がチ
ップの異なる面から出射されるものであってもよい、ま
た導波路が直線が折れ曲がったような形状をなしている
ものであってもよい。
本発明の適用は上記のようなリッジ型導波路を有するも
のに限られず、8Hレーザー、VSISレーザー、C8
Pレーザー、TJSレーザーのようなレーザー構造のも
のに対しても有効に適用できる。
本発明の半導体レーザーの導波路の形成は、従来の直線
状の導波路の形成と同様にウェット・エツチング、ドラ
イ・エツチング等によって成される。
〔実施例〕
以下に本発明の具体的実施例を挙げて、本発明を更に説
明する。
厚さ100μ履のn型GaAs基板の上に分子線エピタ
キシー法によりn−Alo、 3Gao、 eAsのク
ラッド層を2μl厚に、更にその上にGaAsの活性層
をO,Iu厚に同様にして設けた。更にその上にI)−
AIG、3 Gao、eAsのクラッド層を第5図に示
すようにツツジ部の厚さが1.5μで、その他の部分の
厚さが0.4μになるように設けた。このリッリ部は第
6図に上百図を示すように導波路の幅が5μmになるよ
うにして、R・90μ、直線部分の長さが10μnのU
字型になるように設けた。このクラッド層のU字形状部
の上にP−GaAsの電極形成層を厚さ0.5 u厚に
般け、その上と前記基板の下に金属製の電極18蒸着し
て本発明の1ノツジ型の半導体レーザーを作製した。
こうして得られたリッジ型の半導体レーザーを発振させ
て遠視野像を見ると、約180u+の間隔の2つのスリ
ットからの光の干渉縞と同様のものが観測された。
この半導体レーザーはホログラフィ−用の光源等として
使用される。
〔発明の幼果) 以上のように、本発明の半導体レーザーを使用すれば、
複雑な外部光学系を設けることなく2本のコヒーレント
な光束を得ることができるため、装璽の小型化が図れ、
また導波路から出る2本の光束を両方とも使用できるの
で経済的である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は本発明の半導体レーザーの模式図であり
、第1図(b)は第1図(a)の平面図であり、第2図
(a)、(b)、(c)は本発明の半導体レーザーの別
の態様の平面模式図であり、第3図は従来の半導体レー
ザーの模式図であり、第4図は従来の半導体レーザーに
よりコヒーレントな2本の光束を得るための外部光学系
等の模式図であり、第5図は本発明の半導体レーザーの
模式深てあつ、第6図はその上面図である。 ]、1ノツジ 2 活′注層 3:半導体レーザー 4:ハーフミラ− 08フー

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、屈曲した形状の導波路を有してなる半導体レー
    ザー。
  2. (2)、導波路がU字状をなしている特許請求の範囲第
    1項記載の半導体レーザー。
  3. (3)、導波路が弧状をなしている特許請求の範囲第1
    項記の半導体レーザー。
  4. (4)、導波路の光束を出射する2つの端部が、半導体
    チップの同一面にある特許請求の範囲第1項乃至第3項
    のいずれかに記載の半導体レーザー。
JP15397086A 1986-07-02 1986-07-02 半導体レ−ザ− Pending JPS6310579A (ja)

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JP15397086A Pending JPS6310579A (ja) 1986-07-02 1986-07-02 半導体レ−ザ−

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63165867U (ja) * 1987-04-17 1988-10-28
JP2012156335A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 半導体レーザ
JP2015122352A (ja) * 2013-12-20 2015-07-02 三菱電機株式会社 波長可変光源、波長可変光源モジュール、および光集積素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015122352A (ja) * 2013-12-20 2015-07-02 三菱電機株式会社 波長可変光源、波長可変光源モジュール、および光集積素子

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