JPS6310547A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS6310547A JPS6310547A JP15404286A JP15404286A JPS6310547A JP S6310547 A JPS6310547 A JP S6310547A JP 15404286 A JP15404286 A JP 15404286A JP 15404286 A JP15404286 A JP 15404286A JP S6310547 A JPS6310547 A JP S6310547A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- lead frame
- wires
- semiconductor
- moisture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 13
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 12
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 11
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 9
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 239000002991 molded plastic Substances 0.000 description 4
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N ammonium fluoride Chemical compound [NH4+].[F-] LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.O[Cr](O)(=O)=O WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- -1 that is Substances 0.000 description 1
- 238000009461 vacuum packaging Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチックパッケージ半導体装置に係り、
特に、耐湿性及び耐食性に優れたプラスチックパッケー
ジ半導体装置に関する。
特に、耐湿性及び耐食性に優れたプラスチックパッケー
ジ半導体装置に関する。
プラスチックパッケージ半導体のAfif!!極、AQ
配線の表面に保護皮膜を形成して腐食を防止する方法と
して1例えば、特開昭47−12864号公報に示され
るようにCr Oa +弗化アンモニア。
配線の表面に保護皮膜を形成して腐食を防止する方法と
して1例えば、特開昭47−12864号公報に示され
るようにCr Oa +弗化アンモニア。
リン酸水溶液からなるリン酸塩化成処理液中に浸漬し、
Au表面をリン酸処理する方法がある。また、特開昭5
0−23979号公報に示されるように、AQ配線に導
線をボンディングした後に、リン酸−クロム酸混合水溶
液に浸漬してAu表面に不働態皮膜を形成する方法があ
る。さらに、特開昭56−116634号公報に記載さ
れているように、ワイヤボンディング後の半導体装置を
高温高圧の水蒸気中に曝してAu表面に酸化膜を形成す
る方法がある。
Au表面をリン酸処理する方法がある。また、特開昭5
0−23979号公報に示されるように、AQ配線に導
線をボンディングした後に、リン酸−クロム酸混合水溶
液に浸漬してAu表面に不働態皮膜を形成する方法があ
る。さらに、特開昭56−116634号公報に記載さ
れているように、ワイヤボンディング後の半導体装置を
高温高圧の水蒸気中に曝してAu表面に酸化膜を形成す
る方法がある。
上記従来技術は、半導体構成材料の中でAQ配線及びA
l11il!極の防食を主眼としており、リードフレー
ム及びリードフレームと半導体素子を接続するワイヤの
防食については考慮されておらず、半導体全体の耐湿信
頼性の点で問題があった。
l11il!極の防食を主眼としており、リードフレー
ム及びリードフレームと半導体素子を接続するワイヤの
防食については考慮されておらず、半導体全体の耐湿信
頼性の点で問題があった。
特に、接続ワイヤが省資源の点から金線から銅線あるい
はアルミニウム線への代替化が進んでおり、この場合に
大きな問題となる。
はアルミニウム線への代替化が進んでおり、この場合に
大きな問題となる。
また、上記従来技術は、いずれもワイヤボンディングの
処理法であり、製造工程が増え、生産性が低下する点に
ついては配慮されていなかった。
処理法であり、製造工程が増え、生産性が低下する点に
ついては配慮されていなかった。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解消し、
経済的且つ耐湿信頼性に優れたプラスチックパッケージ
半導体を提供することにある。
経済的且つ耐湿信頼性に優れたプラスチックパッケージ
半導体を提供することにある。
上記した目的は、予め表面を防食処理すなわち表面保護
皮膜を形成しである半導体構成材料を用いて組立て、プ
ラスチックモールドすることにより達成される。すなわ
ち、AQ配線、電極の腐食には金属イオンの存在が悪影
響を及ぼし、特に、銅イオンの存在がAQの腐食を促進
する。これはリードフレーム、及び、チップとリードフ
レームを接触するワイヤがCuで構成される半導体では
大きな問題である。すなわち、モールドしたプラスチッ
クとリードフレーム界面から水分が侵入し。
皮膜を形成しである半導体構成材料を用いて組立て、プ
ラスチックモールドすることにより達成される。すなわ
ち、AQ配線、電極の腐食には金属イオンの存在が悪影
響を及ぼし、特に、銅イオンの存在がAQの腐食を促進
する。これはリードフレーム、及び、チップとリードフ
レームを接触するワイヤがCuで構成される半導体では
大きな問題である。すなわち、モールドしたプラスチッ
クとリードフレーム界面から水分が侵入し。
この水分によりリードフレーム及びワイヤの銅が腐食し
て水分中に銅イオンとして溶出し、これがワイヤとプラ
スチック界面を通ってチップのAQ電極に到達すると銅
イオンの存在により、AΩ電極の腐食が促進される。こ
れは防食処理をしたリードフレーム及びワイヤを用いる
ことにより解決できる。リードフレーム及びワイヤの防
食処理は表面に金属−有機物の化合物皮膜を形成する方
法が良い。
て水分中に銅イオンとして溶出し、これがワイヤとプラ
スチック界面を通ってチップのAQ電極に到達すると銅
イオンの存在により、AΩ電極の腐食が促進される。こ
れは防食処理をしたリードフレーム及びワイヤを用いる
ことにより解決できる。リードフレーム及びワイヤの防
食処理は表面に金属−有機物の化合物皮膜を形成する方
法が良い。
予め、半導体構成材料、すなわち、リードフレーム及び
ワイヤの表面に金属−有機物の化合物皮膜を形成したプ
ラスチックパッケージ半導体装置は耐湿信頼性に対し、
次のような作用をする。
ワイヤの表面に金属−有機物の化合物皮膜を形成したプ
ラスチックパッケージ半導体装置は耐湿信頼性に対し、
次のような作用をする。
すなわち、表面に金属・有機化合物が生成するため、こ
れに伴って表面の幾何学的形状が異なる。
れに伴って表面の幾何学的形状が異なる。
これにより半導体装置をプラスチックモールドした場合
のプラスチックとリードフレーム及びワイヤとの密着性
が向上し、半導体装置の内部への水分の侵入が防止され
る。
のプラスチックとリードフレーム及びワイヤとの密着性
が向上し、半導体装置の内部への水分の侵入が防止され
る。
一般に、密着性は同種類、あるいは、同系統のもの同士
を相互に接合する場合に優れている。従って、リードフ
レーム及びワイヤ表面に金属−有機物の化合物皮膜、す
なわち、有機物が存在することにより同じ有機物である
モールドプラスチックとの密着性が向上する。この結果
、半導体装置の内部への水分の侵入が阻止される。
を相互に接合する場合に優れている。従って、リードフ
レーム及びワイヤ表面に金属−有機物の化合物皮膜、す
なわち、有機物が存在することにより同じ有機物である
モールドプラスチックとの密着性が向上する。この結果
、半導体装置の内部への水分の侵入が阻止される。
この作用によりプラスチックパッケージ半導体のAQ配
線、電極の腐食はその表面に水分が存在しないと発生せ
ず、この作用によって水分の侵入を阻止することにより
耐湿信頼性が著しく改善される。
線、電極の腐食はその表面に水分が存在しないと発生せ
ず、この作用によって水分の侵入を阻止することにより
耐湿信頼性が著しく改善される。
予め、リードフレーム及びワイヤ表面に1分子中にN、
O,SR子を含む有機物と金属の化合物皮膜の作用は上
記のような、モールドプラスチックの密着性向上に加え
て次のような作用がある。
O,SR子を含む有機物と金属の化合物皮膜の作用は上
記のような、モールドプラスチックの密着性向上に加え
て次のような作用がある。
すなわち、素子上のAQ電極とリードフレームを接続す
る場合のワイヤのボンダビリティが良好なことである。
る場合のワイヤのボンダビリティが良好なことである。
金属−有機物化合物は例えば、Cuの融点(1083℃
)近辺、すなわち、1000℃以上の温度では化合物が
分解して金属−有機物から有機物が揮散して消失し、C
uが露出するために通常のワイヤボンディングのボンダ
ビリティが何の支障もなく得られる。これはリードワイ
ヤにAI2及びAI2合金を用いた場合でも同様である
。
)近辺、すなわち、1000℃以上の温度では化合物が
分解して金属−有機物から有機物が揮散して消失し、C
uが露出するために通常のワイヤボンディングのボンダ
ビリティが何の支障もなく得られる。これはリードワイ
ヤにAI2及びAI2合金を用いた場合でも同様である
。
リードフレームについても同じ作用があり、Cu。
42−alloy等の通常材料が同じ作用を示す。
しかし、従来提案されているようなリン酸塩処理、クロ
ム酸処理、高温高圧水蒸気処理などによる不1lI7!
!il皮膜形成などの無機物による被覆の場合は、その
融点が通常は処理前の金属より高くなるためにボンダビ
リティが損なわれる。
ム酸処理、高温高圧水蒸気処理などによる不1lI7!
!il皮膜形成などの無機物による被覆の場合は、その
融点が通常は処理前の金属より高くなるためにボンダビ
リティが損なわれる。
さらに、半導体構成材料のリードフレーム及びワイヤ表
面に予め、金属−有機物皮膜を形成しておくことは、こ
れらの材料の保管性を著しく高める作用をする。すなわ
ち、金属−有機物化合物は大気中の酸素に対する活性度
が著しく小さいために酸化、変色などからの保護作用が
、さらに水分に対しても安定であるために腐食保護作用
が優れている。このため、真空パック、あるいは、Ar
などの不活性ガス中への封入保管などが不用になる。
面に予め、金属−有機物皮膜を形成しておくことは、こ
れらの材料の保管性を著しく高める作用をする。すなわ
ち、金属−有機物化合物は大気中の酸素に対する活性度
が著しく小さいために酸化、変色などからの保護作用が
、さらに水分に対しても安定であるために腐食保護作用
が優れている。このため、真空パック、あるいは、Ar
などの不活性ガス中への封入保管などが不用になる。
この作用は、有機物の分子中にN、s、oの少なくとも
一種を含有する有機化合物により達成される。これらは
その原子の孤独電子対により金属と強固に結合し、安定
な高分子状の化合物を形成し、金属に対する被覆力が大
きい作用をする。
一種を含有する有機化合物により達成される。これらは
その原子の孤独電子対により金属と強固に結合し、安定
な高分子状の化合物を形成し、金属に対する被覆力が大
きい作用をする。
以下、本発明の詳細な説明する。
〔実施例1〕
CuリードフレームおよびCuリードワイヤを。
ベンゾトリアゾール(CaHsNa ) 、ドデシルメ
ルカプタン(CztHzsSH)、あるいは、プロパル
ギルアルコール(Ca Ha OH)が0.1mofl
/Ωの濃度に溶解しているエチルアルコール中に50℃
で一分間浸漬し、フレームとワイヤ表面に保護皮膜を形
成させた。そして、この処理したフレームに、処理済の
ワイヤをボンディングし、そのボンダビリティを試験し
た。さらに、処理したフレームとシリコンペレットとを
、処理済のワイヤでボンディングしたものを、樹脂封止
した半導体装置について、120℃の飽和水蒸気中で耐
湿信頼性を試験し、断線不良発生時間を測定した。
ルカプタン(CztHzsSH)、あるいは、プロパル
ギルアルコール(Ca Ha OH)が0.1mofl
/Ωの濃度に溶解しているエチルアルコール中に50℃
で一分間浸漬し、フレームとワイヤ表面に保護皮膜を形
成させた。そして、この処理したフレームに、処理済の
ワイヤをボンディングし、そのボンダビリティを試験し
た。さらに、処理したフレームとシリコンペレットとを
、処理済のワイヤでボンディングしたものを、樹脂封止
した半導体装置について、120℃の飽和水蒸気中で耐
湿信頼性を試験し、断線不良発生時間を測定した。
その結果を1表−1に示す。
表−1
(0良好、x不良)
表−1から明らかなように1本発明のN、S。
0を含む有機物で処理したリードフレームとワイヤとの
ボンダビリティも良好で、また、腐食による断線不良も
発生しにくい、一方、比較例−d”ibる。
ボンダビリティも良好で、また、腐食による断線不良も
発生しにくい、一方、比較例−d”ibる。
無機物のHa P O4で処理したものや処理していな
いものは、各々ボンダビリティ、耐湿性が不良である。
いものは、各々ボンダビリティ、耐湿性が不良である。
従って、本発明になる有機物で処理し、表面に金属−有
機物化合物膜を形成させたリードフレームとリードワイ
ヤを用いれば、半導体装置のボンディング性および耐湿
信頼性が向上する。
機物化合物膜を形成させたリードフレームとリードワイ
ヤを用いれば、半導体装置のボンディング性および耐湿
信頼性が向上する。
本発明によれば、リードフレーム及びワイヤとモールド
するプラスチックとの密着性を高めて。
するプラスチックとの密着性を高めて。
外部から半導体装置内部への水分の侵入を阻止できるの
で、耐湿性に優れた半導体装置ができる。
で、耐湿性に優れた半導体装置ができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、表面に金属と有機物との化合物からなる保護皮膜を
形成させたリードフレームおよびリードワイヤからなる
ことを特徴とする半導体装置。 2、前記金属と前記有機物との化合物は、水に難溶性の
物質であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半導体装置。 3、前記有機物は、その分子中にN、O、S原子のうち
、少なくとも一種類の原子を含む有機物であることを特
徴とする特許請求の範囲第2項記載の半導体装置。 4、前記金属と前記有機物との化合物の形成は、前記有
機物を溶解した非水溶媒と前記金属とを接触することに
より形成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15404286A JPS6310547A (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15404286A JPS6310547A (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6310547A true JPS6310547A (ja) | 1988-01-18 |
Family
ID=15575648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15404286A Pending JPS6310547A (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6310547A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6822319B1 (en) * | 2002-05-07 | 2004-11-23 | Qpl Limited | Leadframe for enhanced downbond registration during automatic wire bond process |
JP2007258490A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リード、リードの製造方法、パッケージ部品、パッケージ部品の製造方法、半導体装置 |
SG140446A1 (en) * | 2003-07-11 | 2008-03-28 | Qpl Ltd | Leadframe for enhanced downbond registration during automatic wire bond process |
-
1986
- 1986-07-02 JP JP15404286A patent/JPS6310547A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6822319B1 (en) * | 2002-05-07 | 2004-11-23 | Qpl Limited | Leadframe for enhanced downbond registration during automatic wire bond process |
SG140446A1 (en) * | 2003-07-11 | 2008-03-28 | Qpl Ltd | Leadframe for enhanced downbond registration during automatic wire bond process |
JP2007258490A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リード、リードの製造方法、パッケージ部品、パッケージ部品の製造方法、半導体装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR900007303B1 (ko) | 수지봉지형 반도체장치 | |
US6933614B2 (en) | Integrated circuit die having a copper contact and method therefor | |
US4521469A (en) | Casing for electronic components | |
US4946518A (en) | Method for improving the adhesion of a plastic encapsulant to copper containing leadframes | |
US4582556A (en) | Adhesion primers for encapsulating epoxies | |
JPS62145758A (ja) | パラジウムを用いる銅製ボンデイングパツドの酸化防止法 | |
KR20130121971A (ko) | 금속 리드프레임을 위한 접착 촉진 조성물 | |
JPS6310547A (ja) | 半導体装置 | |
JPS58199543A (ja) | 半導体装置のパツケ−ジ | |
US3621563A (en) | Method of treating junction diodes to prevent temperature-voltage degradation | |
JPS63266844A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0478173B2 (ja) | ||
JP2892055B2 (ja) | 樹脂封止型半導体素子 | |
US20200402900A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor devices and corresponding semiconductor device | |
JPS5847853B2 (ja) | デンシブヒンドウタイノボウシヨクホウホウ | |
JPH0546978B2 (ja) | ||
JPH0451060B2 (ja) | ||
JPS58100448A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS5815938B2 (ja) | ハンドウタイソウチノ アルミニウムハイセンノ ホゴマクケイセイホウ | |
JPS62196859A (ja) | 半導体装置の半田処理方法 | |
JPS59188928A (ja) | 半導体装置の外装処理方法 | |
JPS6038849A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
Nowacki et al. | Possibilities for Counteracting the Production of Defects in Semiconductor Devices Encased in Synthetic Materials | |
JPH04215463A (ja) | ガラス封止パッケージ端子へのメッキ方法 | |
Nowacki et al. | FOREIGN TECHNOLOGY DIVISION |