JPS6310487A - 横置型処理炉における半導体プロセス用コイルヒータ - Google Patents
横置型処理炉における半導体プロセス用コイルヒータInfo
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- JPS6310487A JPS6310487A JP15169586A JP15169586A JPS6310487A JP S6310487 A JPS6310487 A JP S6310487A JP 15169586 A JP15169586 A JP 15169586A JP 15169586 A JP15169586 A JP 15169586A JP S6310487 A JPS6310487 A JP S6310487A
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- Resistance Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は、半導体ウェハの酸化、拡散処理やホード法に
よる単結晶成長やGaAsエピタキシャル結晶成長等の
各種半導体及び化合物半導体プロセスにおいて、ウェハ
等のワークを収容した処理炉のまわりに捲回される半導
体プロセス用コイルヒータの改良に関する。
よる単結晶成長やGaAsエピタキシャル結晶成長等の
各種半導体及び化合物半導体プロセスにおいて、ウェハ
等のワークを収容した処理炉のまわりに捲回される半導
体プロセス用コイルヒータの改良に関する。
(発明の技術的背景とその問題点)
この種のコイルヒータとしては、例えば、直径が6mm
〜12mmのヒータ素線に断熱材を被覆してスパイラル
状に一定方向に捲回した構造のものが一般に使用されて
いる。
〜12mmのヒータ素線に断熱材を被覆してスパイラル
状に一定方向に捲回した構造のものが一般に使用されて
いる。
第7図及び第8図には、この−例を示してあり、内部に
ワークWを収容した横置型の処理炉50のまわりに円形
状に捲回したコイルヒータ51を炉体52に配設してな
るものである。
ワークWを収容した横置型の処理炉50のまわりに円形
状に捲回したコイルヒータ51を炉体52に配設してな
るものである。
当該コイルヒータ51は第8図のように、例えば、右巻
きで炉軸x−x’方向に捲回され両端部に所定の電圧を
印加して、抵抗加熱により所要の加熱温度を処理炉に付
与する構成となっている。
きで炉軸x−x’方向に捲回され両端部に所定の電圧を
印加して、抵抗加熱により所要の加熱温度を処理炉に付
与する構成となっている。
そして、コイルヒータを用いて炉の温度設定を行なうと
き、炉軸方向に均熱のフラットゾーンを長くとる場合、
コイルヒータを3ゾーンから6ゾーンなどに、いわゆる
ゾーン分割して、各ゾーンの温度を適宜設定し、これを
合成して均一なフラットゾーンを得る。特にこの場合、
炉の両端部は中央に比して冷え易いので、エンドゾーン
のコイルヒータの設定温度を中央より若干高くなるよう
に温度勾配を設定し、結果として長い均一なフラットゾ
ーンを得るように制御する。
き、炉軸方向に均熱のフラットゾーンを長くとる場合、
コイルヒータを3ゾーンから6ゾーンなどに、いわゆる
ゾーン分割して、各ゾーンの温度を適宜設定し、これを
合成して均一なフラットゾーンを得る。特にこの場合、
炉の両端部は中央に比して冷え易いので、エンドゾーン
のコイルヒータの設定温度を中央より若干高くなるよう
に温度勾配を設定し、結果として長い均一なフラットゾ
ーンを得るように制御する。
又、処理すべきワークによっては、ゾーンの一部に、例
えば、第9図に示すような温度勾配が生じるようにコイ
ルヒータの温度制御を行なう場合もある。
えば、第9図に示すような温度勾配が生じるようにコイ
ルヒータの温度制御を行なう場合もある。
いずれにしても、かかる半導体プロセス用のコイルヒー
タでは、炉軸方向に沿って何らかの温度勾配を設定して
使用することが通常である。
タでは、炉軸方向に沿って何らかの温度勾配を設定して
使用することが通常である。
そして、炉軸方向の温度制御が精度良くなされることが
望まれるが、他方、同一の横断面位置。
望まれるが、他方、同一の横断面位置。
すなわち、炉軸に直角のラジアル面内においては、炉心
Pを通る横断方向Y−Y’(第7図)に沿って均一な温
度となることが望ましい、いわゆる断面均熱が求められ
るのである。
Pを通る横断方向Y−Y’(第7図)に沿って均一な温
度となることが望ましい、いわゆる断面均熱が求められ
るのである。
特に、単結晶成長の場合には、かかる均熱性の良否が品
質に大きな影響を与えるものである。
質に大きな影響を与えるものである。
ところが、スパイラル状コイルヒータを用いた場合には
、実際上、炉の前後で温度差が生じ、横断方向Y−Y’
について1例えば、第7図に破線Qで示すような温度勾
配が生じ、断面均熱性が得られない問題があった。実例
をあげれば、温度傾斜1度(C)/cm(1250度(
C)時)で断面の前後の温度差は、1.5度(C)にも
達することが見出された。
、実際上、炉の前後で温度差が生じ、横断方向Y−Y’
について1例えば、第7図に破線Qで示すような温度勾
配が生じ、断面均熱性が得られない問題があった。実例
をあげれば、温度傾斜1度(C)/cm(1250度(
C)時)で断面の前後の温度差は、1.5度(C)にも
達することが見出された。
このような断面の前後で温度差の生じる原因を検討する
に、例えば、第7図及び第8図に示す右巻きスパイラル
状コイルヒータについて、第9図のごとく炉軸方向に沿
って下降する温度勾配が設定されている場合を例にとる
と、横断方向Y−Y′を境とし当該ヒータ巻線の上半部
51a(第10図(a))と下半部51b(第10図(
b))が横断方向Y−Y’の位置について寄与する加熱
効果を考察する。
に、例えば、第7図及び第8図に示す右巻きスパイラル
状コイルヒータについて、第9図のごとく炉軸方向に沿
って下降する温度勾配が設定されている場合を例にとる
と、横断方向Y−Y′を境とし当該ヒータ巻線の上半部
51a(第10図(a))と下半部51b(第10図(
b))が横断方向Y−Y’の位置について寄与する加熱
効果を考察する。
第10図(L)、(b)は各ヒータ巻線を上方より見た
態様で示してあり、従って、巻線の上半部51aと下半
部51bの傾斜方向は丁度逆になっているとともに巻線
の巻方向は図において実線の矢印で示した通りである。
態様で示してあり、従って、巻線の上半部51aと下半
部51bの傾斜方向は丁度逆になっているとともに巻線
の巻方向は図において実線の矢印で示した通りである。
温度勾配はコイルの巻線の進行方向に沿って下降する設
定であるから、当該コイルヒータ51の温度は炉軸方向
x−x”に沿って下降し、各巻線の周囲のほぼ同一の温
度分布を示す領域、すなわち、ホットエリア53は炉軸
方向に沿って小さくなると考えられる。
定であるから、当該コイルヒータ51の温度は炉軸方向
x−x”に沿って下降し、各巻線の周囲のほぼ同一の温
度分布を示す領域、すなわち、ホットエリア53は炉軸
方向に沿って小さくなると考えられる。
従って1巻線の上半分51aでは、第10図(a)の上
側、すなわち炉の後側54の温度が高くなり、他方1巻
線の下半分51bについては逆に第1θ図(b)の下側
、すなわち炉の前側の温度が高くなると考えられる。
側、すなわち炉の後側54の温度が高くなり、他方1巻
線の下半分51bについては逆に第1θ図(b)の下側
、すなわち炉の前側の温度が高くなると考えられる。
そして、上下の巻線部の加熱効果を合せると、各横断面
について炉の前後の温度偏位が互いに補正され平均化し
て断面均熱が得られると考えられる。
について炉の前後の温度偏位が互いに補正され平均化し
て断面均熱が得られると考えられる。
ところが、実際には、熱は常に上方へ逃る性質があるた
め、その横断方向Y−Y’の断面に関して寄与する加熱
効果は、下半部51bと上半部51aとでは、6:4な
いし7:3の比率になり、下半部分の巻線部51bが大
となることが認められた。
め、その横断方向Y−Y’の断面に関して寄与する加熱
効果は、下半部51bと上半部51aとでは、6:4な
いし7:3の比率になり、下半部分の巻線部51bが大
となることが認められた。
このため、第10図(b)で示す下半部の巻線部51b
の温度効果が横断方向Y−Y’につぃて、より多く影響
し、実際上は炉の前側55の温度が後側54より高くな
り、これがために第7図に破線で示すごとき温度勾配が
生ずることがわかった。
の温度効果が横断方向Y−Y’につぃて、より多く影響
し、実際上は炉の前側55の温度が後側54より高くな
り、これがために第7図に破線で示すごとき温度勾配が
生ずることがわかった。
なお、このようにスパイラル状のコイルヒータを使用す
ると炉の前後で熱の偏りが生じること自体は、製作現場
で経験的に知られており、かかる温度勾配を極力回避す
るために、例えば、炉体52の天井部の放熱窓56を炉
心Pを通る縦軸z−z’に沿った実線位置より鎖線で示
すようにオフセー、トさせるなど工夫したものが見られ
るが、均熱性について未だ充分な効果をあげるに至って
いない。
ると炉の前後で熱の偏りが生じること自体は、製作現場
で経験的に知られており、かかる温度勾配を極力回避す
るために、例えば、炉体52の天井部の放熱窓56を炉
心Pを通る縦軸z−z’に沿った実線位置より鎖線で示
すようにオフセー、トさせるなど工夫したものが見られ
るが、均熱性について未だ充分な効果をあげるに至って
いない。
上述のように、スパイラル状コイルヒータの場合には、
各ヒータ巻線が炉軸に対して直角のラジアル面に合致し
ていないために、実際上、炉の前後の温度差が避けらな
いので、これを解消するものとして第11図に示すごと
く、Uターン型千行ヒータが提案されている。
各ヒータ巻線が炉軸に対して直角のラジアル面に合致し
ていないために、実際上、炉の前後の温度差が避けらな
いので、これを解消するものとして第11図に示すごと
く、Uターン型千行ヒータが提案されている。
当該ヒータ60は、その各巻線61を中心軸線x−x’
に対して直角のラジアル面に沿って互いに平行に配し、
折返し部62で隣接する巻線61をUターンさせて順次
連接した構成としたものである。
に対して直角のラジアル面に沿って互いに平行に配し、
折返し部62で隣接する巻線61をUターンさせて順次
連接した構成としたものである。
そして、当該ヒータ60の折返し部62は、一般に第1
2図(L)に示すごとく曲げ加工でU字形に一体に形成
するか、あるいは第12図(b)に示すごとく溶接部6
3で連結して形成するが、前者にあっては、曲げ加工が
難しいとともにスプリングバックによる加工後の形状の
不安定が大であり、又、後者にあっては、溶接作業が面
倒であるとともに溶接部の不安定さが避けらない。
2図(L)に示すごとく曲げ加工でU字形に一体に形成
するか、あるいは第12図(b)に示すごとく溶接部6
3で連結して形成するが、前者にあっては、曲げ加工が
難しいとともにスプリングバックによる加工後の形状の
不安定が大であり、又、後者にあっては、溶接作業が面
倒であるとともに溶接部の不安定さが避けらない。
しかも、いずれにおいても、この構造では基本的にいっ
て各巻線が閉断面を形成せず、軸方向に間隙64が残さ
れて、いわゆるオープエンドの構造となるので、熱変形
や座屈などの形状の不安定や強度上の欠陥を生じ易く、
これがヒータの性能や寿命を損なう問題があった。
て各巻線が閉断面を形成せず、軸方向に間隙64が残さ
れて、いわゆるオープエンドの構造となるので、熱変形
や座屈などの形状の不安定や強度上の欠陥を生じ易く、
これがヒータの性能や寿命を損なう問題があった。
(発明の目的)
本発明は、上記従来の諸事情にかんがみなされたもので
、その目的は、従来の欠点を解消し、製作が容易で強度
も充分に得られ、しかも、半導体プロセス用として使用
して高精度の断面均熱性を得ることができる新規な半導
体プロセス用コイルヒータを提供するにある。
、その目的は、従来の欠点を解消し、製作が容易で強度
も充分に得られ、しかも、半導体プロセス用として使用
して高精度の断面均熱性を得ることができる新規な半導
体プロセス用コイルヒータを提供するにある。
(発明の概要)
上記本発明の目的を達成するために、本発明においては
基本的にいって、 処理炉のまわりに捲回される半導体プロセス用コイルヒ
ータであって、 各ヒータ巻線についてその角度範囲の一部を除いて当該
ヒータの中心軸線に対して直角をなすラジアル面に沿い
互いに平行に離間配置された平行部と、前記角度範囲の
一部において当該平行部の一方の端部から折曲して前記
ラジアル面に対し傾斜して延出した傾斜部とを各ヒータ
巻線に形成し。
基本的にいって、 処理炉のまわりに捲回される半導体プロセス用コイルヒ
ータであって、 各ヒータ巻線についてその角度範囲の一部を除いて当該
ヒータの中心軸線に対して直角をなすラジアル面に沿い
互いに平行に離間配置された平行部と、前記角度範囲の
一部において当該平行部の一方の端部から折曲して前記
ラジアル面に対し傾斜して延出した傾斜部とを各ヒータ
巻線に形成し。
当該各ヒータ巻線の傾斜部の延出端を隣接するヒータ巻
線の平行部の他方の端部に折曲して連接してなる構成の
半導体プロセス用コイルヒータを提案するものである。
線の平行部の他方の端部に折曲して連接してなる構成の
半導体プロセス用コイルヒータを提案するものである。
上記本発明の構成によれば、コイルヒータの各巻線は、
その角度箱゛囲の大部分がラジアル面に沿う平行部とし
て構成されるので、従来のスパイラル状コイルヒータに
おける不具合を解消でき、しかも従来のUターン型千行
ヒータと異なり閉断面を維持するので、熱変形等にも充
分な強度を発揮し、又その傾斜部の形成は簡単な曲げ加
工ですむので、製作も容易で加工後もその形状を安定し
て保持できるものである。
その角度箱゛囲の大部分がラジアル面に沿う平行部とし
て構成されるので、従来のスパイラル状コイルヒータに
おける不具合を解消でき、しかも従来のUターン型千行
ヒータと異なり閉断面を維持するので、熱変形等にも充
分な強度を発揮し、又その傾斜部の形成は簡単な曲げ加
工ですむので、製作も容易で加工後もその形状を安定し
て保持できるものである。
更に、本発明のコイルヒータの傾斜部を横置型処理炉の
天井部に対応させて位置づければ、当該傾斜部は加熱効
果に重要な役割をもつ炉の下半部分に位置しないことは
勿論、ワークに対してもっとも熱影響の少ない天井部に
位置するので、断面均熱性に優れたコイルヒータを提供
でき、上記本発明の目的を充分に達成するものである。
天井部に対応させて位置づければ、当該傾斜部は加熱効
果に重要な役割をもつ炉の下半部分に位置しないことは
勿論、ワークに対してもっとも熱影響の少ない天井部に
位置するので、断面均熱性に優れたコイルヒータを提供
でき、上記本発明の目的を充分に達成するものである。
以下図面第1図ないし第6図を参照して本発明の詳細な
説明する。
説明する。
(発明の実施例)
第1図は、本発明の第1の実施例として、半導体プロセ
ス用コイルヒータlの基本的構成を示すものである。
ス用コイルヒータlの基本的構成を示すものである。
当該コイルヒータlにおいては、円形状をなす各ヒータ
巻線2をコイルの中心軸線x−x’に対して直角をなす
ラジアル面に沿い互いに平行に離間配置した平行部2a
と、軸線x−x’を中心とする円形の角度範囲の一部に
設けた傾斜部2bとより構成し、この傾斜部2bによっ
て隣接するヒータ巻線2どうしを互いに連接して一体に
構成したものである。傾斜部2bは、平行部2aの一方
の端部3から折曲してラジアル面に対し傾斜した状態で
延出し、その延出端が隣接する他のヒータ巻線2の平行
部2aの他方の端部4に折曲して連接する構成で、この
構成を各ヒータ巻線2につき順次繰り返して横断面が閉
断面をなすコイルヒータが形成される。
巻線2をコイルの中心軸線x−x’に対して直角をなす
ラジアル面に沿い互いに平行に離間配置した平行部2a
と、軸線x−x’を中心とする円形の角度範囲の一部に
設けた傾斜部2bとより構成し、この傾斜部2bによっ
て隣接するヒータ巻線2どうしを互いに連接して一体に
構成したものである。傾斜部2bは、平行部2aの一方
の端部3から折曲してラジアル面に対し傾斜した状態で
延出し、その延出端が隣接する他のヒータ巻線2の平行
部2aの他方の端部4に折曲して連接する構成で、この
構成を各ヒータ巻線2につき順次繰り返して横断面が閉
断面をなすコイルヒータが形成される。
そして、第2図に示すごとく、当該コイルヒータ1を、
その中心軸線が処理炉5の炉軸x−x’に合致した状態
で炉のまわりに捲回して配設し、その両端部のターミナ
ル6.6を介して当該ヒータ1に所定の電圧を印加して
、炉5を抵抗加熱により温度制御する構成である。
その中心軸線が処理炉5の炉軸x−x’に合致した状態
で炉のまわりに捲回して配設し、その両端部のターミナ
ル6.6を介して当該ヒータ1に所定の電圧を印加して
、炉5を抵抗加熱により温度制御する構成である。
第2図は、横置型の処理炉5の上面より見たもので、各
ヒータ巻線2の傾斜部2bは、ラジアル面に対して傾斜
するとともに互いに平行になっていて、相互に干渉し合
うことない、そして、各傾斜部は、処理炉5の天井部5
aに対応するように位置づけられる。すなわち、第3図
で示すように傾斜部2bは、炉5の天井部5aに対応し
て位置づけられる。そして、当該傾斜部2bが炉心Pを
中心として占める角度範囲は、約35度〜45度の狭い
範囲に設定する。
ヒータ巻線2の傾斜部2bは、ラジアル面に対して傾斜
するとともに互いに平行になっていて、相互に干渉し合
うことない、そして、各傾斜部は、処理炉5の天井部5
aに対応するように位置づけられる。すなわち、第3図
で示すように傾斜部2bは、炉5の天井部5aに対応し
て位置づけられる。そして、当該傾斜部2bが炉心Pを
中心として占める角度範囲は、約35度〜45度の狭い
範囲に設定する。
従って、炉5の横断面について、傾斜部2bは、横断方
向Y−Y’を境として、その下半部7、すなわち、炉5
内に収容されたワークWに対し熱影響が大である領域は
勿論のこと、それより影響の小さい上半部8の大部分も
平行部2aが占め、最もワークWに対する熱影響の少な
い天井部5aに対応して配置したので、スパイラル状コ
イルヒータに比して炉内の横断方向の均熱性を著しく改
善することができる。
向Y−Y’を境として、その下半部7、すなわち、炉5
内に収容されたワークWに対し熱影響が大である領域は
勿論のこと、それより影響の小さい上半部8の大部分も
平行部2aが占め、最もワークWに対する熱影響の少な
い天井部5aに対応して配置したので、スパイラル状コ
イルヒータに比して炉内の横断方向の均熱性を著しく改
善することができる。
上記構成のコイルヒータlを製作するには、第4図に示
すようにラジアル面に沿って平行にコイルガイド溝10
aを外周に設けた円筒状の金属製マンドレル10を用い
、そのガイド溝10aに沿ってコイルヒータの巻線2を
捲回して平行部2aを形成し、次いでマンドレル10の
外周に周方向に間隔をおいて立設させた一対のビン11
.12をガイドとして、ここで折曲して傾斜部2bを形
成し、これを破線の矢印で示すように順次繰り返すこと
により、コイルヒータ1が製作される。
すようにラジアル面に沿って平行にコイルガイド溝10
aを外周に設けた円筒状の金属製マンドレル10を用い
、そのガイド溝10aに沿ってコイルヒータの巻線2を
捲回して平行部2aを形成し、次いでマンドレル10の
外周に周方向に間隔をおいて立設させた一対のビン11
.12をガイドとして、ここで折曲して傾斜部2bを形
成し、これを破線の矢印で示すように順次繰り返すこと
により、コイルヒータ1が製作される。
従って、ここでは、ビン11.12の部分で曲げ加工が
加わるが、この曲げ角度は、従来のUターン型千行ヒー
タに比して極めて小さく、加工作業が容易であり、又加
工後のスプリングバックも少ないので、形状の安定性が
保たれる。
加わるが、この曲げ角度は、従来のUターン型千行ヒー
タに比して極めて小さく、加工作業が容易であり、又加
工後のスプリングバックも少ないので、形状の安定性が
保たれる。
前記のビン11.12は、例えば、第5図に示すように
、マンドレル10内壁に設けたガイドレール状のホルダ
ー13に対して、マグネットプレート14をスライド自
在に装着して、そのプレート14でビン内端部を吸着し
て受けることにより、突設状態に保持し、コイルヒータ
lの加工作業終了後には、当該マグネットプレート14
をホルダー13のレール部分に沿いスライドさせて抜き
出して、ビン11.12の外端部を矢印で示すごとくハ
ンマー等で内方にたたくことにより、鎖線で示すように
マンドレルlO内に落下させることができる。従って、
加工後のコイルヒータlをマンドレル10から容易に取
外すことができるとともにビン11.12のセットも容
易にできる。
、マンドレル10内壁に設けたガイドレール状のホルダ
ー13に対して、マグネットプレート14をスライド自
在に装着して、そのプレート14でビン内端部を吸着し
て受けることにより、突設状態に保持し、コイルヒータ
lの加工作業終了後には、当該マグネットプレート14
をホルダー13のレール部分に沿いスライドさせて抜き
出して、ビン11.12の外端部を矢印で示すごとくハ
ンマー等で内方にたたくことにより、鎖線で示すように
マンドレルlO内に落下させることができる。従って、
加工後のコイルヒータlをマンドレル10から容易に取
外すことができるとともにビン11.12のセットも容
易にできる。
第6図に示す本発明の第2の実施例は、上述した第1の
実施例の基本構成を処理炉5の炉軸X−X“方向に沿っ
て複数個長く組合せた構成を提案するものである。図は
、第2図と同様、横置型処理炉5の上面より見た状態で
示してあり、ここでは、各ヒータ巻線2が平行部2aと
傾斜部2bを備えた上述の基本形のコイルヒータlを3
組、炉軸x−x’方向に配列し、これらヒータlの端部
どうしを折返し部15でそれぞれ一体に連接するととも
に隣接する各組のコイルヒータの傾斜部2bの傾斜方向
を、図でわかるように、交互に逆方向となるように組合
せる。
実施例の基本構成を処理炉5の炉軸X−X“方向に沿っ
て複数個長く組合せた構成を提案するものである。図は
、第2図と同様、横置型処理炉5の上面より見た状態で
示してあり、ここでは、各ヒータ巻線2が平行部2aと
傾斜部2bを備えた上述の基本形のコイルヒータlを3
組、炉軸x−x’方向に配列し、これらヒータlの端部
どうしを折返し部15でそれぞれ一体に連接するととも
に隣接する各組のコイルヒータの傾斜部2bの傾斜方向
を、図でわかるように、交互に逆方向となるように組合
せる。
前述したように、各基本形のコイルヒータlは、傾斜部
2bの曲げ加工の度合が小さいために、加工後のスプリ
ングバックによる形状の不安定は、きわめて少ないが、
しかし、より長尺のコイルヒータを製作した場合には、
わずかの変形でも、全体として大きくなる可能性がある
。そこで、第2の実施例のように、互いに逆向きの傾斜
部2bをもとコイルヒータlを組合せることにより、変
形作用を相殺させることができ、全体として、より安定
した一体のコイルヒータが可能となった。これは特にゾ
ーン分割の温度制御に適した、より長尺のコイルヒータ
を簡単に製作できる。
2bの曲げ加工の度合が小さいために、加工後のスプリ
ングバックによる形状の不安定は、きわめて少ないが、
しかし、より長尺のコイルヒータを製作した場合には、
わずかの変形でも、全体として大きくなる可能性がある
。そこで、第2の実施例のように、互いに逆向きの傾斜
部2bをもとコイルヒータlを組合せることにより、変
形作用を相殺させることができ、全体として、より安定
した一体のコイルヒータが可能となった。これは特にゾ
ーン分割の温度制御に適した、より長尺のコイルヒータ
を簡単に製作できる。
なお、各組のコイルヒータ1を連結する折返し位を大幅
に解消して断面均熱性の高い半導体プロ部15はUター
ン形状をなすが、その数はわずかであるから、従来のU
ターン型千行ヒータのごとき問題は解消される。
に解消して断面均熱性の高い半導体プロ部15はUター
ン形状をなすが、その数はわずかであるから、従来のU
ターン型千行ヒータのごとき問題は解消される。
(発明の効果)
以上のように、本発明においては、コイルヒータの各巻
線は、その角度範囲の大部分がラジアル面に沿う平行部
をして構成されるので、従来のスパイラル状コイルヒー
タにおける不具合を解消でき、しかも、従来のUターン
型千行ヒータと異なり、各巻線が閉断面を構成するので
、熱変形等にも充分な強度を発揮し、又、その傾斜部も
簡単な曲げ加工ですむので、製作が容易で、加工後も安
定した形状を保持でき、るものであり、更に、このコイ
ルヒータの傾斜部を横置型処理炉の天井部に対応して位
置づける構成とすることにより、炉の横断面について炉
内のワークに対して熱影響の最も大きい下半部は勿論の
こと、上半部の大部分がヒータ巻線の平行部が占め、傾
斜部は、最も熱影響の小さい天井部にあるため、従来の
スパイラル状コイルヒータに比して炉の前後における熱
傷(b)は第11図のヒータの折返し部のそれぞれ
線は、その角度範囲の大部分がラジアル面に沿う平行部
をして構成されるので、従来のスパイラル状コイルヒー
タにおける不具合を解消でき、しかも、従来のUターン
型千行ヒータと異なり、各巻線が閉断面を構成するので
、熱変形等にも充分な強度を発揮し、又、その傾斜部も
簡単な曲げ加工ですむので、製作が容易で、加工後も安
定した形状を保持でき、るものであり、更に、このコイ
ルヒータの傾斜部を横置型処理炉の天井部に対応して位
置づける構成とすることにより、炉の横断面について炉
内のワークに対して熱影響の最も大きい下半部は勿論の
こと、上半部の大部分がヒータ巻線の平行部が占め、傾
斜部は、最も熱影響の小さい天井部にあるため、従来の
スパイラル状コイルヒータに比して炉の前後における熱
傷(b)は第11図のヒータの折返し部のそれぞれ
第1図は本発明の一実施例のコイルヒータの基本構成を
線で示した外観斜視図、第2図は第1図に示す当該コイ
ルヒータと横置型処理炉との配置関係を示す上面図、第
3図は第2図の横断面図、第4図は本発明のコイルヒー
タをマンドレルで製作する態様を示す概要図、第5図は
第4図の要部拡大断面図、第6図は第1図の基本構成を
連接した本発明の第2の実施例を処理炉とともに示す上
面図、第7図は、従来のスパイラル状コイルヒータを備
えた炉体の横断面図、第8図は第7図の上面図、第9図
は傾斜した炉の温度設定態様を示すグラフ、第10図(
a)及び(b)は、それぞれ第7図に示すコイルヒータ
の巻線の上半部及び下半部についてその熱の作用態様を
分析して説明するための説明図、第11図は従来のUタ
ーン型平行ヒータの概要斜視図、第12図(a)及び1
: コイルヒータ 2 : ヒータ巻線 2a: 平行部 2b: 傾斜部 5 : 処理炉 10 :マンドレル 出願人 大和半導体装置株式會社 代理人 弁理士 朝 倉 勝 三 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 2@方向 第10図 (a)(b) 臼 第11図 第12図
線で示した外観斜視図、第2図は第1図に示す当該コイ
ルヒータと横置型処理炉との配置関係を示す上面図、第
3図は第2図の横断面図、第4図は本発明のコイルヒー
タをマンドレルで製作する態様を示す概要図、第5図は
第4図の要部拡大断面図、第6図は第1図の基本構成を
連接した本発明の第2の実施例を処理炉とともに示す上
面図、第7図は、従来のスパイラル状コイルヒータを備
えた炉体の横断面図、第8図は第7図の上面図、第9図
は傾斜した炉の温度設定態様を示すグラフ、第10図(
a)及び(b)は、それぞれ第7図に示すコイルヒータ
の巻線の上半部及び下半部についてその熱の作用態様を
分析して説明するための説明図、第11図は従来のUタ
ーン型平行ヒータの概要斜視図、第12図(a)及び1
: コイルヒータ 2 : ヒータ巻線 2a: 平行部 2b: 傾斜部 5 : 処理炉 10 :マンドレル 出願人 大和半導体装置株式會社 代理人 弁理士 朝 倉 勝 三 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 2@方向 第10図 (a)(b) 臼 第11図 第12図
Claims (3)
- (1)処理炉のまわりに捲回される半導体プロセス用コ
イルヒータであって、 各ヒータ巻線についてその角度範囲の一部を除いて当該
ヒータの中心軸線に対して直角をなすラジアル面に沿い
互いに平行に離間配置された平行部と、前記角度範囲の
一部において当該平行部の一方の端部から折曲して前記
ラジアル面に対し傾斜して延出した傾斜部とを各ヒータ
巻線に形成し、当該各ヒータ巻線の傾斜部の延出端を隣
接するヒータ巻線の平行部の他方の端部に折曲して連接
してなる半導体プロセス用コイルヒータ。 - (2)横置型処理炉において、前記各ヒータ巻線の傾斜
部を当該処理炉の炉軸に沿って処理炉の天井部に対応す
るように位置づけてなる特許請求の範囲第1項記載の半
導体プロセス用コイルヒータ。 - (3)前記各ヒータ巻線の傾斜部の傾斜方向が同一の複
数のヒータ巻線よりなる第1のコイルヒータと、傾斜部
の傾斜方向が第1のコイルヒータと逆方向をなす複数の
ヒータ巻線よりなる第2のコイルヒータとを設け、これ
ら第1及び第2のコイルヒータの端部を折返し部で連接
してなる特許請求の範囲第1項記載の半導体プロセス用
コイルヒータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15169586A JPS6310487A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 横置型処理炉における半導体プロセス用コイルヒータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15169586A JPS6310487A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 横置型処理炉における半導体プロセス用コイルヒータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6310487A true JPS6310487A (ja) | 1988-01-18 |
JPH048911B2 JPH048911B2 (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=15524242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15169586A Granted JPS6310487A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 横置型処理炉における半導体プロセス用コイルヒータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6310487A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5760530A (en) * | 1980-09-26 | 1982-04-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | Binder and magnetic recording material |
JP2008311111A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Kurabe Ind Co Ltd | コード状ヒータ |
JP2010520601A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-10 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | ヒーター要素ならびに電気炉用のインサート |
KR101484340B1 (ko) * | 2007-03-05 | 2015-01-19 | 산드빅 인터렉츄얼 프로퍼티 에이비 | 전기로용 인서트 및 히터 요소 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61117224A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Hitachi Ltd | 高周波誘導加熱用コイル |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15169586A patent/JPS6310487A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61117224A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-04 | Hitachi Ltd | 高周波誘導加熱用コイル |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5760530A (en) * | 1980-09-26 | 1982-04-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | Binder and magnetic recording material |
JPS6310488B2 (ja) * | 1980-09-26 | 1988-03-07 | Sanyo Chemical Ind Ltd | |
JP2010520601A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-10 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | ヒーター要素ならびに電気炉用のインサート |
JP2012216553A (ja) * | 2007-03-05 | 2012-11-08 | Sandvik Intellectual Property Ab | 電気炉用のインサート |
KR101484340B1 (ko) * | 2007-03-05 | 2015-01-19 | 산드빅 인터렉츄얼 프로퍼티 에이비 | 전기로용 인서트 및 히터 요소 |
KR101484341B1 (ko) * | 2007-03-05 | 2015-01-19 | 산드빅 인터렉츄얼 프로퍼티 에이비 | 히터 요소 및 전기로용 인서트 |
US9144114B2 (en) | 2007-03-05 | 2015-09-22 | Sandvik Intellectual Property Ab | Heater element as well as an insert for electrical furnaces |
JP2008311111A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Kurabe Ind Co Ltd | コード状ヒータ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH048911B2 (ja) | 1992-02-18 |
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