JPS6289693A - Sf−2140物質誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Sf−2140物質誘導体及びその製造方法

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JPS6289693A
JPS6289693A JP60195966A JP19596685A JPS6289693A JP S6289693 A JPS6289693 A JP S6289693A JP 60195966 A JP60195966 A JP 60195966A JP 19596685 A JP19596685 A JP 19596685A JP S6289693 A JPS6289693 A JP S6289693A
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JP
Japan
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substance
group
formula
water
hydrochloride
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Pending
Application number
JP60195966A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Koyama
小山 正夫
Noriko Otani
大谷 典子
Shunkai Fukuyasu
福安 春海
Masaji Sezaki
瀬崎 正次
Yuuzou Kazuno
数野 勇造
Fumio Kai
甲斐 文夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meiji Seika Kaisha Ltd
Original Assignee
Meiji Seika Kaisha Ltd
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Publication date
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規なSF−2140物質誘導体及びその製造
方法に関し、さらに詳しくは、抗ウィルス作用を示す抗
生物質SF−2140物質の新規な水溶性誘導体及びそ
の製造方法に関する。
(従来の技術および解決すべき問題点)SF−2140
物質は、抗ウィルス活性を示し、医薬品として有用な新
規抗生物質である(特開昭57−85397、同59−
78120及びジャナルe才プ・アンチバイオテ4−/
クス(J、 Antibiotics)第37巻。
第8号、第931頁(1984年)参照)が、水に難溶
性であるため、実用上の制約がある。例えば、SF−2
140物質を治療の目的に投与する場合1体内への効果
的な吸収移行をはかる必要があるが、このため、経口剤
とする場合には、均一かつ微細な分散系として、製剤し
、処方する必要があり、製剤工程が煩雑となる。更に、
すみやかな治療を目的として、  SF−2140物質
を注射剤とすることは、SF−2140物質が水に難溶
であるため、著しく困難となる。
従って、SF−2140物質を化学的に誘導して水に親
和性の高い物質ないし水溶性物質に変換し、溶液剤とし
て実用に供することができるようにすることが有利であ
る。また、 SF−2140物質を水溶性1  物質に
変換することは、簡便に均一溶液化するこ)  とがで
き、作用機作の解明を始めとする様々の基t  礎研究
への利用価値も増大する。
i・□ )  (問題点を解明するための手段)上記の問題を解
明するため、本発明者らは、次1 式[工]: で示される SF−2140物質の化学構造について考
察を加え、 SF−2140物質の糖部位にある水酸基
にアミノ酸をエステル状に結合させ、次式[II ] 
 ・(式中Xはメチレン基、エチリデン基、エチレン基
又はフェニルエチリデン基を表わす)で示される化合物
又はその酸付加塩である SF−2140物質誘導体に
誘導すれば、容易に水に可溶性とすることができ、かつ
、SF−2140物質の有する抗ウィルス活性を何ら損
なうことのないという事実を見い出し、本発明を完成し
た。
すなわち、第1の本発明は、前記した式[I]の化学構
造式で示される化合物又はその酸付加塩である SF−
2140物質誘導体である。この酸付加塩の例としては
、塩#塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩;コハク酸塩
、フマル酸塩、酒石酸塩等の有機酸塩が挙げられる。ま
た、塩酸塩の型としては、通常、無色、非吸湿性粉末が
挙げられる。
次に、本発明のSF−2140物質誘導体の有用性を具
体的に示すため、抗ウイルス試験及び毒性試験の結果を
以下に示す。
4ウ ルス試wI SF−2140物質誘導体(3−0−グリシルSF−2
140塩酸塩)(A)の RNAウィルス 3種、 D
NAウィルス 2種に対する抗ウィルス活性を調べた。
(1)  供試ウィルス及び細胞株 a)   インフルエンザウィルス Influenza virus A/PR/8/34
5train・・・−・−Vero  cell・・・
・・・・・・・・・HeLa S3  cell・・・
・・・・・・・・化−929celld) ワクシニア
ウィルス Vaccinia virus Li5ter 5tr
ain・−・・・−・−・・−Het、a S3 ce
ll・・・・・・・・・・・・Vero cella)
 、 b) 、 c) :  RNAウィルスd) 、
 e) :  DNAウィルス(11)  試験方法 ウィルス感染による細胞変性抑制法(CPE法)により
ウィルス増殖阻止活性を測定した。即ち、上記の各細胞
を IX 105cell/+文に調製し、96大のマ
イクロプレイドに0.1mu /well宛分注し、3
7°C148時間、C02卿卵器で培養後、PBS(−
)で細胞を 1回洗浄して、予め各細胞に対する(A)
の試料液+000 p−g/mJ1.500 g go
w!;L、 2504 g/ml。
(MEM FBS−2%に溶解)を0.05mA /w
ell宛分注後、ウィルスをにEM FBS−2%で希
釈して0..05mu/vell宛接種した。その後、
36℃のCO□卿卵器で培養5日間に亘り細胞変性効果
を位相差顕微鏡で観察し、それぞれのTCr056 /
mlを算出しウィルス対照群との差(Δ−1ogTCI
Dso/an )を測定した。
(110試験結果 判定=a:Δ−1ogTcIDSo/aJ11.50<
a・・・著効 1.00≦a≦1.50・・・効果あり0.50≦a 
< 1.00・・・やや効果あり以上の通り各ウィルス
について増殖阻止活性を測定したところインフルエンザ
ウィルス、 VSV、H3Vに対して著効を示した。又
、併せてNOVにも活性が認められ、 RNAウィルス
、 DNAウィルスに対して巾広く活性が認められた。
1ウ ルス   2 (A)のインフルエンザウィルスに対する抗ウィルス活
性を調べた。
〔1)供試ウィルス及び細胞株 a) インフルエンザウィルスA/PR/8/34(H
I旧)−・・MDCK  cell (11)  試験方法 ウィルス感染によるプラグ形成抑制法(plaquer
eduction method)によりウィルス増殖
阻止活性を定量的に測定した。即ち、MOGK単層細胞
の増殖用培地を除きPBS(−)で洗浄した後、 1%
アルブミンを含むPBSで所要濃度に段階希釈したウィ
ルス液(moi=0.0001)をシャーレ 1枚当り
0.2mm接接し、34°CのC02インキュベータで
 1時間吸着させた。次いで、所要濃度の薬剤を含む一
次重層寒天培地をシャーレ 1枚当り5LI+9.づつ
加えて34°CのC02インキュベータに静近培養し、
48時間後に二次重層寒天培地(プラグ染色用)を加え
、さらに24時間培養後、プラグを算定しウィルス対照
群を 0%とした時のプラク抑制率(%)を算出した。
GiD  試験結果 以上の通りインフルエンザウィルス A/PR/8/3
4株に対するプラグ形成抑制活性を測定したところ投与
1度に比例した優れた活性値であった。
j11ニス1j (A)について急性毒性を調べたところ、その毒性値(
LDso)はマウスの経口投与(p、o、)で5000
B、/ kg以上を示した。この値は (A)が抗ウィ
ルス剤としてヒト及び動物に対して安全に使用し得るこ
とを示している。
第2の本発明は、前記した式[I]で示されるSF−2
140物質に、次式[■] :HOOC−X−NH−Y
          [III ](式中Xはメチレン
基、エチリデン基、エチレン基又はフェニルエチリデン
基を表わし、Yはアミノ基の保護基を表わす) で示される化合物又はその反応性誘導体を反応させて 次式: (式中X及びYは上に定義したとおりである)で示され
る化合物を得、得られたこの化合物を脱保護し、前記し
た式[11]で示される化合物又はその酸付加塩を形成
することを特徴とする SF−2140物質誘導体の製
造方法に関するものである。
すなわち、本発明のSF−2140物質誘導体の製造方
法は、  SF−2140物質を、水酸基にN−保護ア
ミノ酸がエステル状に結合した中間化合物に変換するた
め、 SF−2140物質を不活性溶媒に溶解し、有機
塩基の存在下又は非存布下、アミン基を保護したN−保
護アミノ酸類を脱水縮合剤の存在下に反応させるか、あ
るいはN−保護アミノ酸の反応性誘導体を直接反応させ
るアシル化工程;ひき続き、保護基を脱離する脱保護工
程:ひき続き、常用の方法を適用して単離、生成する工
程の一連の工程から成るものである。
本発明方法のアシル化工程に使用される SF−214
0物質は、前記した式[I]で示される化合物である。
この化合物は、例えば、次のようにして製造することが
できる。
種菌としてアクチノマデユラ拳エスピー SF−214
0物質株(微工研、微生物受託番号 微工研寄 第57
04号)を用い、種培地として可溶性澱粉1.0%、グ
ルコース 1%、ヘフトン0.5%、肉エキス 0.2
%、酵母エキス 0.3%、微粉末大豆粉 0.2%、
炭酸カルシウム 0.2%の培地を用いた。種菌2〜3
白金耳をloo+11容三角フラスコ 20m文の上記
種培地に接種し、28°048時間培養した。得られた
種培養液をさらに500+sJL容三角フラスコ 80
mJ1の上記種培地に4mlずつ3本に接種し、28°
C24時間培養した。得られた種培養を5005IJl
容三角フラスコ50本の各生産培地80a+1に4mJ
lずつ接種した。生産培地組成は、グリセリン 1.5
%、グルコース 1.0%、微粉末大豆粉1.5%、酵
母エキス O21%、リン酸−水素カリウム0.1%、
硫酸マグネシウム0.1%、炭酸カルシウム0.2%、
塩化コバルト0.0001%(殺菌前pH7,0)であ
る。培養は28℃98時間振とう方式で行った。
培養終了後、ケイソウ土を助剤に用いて濾過し、培五枦
液362文を得た。
この培養液3.2文をダイヤイオン)IP−20[商品
名、三菱化成株製] 300a+fLの塔に通し有効成
分を吸着させた。水 1fL及び20%メタノール11
で塔を洗った後、80%メタノールで有効成分を溶離さ
せた。溶離液を50!1文ずつ分画し、SF−2140
物質を含有するフラクションを集め、減圧下で濃縮し、
メタノールを除去した。この濃縮液に酢酸エチル300
+oQ及び炭酸水素ナトリウム溶液を加え抽出した。酢
酸エチル層を分液し、水洗した後、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて乾燥した。乾燥剤を7濾過して除き、炉液を
を濃縮すると粉末状物質が析出したので戸数した。粉末
状の粗製物をメタノールから再結晶して、SF−214
0物質の純結晶】、5gを得た。
mp:  174〜178℃ 本発明方法のアシル化工程に使用される前記した式[I
II]で示される化合物において、式中、アミン基の保
護基とは、エステル結合を効率良く生成させるため、そ
のアミン基を予め保護しておく必要があるが、SF−2
140物質がそれ自身、加水分解されやすい部分構造と
してヌクレオシド部位及びエステルノyを有するため、
脱保護反応を行う際に、それら部位に化学的変化を及ぼ
さない化学的方法がとりうる保護基であれば格別限定さ
れない。一般にアミノ酸のアミン基の保護基としては、
ベンジルオキシカルボニル ボニル基,アセチル基、ベンゾイル基,フタロイル基、
シック塩基等が挙げられるが、上記理由によりこれらの
保護基の中でも、接触還元により。
容易に除去できる置換又は非置換のベンジルオキシカル
ボニル保護基が選択され、例えば、酸、アルカリ等によ
る分解、除去が必要な7シル保護基、アルコキシカルボ
ニル保護基等は実用性に乏しい.また、反応性誘導体と
しては、例えば、クロルギ酸エステルと前記した式[ 
II ]で示される化合物との混合酸無水物、N−ヒド
ロキシコハク酸イミドと前記した式[ II ]で示さ
れる化合物とのエステル、N−ヒドロキシベンズトリア
ゾールと式In]の化合物のエステルが挙げられる。こ
れらの反応性誘導体の中でも、N−ヒドロキシコハク酸
イミドとの活性エステルが好ましい。
アシル化工程における不活性溶媒の例としては、出発原
料である SF−2140物質及び前記した式[11]
で示される化合物を良く溶解するものであれば格別限定
されず,例えばピリジン、ジメチルホルムアミド、ジオ
キサン、テトラヒドロフランが挙げられ、好ましくはピ
リジンである.また、使用する有機塩基としては、それ
自身アシル化反応を受けない有機塩基類であれば格別限
定されず,例えば、トリエチルアミンが挙げられる。
脱水縮合剤の存在下に行なうアシル化反応は、通常、 
5〜40°Cで2〜48時間である.この範囲を外れる
場合、例えば低温短時間では反応が極めておそ〈、また
高温下の反応ではSF−2140物質の分解を伴い、望
ましくない.好ましくは20〜25℃で 4〜48時間
である。また、出発原料の使用量は,通常、 SF−2
140物質 1当量に対してN−保護アミノ酸 1.0
〜1.5当量である。この範囲を外れる場合には、ジア
シル誘導体を多く生成し、望ましくない。好ましくは 
1.0〜1.1当量である。さらにまた、脱水縮合剤は
、一般に知られているものであれば格別限定されず、例
えば、ジシクロへキシルカルボジイミドが挙げられる。
また、直接反応により行なうアシル化工程は、通常、2
0〜70℃で6〜48時間、好ましくは20〜25℃で
6〜17時間である。
本発明方法の脱保護工程は、上記工程により得られた前
記した式[rV]で示される化合物から保護基を脱離す
る工程である.ここで、脱離反応に  □適用される方
法は、一般に知られている方法であれば格別限定されず
、例えば、アルコール溶媒中、パラジウムの存在下に行
う接触還元時間が挙  □げられる。接触還元反応に際
して、例えば高温、高圧下の条件は必須ではなく、常温
、常圧の水素気流中で容易に反応を行うこともできるが
、より速やかな反応を行うためには加温,加圧してもよ
い。接触還元時間は、通常、 0.5〜4.0時間であ
  □る。
本発明方法の単離・精製工程は、上記の工程により得ら
れた前記した式[II]の化合物が、そのvi離となっ
たアミン基のため、塩基性を呈し、特にエステル部位が
加水分解を受けやすく、このため単離・精製は酸付加塩
として行うのが望ましい。使用される酸としては、例え
ば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、クエン酸、コハク
酸等の有機酸が挙げられる。なお、一般に、脱保護反応
の開始時に予め等モル量の酸を添加しておくことで、加
水分解を最少限に止めることができる。かくして得られ
た前記した式[II ]の化合物の酸付加塩は、反応液
中から濾過、濃縮、カラムクロマトグラフィー等の精製
方法により精製され、塩酸塩の場合を例にあげれば、通
常、凍結乾燥により無色の非吸湿性粉末として単離され
る。
(発明の効果) 本発明SF−2140物質誘導体は、著しく水溶性であ
り、 SF−2140物質に比べて抗ウィルス薬として
の有用性が大幅に改善された。
1立1」 3°−0−グリシルSF−2140 SF−2140物質2.0Og(5,58ミリモル)を
乾燥ピリジン20m文に溶解し、N−カルボベンジルオ
キシグリシン1.28g(6,12ミリモル)及びジシ
クロへキシルカルボジイミド3.443(lB、7ミリ
モル)を加え、20〜25°Cで5時間反応させた。反
応液を減圧濃縮し、油状の残留物に酢酸エチル100m
L;L及び水50 m文を加え溶解し、更に少量の酢酸
を加えて水層のpHを 4〜5としたのち17時間かき
まぜた。混合物を濾過して不溶物を除き、更に酢酸エチ
ル層を分離した。酢酸エチル溶液を水洗した後、無水硫
酸ナトリウムを加えて乾燥し、更に乾燥剤を濾過して除
いた。酢酸エチル溶液を減圧下に濃縮して得た泡状物質
をシリカゲル130gを用いたカラムクロマトグラフィ
ー(溶媒系:トルエンー酢酸エチル 1対1比)で精製
し、3’−0−(N−カルボベンジルオキシグリシル)
SF−21403,0?gを得た。ついでこのN=保護
グリシンエステル3.07gをメタノール85m1に溶
解し、−規定塩酸8.0m文及び10%パラジウム炭素
1.5gを加え、 2気圧の水素加圧下にて 1時間接
触量元して脱力ルポベンジルオ羊シ化を行なった。反応
液からパラジウム炭素を枦去し、炉液に一規定塩酸を加
えてPH4,0に調整した後、減圧濃縮してメタノール
を除いた。残留した溶液をセファデックス LH−20
(φ3hmX800mm)のカラムにかけ、水で展開し
、ニンヒドリン反応陽性で、かつ260nmに紫外部吸
収を示す両分を単離した( 180mJL )。この両
分を更に凍結乾燥して無色無晶系の粉末として3°−〇
−グリシルSF−21401,03gを得た(収率40
.9%)。
[α]D +32.8℃(C=1、メタノール)。Rf
値0.44[シリカゲルを用いた薄層クロマトグラフィ
ー(TLC) 、溶媒系;ブタノール−酢酸−水4:1
:I] 。
’H−NMR(020) : (δ、PPff1) 2
.51(1)1)、 2.72(1)1)。
3.90(2H)、 3.95(38)、 3.98(
3H)、 4.13(2)1)、 4.51(IH)、
 4.78(IM)、 5.68(IH)、 6.13
(l)I)、 6.81(IH)。
733〜7.45(3H)。
SF−2140物質 540mg(1,5ミリモル)を
乾燥ピリジン 10m1に溶解し、N−カルボベンジル
オキシ−ローアラニン388mg(1,135ミリモル
)及びジシクロへキシルカルボジイミド1240mg(
6ミリモル)を加え、20〜25°Cで28時間反応さ
せた。反応液を濃縮し、残留物に水15mM 、酢酸エ
チル15mJ1を加えて溶解し、0.5mMの酢酸を加
えて14時間かきまぜた。不溶物を濾過して除き、更に
分液して得た酢酸エチル溶液を水洗、乾燥後減圧下に濃
縮して得た残留物をシリカゲル90gを用いたカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒系、トルエン−酢酸エチル
 3:1)で精製して、3°−0−(N−カルボベンジ
ルオキシ−〇−アラニル)SF−2140510mgを
得た(収率6.02%)。この物質をさらにメタノール
101!1文に溶解し、−規定塩酸0.9m文及び10
%パラジウム炭素200mgを加え、常圧下に接触ぶ元
を行ないカルボベンジルオキシ基を除去した。反応液を
濾過して触媒を除き、炉液に一規定塩酸を加えてpH4
に調整したのち、メタノールを減圧下に除いた。残留し
た溶液をセファデフクス LH−20のカラムに吸着し
、更に水で溶出し、溶出液を5mMづつ分画した。実施
例1と同様にして[1−アラニンエステルの分画を検出
して合併しく計30 m文)、凍結乾燥して無色粉末状
の3°−0−D−アラニルSF−2140塩酸塩143
mgを得た(収率20,8%)、[α][l÷38.2
℃(C=0.5  メタノール)。Rf値 0.48(
シリカゲルTLC、溶媒系;ブタノール−酢酸−水4:
I:1比)。’l−1−NMR(020) ;(δpp
層)1、f32(3H)、 2.58(IH)、 2゜
70(IH)、 3.93(3H)、 3.97C3H
)、 4.12(2H)、 4.33(IH)、 4.
52(IH)、 4.77(IH)、 5.68(IH
)、 8.14(IH)、 8.80(IH)、 7.
32〜7.44(3H)。
支呈涜」 3°−0−L−アラニルSF−214ON−保護アミノ
酸としてN−カルボベンジルオキシ−し−アラニン38
8mg(1,85ミリモル)を使用した他は実施例2と
同様にしてSF−2140物質をアシル化し、次いで脱
保護、精製して3°−0−L−アラニルSF−2140
塩酸塩95Bを得た。[αlp +31.0℃(C=0
.5  メタノール)。Rf値 0.413(シリカゲ
ルτLC1溶媒系;ブタノール−酢酸−水4:1: l
)  ’H−NMR(020) ; (δppm)  
1.88(3H)、  2.55(IH)。
2.68(IH)、  3  タ4(3H)、  3.
97(3H)、  4.13(2H)、  4.2!(
IH)、 4.53(IH)、 4.78(IH)、 
5.71(IH)、 6.15(IH)。
6.80(l)l)、7.30〜7.45(3H)。
SF−2140物質540mg(1,5ミリモル)を乾
燥ピリジン 10mJ1に溶解し、N−カルボベンジル
オキシ−β−アラニン3f1mg(1,85ミリモル)
及びジシクロヘキシルカルボジイミド え、20〜25°Cで28時間反応させた。反応液を濃
縮し,残留物に水 15m文、酢酸エチル 1501文
及び0、5II1文の酢酸を加えて17時間かきまぜた
のち濾過した。炉液より酢酸チル層を分液し、水洗、乾
燥後,減圧濃縮して得た無色泡状物質をシリカゲル?O
gを用いたカラムクロマトグラフィー(溶媒系;トルエ
ン−酢酸エチル3:1)で精製して3’−0−(N−カ
ルボベンジルオキシ−β−アラニル)SF−2140 
208mgを得た(収率24.3%)。この物質をメタ
ノール 10m文に溶解し、−規定塩酸0、4m文及び
10%パラジウム炭素100II1gを加え、常圧下に
接触還元してカルボペンシルオキシ基を除去した。反応
液を濾過して触媒を除き炉液を減圧濃縮してメタノール
を除き、残留した溶液をセファデックスLH−20を用
いたカラムクロマトグラフィーで精製し、実施例1と同
様にしてアミノ酸エステル化合物を検出し、分画して凍
結乾燥後。
無色粉末状の3°−0−βーアラニルSF−2140 
134mgを得た(収率9.6%)。 [αID÷40
,4°C(C・0.5メタノール)。Rf値 0.43
(シリカゲルTLC: 、溶媒系;ブタノール−酢酸−
水 4:1:1) IH −NMR(020);( δ
ppm)  2.42 〜2.98(4H)、 3.3
5(2H)。
3、94(3H)、 3.!38(31()、 4.1
3(2)1)、 4.48(1)1)、 4.78(I
H)、 5.58(IH)、 6.15(IH)、 E
l.80(1)1)、 7.32〜7、45(3H)。
SF−2140物質 540mg(1.5ミリモル)を
乾燥ピリジン 10II1Mに溶解し、N−カルボベン
ジルオキシ−し−フェニルアラニン493mg(1.6
5ミリモル)及びジシクロへキシルカルボジイミド12
40mg(8ミリモル)を加え、20〜25℃で28時
間反応させた。反応液を濃縮し、残留物に酢酸エチル 
15mM 、水15 trl及び0.5mJljの酢酸
を加えて15時間かきまぜたのち、不溶物を濾過して除
き、炉液より酢酸エチル層を分液した.酢酸エチル溶液
を水洗、乾燥後、減圧e縮して得た泡状物質をシリカゲ
ル90g ヲ用いたカラムクロマトグラフィー(溶媒系
;トルエン−酢酸エチル3:1)で精製し。
3°−0− (N−カルボベンジルオキシフェニルアラ
ニル)SF−2140 4:18Bを得た(収率44.
5%)。この物質をメタノール lo+1に溶解し、−
規定塩酸0、1m文及び10%パラジウム炭素150m
gを加え、 1気圧の水素気流下で40分間還元してカ
ルボベンジルオキシ基を除去した。反応液を濾過して触
媒を除き、炉液に一規定塩酸を加えてpH5としてから
減圧e1iiuて、3’−(1−L−フェニルアラニル
SF−2140 200mgを得た(収率25.1%)
。 (a ]0 +27.OoC(C=0.5メタノー
ル)。Rf値0.51(シリカゲルT1.C、溶媒系;
ブタノール−酢酸−水4:l:1) ’H−NMR(0
20);(δppm)  2.52(LH)、 2.6
7(IH)、 3.31(2H)。
3.88(3)1)、3.94(3H)、4.11(2
H)、4.36(IH)、4.54(+8)、  4.
74(1)1)、  5.73(IH)、  5.95
(IH)、  8.74(IH)。
7.08〜7.46(8H)。
SF−2140物質180mg (0,5ミリモル)を
乾燥したジメチルホルムアミド10−に溶解し、N−カ
ルボベンジルオキシグリシン拳サクシミドエステル23
0mg(0,75ミリモル)及びカリウム七−ブトキシ
ド89mg (0,75ミルモル)を加え、20〜25
℃で17時間かきまぜた0反応液に酢酸エチル loO
+J 、及び水50−を加え抽出し、酢酸エチル層を分
液、水洗ののち、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し
た。酢酸エチル溶液を濃縮して得た油状の残留物をシリ
カゲル40gを用いたカラムクロマトグラフィー (溶
媒系: トルエン−酢酸エチル1:1)で精製して3’
−0−(N−カルボベンジルオキシグリシル) SF−
2140119mgを無色固体として得た (収率48
%)。
木物質をメタノール20−に溶解し、 l規定塩酸 0
.24及び10%パラジウム炭素触媒200+gを加え
、常圧の水素存在下接触還元して脱カルボベンジルオキ
シ化を行なった。反応液を濾過してパラジウム炭素触媒
を除き、炉液を減圧濃縮して得た溶液を実施例1と同様
にしてセファデックスLH−20カラムで精製し、グリ
シンエステル含有フラクションを分画したのち凍結乾燥
を行なって3°−0−グリシルSF−2140塩酸塩3
9Bを得た(収率17%)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Xはメチレン基、エチリデン基、エチレン基又は
    フェニルエチリデン基を表わす) で示される化合物又はその酸付加塩であるSF−214
    0物質誘導体。 2、Xがメチレン基を表わし、塩酸塩たる特許請求の範
    囲第1項記載のSF−2140物質誘導体。 3、Xがエチリデン基を表わし、塩酸塩たる特許請求の
    範囲第1項記載のSF−2140物質誘導体。 4、Xがエチレン基を表わし、塩酸塩たる特許請求の範
    囲第1項記載のSF−2140物質誘導体。 5、Xがフェニルエチリデン基を表わし、塩酸塩たる特
    許請求の範囲第1項記載のSF−2140物質誘導体。 6、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示されるSF−2140物質に、 次式: HOOC−X−NH−Y (式中Xはメチレン基、エチリデン基、エチレン基又は
    フェニルエチリデン基を表わし、Yはアミノ基の保護基
    を表わす) で示される化合物又はその反応性誘導体を反応させて 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中X及びYは上に定義したとおりであ る) で示される化合物を得、得られたこの化合物を脱保護し
    、 次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Xは上に定義したとおりである) で示される化合物又はその酸付加塩を形成することを特
    徴とするSF−2140物質誘導体の製造方法。 7、Yがベンジルオキシカルボニル基である特許請求の
    範囲第6項記載の製造方法。
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