JPS6286744A - Lsi chip - Google Patents
Lsi chipInfo
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- JPS6286744A JPS6286744A JP22708285A JP22708285A JPS6286744A JP S6286744 A JPS6286744 A JP S6286744A JP 22708285 A JP22708285 A JP 22708285A JP 22708285 A JP22708285 A JP 22708285A JP S6286744 A JPS6286744 A JP S6286744A
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- Japan
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- wiring pattern
- lsi chip
- bump
- sections
- chip
- Prior art date
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- Pending
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- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、パッシベーション膜上に配線パターンを設け
たLSIチップに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an LSI chip in which a wiring pattern is provided on a passivation film.
〈従来の技術〉
部品の小型化、薄型化に伴い、LSIの集積密度が高く
なり、LSIチップを取付ける基板の配線パターンも細
線化が進み、狭いスペースにいかに多くの配線を引き回
すかについても種々の試みかなされている。どうしても
引き回しができない場合は、基板のスルホールを利用し
た裏面配線パターンやジャンパー線等が一般に用いられ
るが、LSIの回路構成の変更が行なわれたり、基板を
大きくするなどの処置がとられることらある。<Conventional technology> As parts become smaller and thinner, the integration density of LSIs increases, and the wiring patterns of the substrates on which LSI chips are mounted are also becoming thinner, and there are various issues regarding how to route as many wires in a narrow space. No attempt has been made. If routing is not possible, backside wiring patterns using through-holes on the board or jumper wires are generally used, but measures such as changing the circuit configuration of the LSI or making the board larger are sometimes taken. .
〈発明が解決しようとする問題点〉
裏面配線やジャンパー線はスペースその池の関係で不可
能な場合があり、可能であってもスペース等を要し、基
板か大型化しやすくなる。また、LSI自体の回路構成
変更は簡単ではなく、適切な対策とは言えない。<Problems to be Solved by the Invention> Backside wiring and jumper wires may not be possible due to space limitations, and even if possible, they require space and tend to increase the size of the board. Furthermore, changing the circuit configuration of the LSI itself is not easy and cannot be said to be an appropriate countermeasure.
本発明はこのような問題点に着目し、LSIチンプ側に
手を加えることにより、基板側で配線の引き回しができ
ない場合で・も所定の主体的な接続を行なえるようにす
ることを目的としてなされたものである。The present invention focuses on such problems, and aims to make it possible to perform predetermined independent connections even when wiring cannot be routed on the board side by modifying the LSI chip side. It has been done.
〈問題点を解決する為の手段〉
上記の目的達成のため、本発明のLSIチップは、湿気
や不純物等を防ぐために素子の表面に形成される二酸化
シリコン被膜等のパッシベーション膜の表面に、導電性
の補助配線パターンを設けており、この補助配線パター
ンは、パッシベーション膜が絶縁性であるため素子の回
路に関係なく形成される。<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the LSI chip of the present invention has a conductive layer on the surface of a passivation film such as a silicon dioxide film formed on the surface of the element to prevent moisture and impurities. Since the passivation film is insulating, this auxiliary wiring pattern is formed regardless of the circuit of the element.
第1図は、補助配線パターンと基板側の配線パターンと
の関係の一例を示したものであり、1は表面にパッシベ
ーション膜2が形成された7リツプチツプ型のLSIチ
ップ、3はそのバンプ部、4はパッシベーション膜2上
に設けられた補助配線パターン、鎖線で示す5は各バン
プ部3がボンディングされる基板側の配線パターン、5
a、5b、5cは同じく基板側に形成されている別の配
線パターンである。FIG. 1 shows an example of the relationship between the auxiliary wiring pattern and the wiring pattern on the substrate side, in which 1 is a 7-lip chip LSI chip with a passivation film 2 formed on its surface, 3 is a bump portion thereof, 4 is an auxiliary wiring pattern provided on the passivation film 2; 5, indicated by a chain line, is a wiring pattern on the substrate side to which each bump portion 3 is bonded;
Reference numerals a, 5b, and 5c are other wiring patterns that are also formed on the substrate side.
〈作用〉
第1図のような配線パターンの場合、従来はパターン4
a、4b間を接続する必要が生じても、パターン4cが
その間にあるためそのままで、は接続できず、裏面配線
やシ゛ヤンバー線を介して別途接続していた。これに対
して、本発明のLSIチップ1の場合には、補助配線パ
ターン4を配線パターン5a、5bに対応して設けるこ
とにより、ボンディングによって配線パターン5a、5
b間は補助配線パターン4を介して接続される。即ち、
基板側の配線パターンの不足部分あるいは不可能部分が
補われるのであり、補助配線パターン・tは丁度ジャン
パー線のような立体接続の作用をする。<Function> In the case of a wiring pattern as shown in Figure 1, pattern 4 was conventionally used.
Even if it were necessary to connect between a and 4b, since the pattern 4c is located between them, the connection could not be made as is, and the connection was made separately via back wiring or a blank wire. On the other hand, in the case of the LSI chip 1 of the present invention, by providing the auxiliary wiring pattern 4 corresponding to the wiring patterns 5a, 5b, the wiring patterns 5a, 5b are bonded.
b are connected via the auxiliary wiring pattern 4. That is,
Insufficient or impossible portions of the wiring pattern on the board side are compensated for, and the auxiliary wiring pattern t acts as a three-dimensional connection just like a jumper wire.
〈実施例〉
以下、第2図及び第3図に示す一実施例について説明す
る。<Example> An example shown in FIGS. 2 and 3 will be described below.
尚、第1図と同一の部分には同一の符号を用いである。Note that the same parts as in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.
pJIJ2図において、6はLSIチップ1がボンディ
ングされる基板であり、各配線パターン5の端部にはバ
ンプ部3に対応してボンディング部51がそれぞれ形成
されている。またLSIチップ1の補助配線パターン4
の両端にはバンプ部41が形成され、これに対応して、
基板6の配線パターン5a、5bの端部にはボンディン
グ部51a、51bがそれぞれ形成されている。このよ
うに構成されているため、第2図の鎖線のようにLSI
チップ1を基板6に重ねてボンディングすることにより
、各バンプ部3が各ボンディング部51に接続され、ま
た補助配線パターン4のバンプ部41がボンディング部
51a。In FIG. 2, reference numeral 6 denotes a substrate to which the LSI chip 1 is bonded, and bonding portions 51 are formed at the ends of each wiring pattern 5 in correspondence with the bump portions 3. Also, auxiliary wiring pattern 4 of LSI chip 1
Bump portions 41 are formed at both ends of the bump portion 41, and correspondingly,
Bonding portions 51a and 51b are formed at the ends of the wiring patterns 5a and 5b of the substrate 6, respectively. Because of this configuration, the LSI
By stacking the chip 1 on the substrate 6 and bonding it, each bump portion 3 is connected to each bonding portion 51, and the bump portion 41 of the auxiliary wiring pattern 4 is connected to the bonding portion 51a.
51bに接続されて、所定の接続が完了する。尚、LS
Iチップ1と基板6の間にはバンプ部3,41の高さに
相当する一定の間隔が確保され、補助配線パターン4と
配線パターン5cが交差部分で相互に接触すること−は
ない。51b, and the predetermined connection is completed. In addition, L.S.
A constant distance corresponding to the height of the bump portions 3 and 41 is ensured between the I-chip 1 and the substrate 6, and the auxiliary wiring pattern 4 and the wiring pattern 5c do not come into contact with each other at the intersection.
第3図の(、)〜(c)は、それぞれ第2図のa−a”
線、b−b’線、e−C’線に沿う断面図であって、要
部の厚さ方向を拡大して示しており、更に第4図にその
一部を拡大して示しである。図において、11はLSI
本体、12はバンプ部3の形成部分に設けられたパッド
部であり、パッド部12の上面はパッシベーション膜2
が形rI1.されていない。バンプ部3はこのパッド部
12の上に蒸着膜13を形成し、更に銅メッキ14を施
し、その上に半田メッキ15を施すことにより形成され
ている。また補助配線パターン4は、パッシベーション
膜2の上に蒸着膜13を所定の形状で形成し、更にバン
プ部41は蒸着膜13の上に銅メッキ14を施し、その
上に半田メッキ15を施すことにより形成される。この
ように、補助配線パターン4とそのバンプ部41は、L
SI本体11にバンプ部3を形成する手順と同じ手順で
パターン用マスク等を利用して形成することができ、必
要により配線パッドを用いることもできる。(,) to (c) in Figure 3 are a-a'' in Figure 2, respectively.
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line, bb' line, and e-C' line, showing the main part enlarged in the thickness direction, and further showing a part thereof enlarged in FIG. 4. . In the figure, 11 is an LSI
The main body 12 is a pad section provided in the formation part of the bump section 3, and the upper surface of the pad section 12 is covered with a passivation film 2.
is of the form rI1. It has not been. The bump portion 3 is formed by forming a vapor deposited film 13 on the pad portion 12, further applying copper plating 14, and applying solder plating 15 thereon. Further, the auxiliary wiring pattern 4 is formed by forming a vapor deposited film 13 in a predetermined shape on the passivation film 2, and further, for the bump portion 41, copper plating 14 is applied on the vapor deposited film 13, and solder plating 15 is applied thereon. formed by. In this way, the auxiliary wiring pattern 4 and its bump portion 41 are
It can be formed using a pattern mask or the like in the same procedure as the bump part 3 is formed on the SI main body 11, and wiring pads can also be used if necessary.
尚、以上の実施例は7エイスダウンボンデイングの行な
われる7リツプチツプ型のLSIチップについてのもの
であり、本発明はこのような7リツプチ・2プ型の場合
に好適であるが、他の形式のLSIチップに適用するこ
とら可能である。また実施例では補助配線パターンは1
本であるが、必要に応じて複数本を適宜の引き回しパタ
ーンで形成することができる。It should be noted that the above embodiments relate to a 7-lip chip type LSI chip in which 7-eighth down bonding is performed, and the present invention is suitable for such a 7-lip chip/2-lip type. This is possible by applying it to an LSI chip. In addition, in the example, the auxiliary wiring pattern is 1
Although it is a book, a plurality of books can be formed in an appropriate routing pattern as necessary.
〈発明の効果〉
上述の実施例の説明からも明らかなように、本発明のL
SIチップは、素子表面のバッジベージシン膜上に補助
配線パターンを設けたものであり、基板側の配線パター
ンのみでは困難な立体的な配線引き回しを裏面配線やジ
ャンパー配線を用いないで行なうことができる。従って
、ジャンパー線等による余分なスペースを必要とせず、
あるいは基板を大きくするような解決策は不要で、LS
Iチップを使用した電子部品の小型化が容易となり、ま
た基板の配線パターンやLSIチップ自体の回路構成に
対する制約が少なくなって設計が容易となる等の利点が
ある。<Effects of the Invention> As is clear from the description of the above embodiments, the L of the present invention
The SI chip has an auxiliary wiring pattern on the badge thin film on the surface of the element, making it possible to perform three-dimensional wiring routing that is difficult with only the wiring pattern on the board side, without using backside wiring or jumper wiring. can. Therefore, there is no need for extra space due to jumper wires, etc.
Or, there is no need for solutions such as increasing the size of the board, and LS
There are advantages such as it is easier to miniaturize electronic components using I chips, and there are fewer restrictions on the wiring pattern of the board and the circuit configuration of the LSI chip itself, making it easier to design.
第1図は、本発明のLSIチップの一例の平面図、
第2図は、一実施例の分解斜視図、
第3図(、)仙)(C)は、それぞれ第2図のa a
’i線、b−b’線、Ce’線断面図、
第4図は、要部の拡大断面図である6FIG. 1 is a plan view of an example of an LSI chip of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of an embodiment, and FIGS.
'I line, bb' line, Ce' line sectional views; Figure 4 is an enlarged sectional view of the main parts6
Claims (1)
導電性の補助配線パターンを設けたことを特徴とするL
SIチップ。1.L characterized in that a conductive auxiliary wiring pattern is provided on the passivation film formed on the surface of the element.
SI chip.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22708285A JPS6286744A (en) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | Lsi chip |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22708285A JPS6286744A (en) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | Lsi chip |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6286744A true JPS6286744A (en) | 1987-04-21 |
Family
ID=16855225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22708285A Pending JPS6286744A (en) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | Lsi chip |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6286744A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6354745A (en) * | 1986-08-25 | 1988-03-09 | Nec Corp | Semiconductor integrated circuit |
WO2008069044A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-06-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP22708285A patent/JPS6286744A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6354745A (en) * | 1986-08-25 | 1988-03-09 | Nec Corp | Semiconductor integrated circuit |
WO2008069044A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-06-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
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