JPS628426B2 - - Google Patents

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JPS628426B2
JPS628426B2 JP20907885A JP20907885A JPS628426B2 JP S628426 B2 JPS628426 B2 JP S628426B2 JP 20907885 A JP20907885 A JP 20907885A JP 20907885 A JP20907885 A JP 20907885A JP S628426 B2 JPS628426 B2 JP S628426B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorine
compound
group
aqueous solution
quaternary ammonium
Prior art date
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Expired
Application number
JP20907885A
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English (en)
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JPS6187648A (ja
Inventor
Iwao Hisamoto
Tomoaki Maeda
Mitsuhiro Nishiwaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Daikin Kogyo Co Ltd filed Critical Daikin Kogyo Co Ltd
Priority to JP20907885A priority Critical patent/JPS6187648A/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規な含フツ素第四級アンモニウム化
合物の製法に関する。 含フツ素系化合物は、炭化水素系化合物に比較
して特異な界面特性を有しており、たとえば水の
表面張力低下能が大きいなどの性能があるので蒸
発抑制剤、塗料用レベリング剤などに使用され
る。 また、含フツ素系化合物を水成膜泡消火剤の添
加物として使用する場合、消火剤は油面上に迅速
に水成膜を形成することが必要であるが、このた
めには、添加物は水溶液の表面張力低下能が大で
あるばかりでなく、水溶液/油界面張力低下能も
大であることが重要となる。すなわち、拡張係数
Sを式:S=γo−(γw+γwo) [式中、γoは油の表面張力、γwは水溶液の
表面張力、γwoは水溶液/油の界面張力であ
る。]で表わすと、拡張係数Sが正の場合にのみ
水溶液は油面上に拡がることができるのである。 一般に、含フツ素系化合物はフツ素含有基の油
に対する親和性が低いため水溶液/油界面におい
て理想的に配向し得ず、従つて水溶液/油界面張
力を充分に低下させることができない。この様な
欠点を補うため含フツ素系化合物に炭化水素系化
合物を配合する方法が提案されている。 しかしながら、含フツ素系化合物自身で前記の
低界面張力を得られるものを用いれば、炭化水素
系化合物を配合した場合にも水溶液/油界面張力
をより低下させる傾向がある。従つて、水溶液/
油界面張力低下能が本質的に大なる含フツ素系化
合物を得ることは重要である。 本発明者らは、先に特公昭49−21123号公報に
おいてRf−CH2CH(OH)CH2−なるセグメント
を結合したフルオロアルキル基を含有するアミン
および該アミンと有機または無機酸との中和物か
らなる塩を提案した。これらの化合物は、水の表
面張力低下能に関しては相当な効果を奏するが、
水溶液/油界面張力低下能は顕著ではなく、前記
油面上に水成膜を形成することが必要な水成膜泡
消火剤用添加物として用いるには更に該界面張力
低下能を向上させる必要がある。 本発明者らは、上記化合物の表面張力低下能を
損うことなく水溶液/油界面張力低下能を向上さ
せる研究を鋭意行なつた結果、一般式: [式中、Rfは炭素数3〜21の直鎖状または分
枝状含フツ素脂肪族炭化水素基;R1,R2および
R3はそれぞれ炭素数1〜4の直鎖状または分枝
状アルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキ
ル基またはベンジル基;R4は水素またはアセチ
ル基;XはYまたはSO4R5(但し、R5は炭素数1
〜3のアルキル基、Yは塩素、臭素またはヨウ素
を表わす。);nは1〜3の整数を表わす。]で示
される含フツ素第四級アンモニウム化合物は、こ
れら要求を満足することを見い出した。 ここで、Rfで示される含フツ素脂肪族炭化水
素基は高度にフツ素化された飽和または不飽和の
脂肪族炭化水素基であり、直鎖状または分枝状の
ものがいずれも含まれる。 本発明の要旨によれば、含フツ素第四級アンモ
ニウム化合物[]は、一般式: で示される含フツ素アミンとR3Xで示される第四
級化剤とを反応させて製造することができる。 [式中、Rf、R1、R2、R3、R4、Xおよびnは
前記と同意義。]。 なお、R4がアセチル基であるアミン[]を
用いる場合には、前記特公昭49−21123号公報に
記載の方法に従い、R4が水素であるアミン
[]を製造した後、モル比1:1以上の無水酢
酸またはアセチルハライドのようなアセチル化剤
で処理し、得られたアセチル化物を弱アルカリ水
溶液で洗浄し、分離して本発明の製法に供する。 かかる含フツ素アミン[]と第四級化剤との
反応は、たとえば次の反応式により示される: [式中、Rf、R1、R2、R3、R4、R5、Yおよび
nは前記と同意義。]。 化合物[]を製造するには、含フツ素アミン
[]を、適当な溶媒中、室温〜100℃の温度範囲
で1〜5時間撹拌しながら第四級化剤と反応させ
る。 第四級化剤は、アミン[]に対して等モル以
上用いるのが好ましい。 適当な溶媒としては、エタノール、メタノー
ル、イソプロパノールのような低級アルカノー
ル、アセトン、テトラヒドロフランなどが挙げら
れる。 反応終了後、反応溶媒を留去し、化合物[]
が難溶である溶媒、たとえばエーテルで洗浄する
か、または再結晶化して精製する。 含フツ素第四級アンモニウム化合物[]を具
体的に示せば、 などが挙げられる。 化合物[]は、前記の特徴の他に、臨界ミセ
ル濃度も低く、従つて0.01重量%のような低濃度
溶液であつても充分に表面張力および界面張力を
低下し得る。 含フツ素第四級アンモニウム化合物[]をた
とえば広く界面活性剤として用いるときには、こ
れに必要に応じて他の陽イオン系、非イオン系ま
たは両性系含フツ素系化合物を併用することがで
きる。陽イオン系含フツ素化合物としてはパーフ
ルオロアルキルアルキレントリアルキルアンモニ
ウムハライド、パーフルオロアルカンスルホンア
ミドアルキレントリアルキルアンモニウムハライ
ドなどを、非イオン系含フツ素化合物としては (Rf”は含フツ素脂肪族炭化水素基;pは1〜40
の整数を表わす。)などが、また両性系含フツ素
化合物としてはパーフルオロアルキルアルキレン
ジアルキルアミン酢酸ベタイン、パーフルオロア
ルカンスルホンアミドアルキレンジアルキルアミ
ノプロピオン酸ベタインなどが例示できる。 また、炭化水素系化合物を混合して使用するこ
ともできる。混合し得る炭化水素系化合物として
は、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレン脂肪酸エステルなどの非イオン性
化合物、トリアルキルアンモニウムハライド、塩
化ベンザルコニウムなどの陽イオン性化合物およ
びトリアルキルアミン酢酸ベタイン、アルキルグ
リシンなどが挙げられる。 含フツ素第四級アンモニウム化合物[]は、
前記蒸発抑制剤、塗料用レベリング剤の他、蛋白
泡消火剤や合成界面活性剤泡消火剤の添加物、消
火剤粉末処理剤として、また写真乳剤添加物、メ
ツキ液のミスト防止剤などにも使用し得る。 次に実施例、試験例および比較試験例を示して
本発明を具体的に説明する。 実施例 1 化合物[]の製造:− 撹拌装置、冷却器を備えた200mlフラスコに 20.0g(0.035モル)、ヨウ化メチル6.0g(0.042
モル)およびエタノール70gを入れ、湯浴上でエ
タノールの環流下に2時間撹拌する。反応混合物
を冷却すると一部固体生成物の析出が見られる
が、そのまま過剰のエーテルを加えて更に析出さ
せる。析出した固体生成物を分離し、エーテルで
洗浄して化合物[]21.5g(収率86%)を得
た。融点40〜42℃。 この化合物についてブロモフエノールブルー試
験(界面活性剤分析研究会編「界面活性剤分析
法」参照)を行なうことにより本生成物が陽イオ
ン系第四級アンモニウム化合物であることを確認
した。 元素分折、計算値:C,25.2%;F,50.6%;
H,2.1%;N,2.1%;I,17.8%;O,2.2%、
実測値:C,25.3%;F,50.4%;H,1.9%;
N,2.3%;I,18.1%;O,2.0%。 実施例 2 化合物[]の製造:− 実施例1と同様の反応装置に 20.2g(0.032モル)、ジメチル硫酸4.8g(0.038
モル)およびエタノール70gを入れ、湯浴上でエ
タノールの環流下に1時間撹拌する。反応終了
後、エバポレーターにより溶媒を除去し、固体生
成物をエーテルで洗浄して化合物[]22.0g
(収率91.7%)を得た。融点101〜103℃。 この化合物について実施例1と同様ブロモフエ
ノールブルー試験を行ない、本生成物が陽イオン
系第四級アンモニウム化合物であることを確認し
た。 元素分折、計算値:C,28.5%;F,47.7%;
H,2.9%;N,1.8%;S,4.2%;O,14.9%、
実測値:C,28.7%;F,47.4%;H,3.2%;
N,2.0%;S,4.0%;O,14.7%。 実施例 3 化合物[]の製造:− 実施例1と同様の反応装置に 20.0g(0.03モル)、ベンジルクロリド6.3g
(0.050モル)およびイソプロパノール70gを入
れ、湯浴上でイソプロパノールの還流下に4時間
撹拌する。反応終了後、エバポレーターにより溶
媒を除去し、固体生成物をエーテルで洗浄して化
合物[]19g(収率79.4%)を得た。融点50〜
52℃。 この化合物についてブロモフエノールブルー試
験を行ない、本生成物が陽イオン系第四級アンモ
ニウム化合物であることを確認した。 元素分折、計算値:C,38.1%;F,49.8%;
H,3.2%;N,1.9%;Cl,4.8%;O,2.2%、
実測値:C,38.4%;F,49.6%;H,3.3%;
N,1.7%;Cl,5.1%;O,1.9%。 試験例1および比較試験例1〜3 実施例1〜3および同様の手順で得た化合物
[]〜[]について、0.1重量%水溶液の表面
張力および該水溶液/n−ヘキサン界面張力を測
定した。測定装置として島津製作所製ST−1型
(ウイルヘルミイ法)を使用し、25℃で測定を行
なつた。また、比較のために本発明以外の化合物
(含フツ素アミン化合物の酸中和物)についても
同様に測定を行なつた。 結果を第1表に示す。
【表】
【表】 とギ酸の中和物

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式: で示される含フツ素アミンとR3Xで示される第四
    級化剤とを反応させることを特徴とする。 一般式: で示される化合物を得ることを特徴とする含フツ
    素第四級アンモニウム化合物の製法 [式中、Rfは炭素数3〜21の直鎖状または分
    枝状含フツ素脂肪族炭化水素基;R1,R2および
    R3はそれぞれ炭素数1〜4の直鎖状または分枝
    状アルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキ
    ル基またはベンジル基;R4は水素またはアセチ
    ル基;XはYまたはSO4R5(但し、R5は炭素数1
    〜3のアルキル基、Yは塩素、臭素またはヨウ素
    を表わす。);nは1〜3の整数を表わす。]。
JP20907885A 1985-09-21 1985-09-21 含フツ素第四級アンモニウム化合物の製法 Granted JPS6187648A (ja)

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JPS6187648A JPS6187648A (ja) 1986-05-06
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109568870A (zh) * 2019-01-03 2019-04-05 中国民航大学 能抑制锂离子电池热失控的细水雾复合添加剂及制备方法
KR20190073247A (ko) * 2017-12-15 2019-06-26 삼성디스플레이 주식회사 향상된 전처리를 갖는 화이트 스팟 무라 검출 시스템 및 방법

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KR20190073247A (ko) * 2017-12-15 2019-06-26 삼성디스플레이 주식회사 향상된 전처리를 갖는 화이트 스팟 무라 검출 시스템 및 방법
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