JPS6280688A - ホログラムの製造方法 - Google Patents
ホログラムの製造方法Info
- Publication number
- JPS6280688A JPS6280688A JP60221526A JP22152685A JPS6280688A JP S6280688 A JPS6280688 A JP S6280688A JP 60221526 A JP60221526 A JP 60221526A JP 22152685 A JP22152685 A JP 22152685A JP S6280688 A JPS6280688 A JP S6280688A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- film
- developing
- antireflection
- hologram
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ホログラムの有する性能を損なうことなく
ホログラフィ再生時のゴーストを低減したホログラムの
製造方法に関するものである。
ホログラフィ再生時のゴーストを低減したホログラムの
製造方法に関するものである。
第３図は、例えば“Ｄｉｃｈｒｏｍａｔｅｄ ｇｅｌａ
ｔｉｎｅ ｆｏｒｔｈｅ ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ
ｏｆ ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ ｏｐｔｉｃａｌ
ｅｌｅＩＩＩｅｎｔｓ”、Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔ
ｉｃｓ、１８（１４）、２４０７（１９７９）、に示さ
れた従来のホログラム製造工程の一例と各工程における
ホログラムの状態を模式的に示したものである。図中、
■はゼラチン塗布工程で、ガラス基板１上に、スピンコ
ード、ディップコート、バーコードなどの手法によりゼ
ラチン層２を形成する。ＴＩは感光化工程で、ゼラチン
層２に重クロム酸アンモンを含浸させることにり感光化
して、感光性ゼラチンＩＱ ２ Ａとする。■は露光工
程で、２系列のレーザ入射光によって露光し、干渉しま
の明部で前記感光膜２Ａに架橋反応を生じさせる。
ｔｉｎｅ ｆｏｒｔｈｅ ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ
ｏｆ ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ ｏｐｔｉｃａｌ
ｅｌｅＩＩＩｅｎｔｓ”、Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔ
ｉｃｓ、１８（１４）、２４０７（１９７９）、に示さ
れた従来のホログラム製造工程の一例と各工程における
ホログラムの状態を模式的に示したものである。図中、
■はゼラチン塗布工程で、ガラス基板１上に、スピンコ
ード、ディップコート、バーコードなどの手法によりゼ
ラチン層２を形成する。ＴＩは感光化工程で、ゼラチン
層２に重クロム酸アンモンを含浸させることにり感光化
して、感光性ゼラチンＩＱ ２ Ａとする。■は露光工
程で、２系列のレーザ入射光によって露光し、干渉しま
の明部で前記感光膜２Ａに架橋反応を生じさせる。
すなわち、被写体である物体を経て回折された光波であ
る物体光Ｌ１を感光膜２Ａの上方から入射させると共に
、これと干渉性のある回折されていない別の光波である
参照光Ｌ２を斜方向から入射せしめ、生じた両者Ｌ１．
Ｌ２の干渉じまを感光ｌｑ ２ Ａに記録する。次の現
像工程はゼラチン感光ＩＩりの硬軟に応じて２通りに分
かれる。軟質ゼラチンの場合は洗浄ニー、チング工程Ｖ
ｉａ、乾繰工程■ａを経てレリーフホログラムが得らめ
る。一方、硬質ゼラチンの場合は、初期現像工程■ｂ、
最終現像工程■ｂを経て体積ホログラムが得られる。
る物体光Ｌ１を感光膜２Ａの上方から入射させると共に
、これと干渉性のある回折されていない別の光波である
参照光Ｌ２を斜方向から入射せしめ、生じた両者Ｌ１．
Ｌ２の干渉じまを感光ｌｑ ２ Ａに記録する。次の現
像工程はゼラチン感光ＩＩりの硬軟に応じて２通りに分
かれる。軟質ゼラチンの場合は洗浄ニー、チング工程Ｖ
ｉａ、乾繰工程■ａを経てレリーフホログラムが得らめ
る。一方、硬質ゼラチンの場合は、初期現像工程■ｂ、
最終現像工程■ｂを経て体積ホログラムが得られる。
」二記洗浄エッチング工程ＶＩａにおいて、露光した感
光Ｈ２Ａのうち、非架橋部Ｘは溶出するが、架橋部Ｙは
残留する。これに対して、上記初期現像工程■ｂにおい
ては、現像液浸漬により、ゼラチンが膨潤するため、非
架橋部Ｘから架橋部Ｙへの物質移動が生じて、密度が増
幅されると考えられている。第３図中、初期現像工程■
ｂにおける上部の矢印は、この物質移動を表わす、軟質
ゼラチンの乾燥工程■ａ、および硬化ゼラチンのアルコ
ール浸漬工程ｖｎｂは、脱水によって明部、暗部のコン
トラストを一層増強するために行なわれるものである。
光Ｈ２Ａのうち、非架橋部Ｘは溶出するが、架橋部Ｙは
残留する。これに対して、上記初期現像工程■ｂにおい
ては、現像液浸漬により、ゼラチンが膨潤するため、非
架橋部Ｘから架橋部Ｙへの物質移動が生じて、密度が増
幅されると考えられている。第３図中、初期現像工程■
ｂにおける上部の矢印は、この物質移動を表わす、軟質
ゼラチンの乾燥工程■ａ、および硬化ゼラチンのアルコ
ール浸漬工程ｖｎｂは、脱水によって明部、暗部のコン
トラストを一層増強するために行なわれるものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記の如き工程を経て得られた従来のホ
ログラムにあっては、露光工程■において、ゼラチン層
／空気界面からの反射光に起因する目的外のホログラム
（スプリアスホログラム）が記録され、そのため得られ
たホログラムの再生時に、ゴースト像が生ずるという問
題点があった。すなわち、第４図（ａ）において、露光
時に・ゼラチン感光膜２Ａに入射した物体光Ｌ１はガラ
ス基板１内を通過する。Ｌ′、はガラス基板／空気界面
における物体光Ｌ１の一部反射光である。
ログラムにあっては、露光工程■において、ゼラチン層
／空気界面からの反射光に起因する目的外のホログラム
（スプリアスホログラム）が記録され、そのため得られ
たホログラムの再生時に、ゴースト像が生ずるという問
題点があった。すなわち、第４図（ａ）において、露光
時に・ゼラチン感光膜２Ａに入射した物体光Ｌ１はガラ
ス基板１内を通過する。Ｌ′、はガラス基板／空気界面
における物体光Ｌ１の一部反射光である。
一方、ガラス基板１から入射した参照光Ｌ２がゼラチン
感光膜２Ａを透過するとき、ゼラチン感光膜／空気界面
において反射光Ｌ’ ２が生じる。
感光膜２Ａを透過するとき、ゼラチン感光膜／空気界面
において反射光Ｌ’ ２が生じる。
その結果、ゼラチン感光膜２Ａには、第４図（ｂ）に拡
大して示されるように、物体光Ｌ１と参照光Ｌ２の干渉
じまによる目的ホログラムＨとは別、に、更に上記反射
光Ｌ” ２に基づくスプリアスホログラムＨ３が記録さ
れる。よって、これを再生する際、第４図（Ｃ）に示さ
れるように、再生入射光Ｌ３が目的ホログラムＨで反射
されて目的像を結ぶ光路Ｌ４のみでなく、スプリアスホ
ログラムＨ５で反射される光路Ｌ５が生じて、ゴースト
像が結ばれてしまうこととなる。
大して示されるように、物体光Ｌ１と参照光Ｌ２の干渉
じまによる目的ホログラムＨとは別、に、更に上記反射
光Ｌ” ２に基づくスプリアスホログラムＨ３が記録さ
れる。よって、これを再生する際、第４図（Ｃ）に示さ
れるように、再生入射光Ｌ３が目的ホログラムＨで反射
されて目的像を結ぶ光路Ｌ４のみでなく、スプリアスホ
ログラムＨ５で反射される光路Ｌ５が生じて、ゴースト
像が結ばれてしまうこととなる。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、従来のホログラムが有する回折効率・透過効
率・収差などの光学的性能や、その他の機械的性能、化
学的性能などを変えることなく、しかもホログラフィ再
生時のゴーストを低減したホログラムを得ることが可能
なホログラムの製造方法を提供することを目的としてい
る。
たもので、従来のホログラムが有する回折効率・透過効
率・収差などの光学的性能や、その他の機械的性能、化
学的性能などを変えることなく、しかもホログラフィ再
生時のゴーストを低減したホログラムを得ることが可能
なホログラムの製造方法を提供することを目的としてい
る。
この発明に係るホログラム製造方法は、感光性ノ、（板
−Ｉ；に反射防止機能を有する皮膜を形成する工程、こ
の基板を露光する工程、溶媒洗浄により上記皮膜を除去
する工程、および露光像を現像する工程を有するもので
、得られたホログラムの再生時ゴーストを低減せしめる
ものである。
−Ｉ；に反射防止機能を有する皮膜を形成する工程、こ
の基板を露光する工程、溶媒洗浄により上記皮膜を除去
する工程、および露光像を現像する工程を有するもので
、得られたホログラムの再生時ゴーストを低減せしめる
ものである。
この発明においては、露光前に、感光性基板の感光性膜
上に反射防止機能を有する皮膜を形成する。そのため露
光時に、感光性膜／空気界面からの反射光強度が低減し
、それに起因するスプリアスホログラム、ひいては再生
時ゴースト強度が低減する。また、現像以前または現像
時に上記、反射防止機能を有する皮膜を除去するため、
以後の工程には何の影響も与えない、したがって、本発
明によって得られるホログラムの特性は１本発明を適用
しない場合に得られるホログラムの特性と、再生時ゴー
ストに関する点を除き等しいものとなる。
上に反射防止機能を有する皮膜を形成する。そのため露
光時に、感光性膜／空気界面からの反射光強度が低減し
、それに起因するスプリアスホログラム、ひいては再生
時ゴースト強度が低減する。また、現像以前または現像
時に上記、反射防止機能を有する皮膜を除去するため、
以後の工程には何の影響も与えない、したがって、本発
明によって得られるホログラムの特性は１本発明を適用
しない場合に得られるホログラムの特性と、再生時ゴー
ストに関する点を除き等しいものとなる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図は、この発明に係るホログラム製造過程を示すもので
あり、ゼラチン塗布工程工〜乾燥工程■ａまたは最終現
像工程■ｂに至る各工程は、反射防止膜形成工程■及び
反射防止膜除去工程Ｖを除き、第３図の場合と同様であ
る。
図は、この発明に係るホログラム製造過程を示すもので
あり、ゼラチン塗布工程工〜乾燥工程■ａまたは最終現
像工程■ｂに至る各工程は、反射防止膜形成工程■及び
反射防止膜除去工程Ｖを除き、第３図の場合と同様であ
る。
次に各工程の内容について具体的に説明する。
第Ｉ工程では、３ａ＋ｍｔ光学ガラス基板１ （ＢＫ−
７）に、新田ゼラチン社製＃２００ゼラチン２を水溶液
からスピンコード法により塗布した。第１Ｉ工程では、
このゼラチン塗布基板を充分乾燥、硬化した後、これを
５％重重クロム酸アンソン水溶液５分間浸漬して感光化
した。第工工程である反射防止膜形成工程では、感光化
した基板をさらに、−昼夜常温で乾燥した後、１０−３
〜１０−’Ｔｏｒｒ程度の真空中で、感光化ゼラチン膜
２Ａの表面にフッ化カリウム（ＦＫ）を膜圧が約１００
０オングストロームになるように真空蒸着し反射防止膜
３０を形成した。この反射防止処理した基板の波長５１
Ｌ５ｎｍ （露光波長）における光透過率は、 ５３
．１％であった。一方、反射防止処理を行なって゛いな
いものは４８．７％であったので、約４％反射率が低減
されたことになる。
７）に、新田ゼラチン社製＃２００ゼラチン２を水溶液
からスピンコード法により塗布した。第１Ｉ工程では、
このゼラチン塗布基板を充分乾燥、硬化した後、これを
５％重重クロム酸アンソン水溶液５分間浸漬して感光化
した。第工工程である反射防止膜形成工程では、感光化
した基板をさらに、−昼夜常温で乾燥した後、１０−３
〜１０−’Ｔｏｒｒ程度の真空中で、感光化ゼラチン膜
２Ａの表面にフッ化カリウム（ＦＫ）を膜圧が約１００
０オングストロームになるように真空蒸着し反射防止膜
３０を形成した。この反射防止処理した基板の波長５１
Ｌ５ｎｍ （露光波長）における光透過率は、 ５３
．１％であった。一方、反射防止処理を行なって゛いな
いものは４８．７％であったので、約４％反射率が低減
されたことになる。
第■工程では、このようにして反射防止１１５ｉ３０を
形成した感光性基板１０を、低湿度に保った室内で波長
５１４．５ｎ＋ｓの２系列からなる（すなわち。
形成した感光性基板１０を、低湿度に保った室内で波長
５１４．５ｎ＋ｓの２系列からなる（すなわち。
物体光り、と参照光Ｌ２）レーザ光で露光し、その結果
生じる干渉しまをゼラチン感光膜２Ａに通常の方法で記
録した。
生じる干渉しまをゼラチン感光膜２Ａに通常の方法で記
録した。
次にこの露光した感光性基板ＩＯは、反射防止膜除去工
程Ｖを経て、現像工程に送られるのであるが、反射防止
処理ＩＩ＊３０の除去は、現像工程のうちの、洗浄エツ
チング工程Ｖｌａまたは初期現像工程■ｂにおいてエツ
チングまたは現像処理と同時に行うことができる。すな
わち、反射防止膜除去工程Ｖは、洗浄エツチング工程Ｖ
Ｔａまたは初期現像工程■ｂに包含され得るものである
。
程Ｖを経て、現像工程に送られるのであるが、反射防止
処理ＩＩ＊３０の除去は、現像工程のうちの、洗浄エツ
チング工程Ｖｌａまたは初期現像工程■ｂにおいてエツ
チングまたは現像処理と同時に行うことができる。すな
わち、反射防止膜除去工程Ｖは、洗浄エツチング工程Ｖ
Ｔａまたは初期現像工程■ｂに包含され得るものである
。
例えば１反射防止膜除去・初期現像工程Ｖ・■ｂでは、
上記露光剤の感光性基板１０を現像液に２分浸漬した。
上記露光剤の感光性基板１０を現像液に２分浸漬した。
現像液としては、富士写真フィルム社製写真定着液スー
パーフジフィックスを用いた。浸漬直後から、重クロム
酸アンモンの黄褐色が脱色を開始し、反射防止膜３０が
除去できたことを確認した。さらに、これを充分水洗し
た後、最終現像工程■゛ｂにおいてイソプロピルアルコ
ールに３分間浸漬した。かくして得られた体積ホログラ
ムの表面には、フッ化カリウムからなる反射防止膜３０
は全く残留しておらず、これを用いてホログラフィを再
生すると、ゴースト像はほとんど出現しなかった。第２
図は、この時のホログラムの状態を示すもので、先に述
べたように反射防止膜３０の作用によりゼラチン感光膜
２Ａには目的ホログラムＨのみが記録されるので、再生
時には目的像を結ぶ光路Ｌ４のみとなり、ゴースト像は
生じない。しかも、反射防止膜３０は完全に除去される
から、ホログラムの有する本来の光学的、機械的、化学
的諸性能は変わることがない。
パーフジフィックスを用いた。浸漬直後から、重クロム
酸アンモンの黄褐色が脱色を開始し、反射防止膜３０が
除去できたことを確認した。さらに、これを充分水洗し
た後、最終現像工程■゛ｂにおいてイソプロピルアルコ
ールに３分間浸漬した。かくして得られた体積ホログラ
ムの表面には、フッ化カリウムからなる反射防止膜３０
は全く残留しておらず、これを用いてホログラフィを再
生すると、ゴースト像はほとんど出現しなかった。第２
図は、この時のホログラムの状態を示すもので、先に述
べたように反射防止膜３０の作用によりゼラチン感光膜
２Ａには目的ホログラムＨのみが記録されるので、再生
時には目的像を結ぶ光路Ｌ４のみとなり、ゴースト像は
生じない。しかも、反射防止膜３０は完全に除去される
から、ホログラムの有する本来の光学的、機械的、化学
的諸性能は変わることがない。
なお、上記実施例では、現像工程が反射防止膜除去工程
を兼ねているが、この２工程は分離して行なってもよい
。すなわち、反射防止膜が溶解する溶媒を用いて洗浄し
た後現像液へ浸漬することもできる。
を兼ねているが、この２工程は分離して行なってもよい
。すなわち、反射防止膜が溶解する溶媒を用いて洗浄し
た後現像液へ浸漬することもできる。
また、上記実施例では、反射防止膜としてフッ化カリウ
ム単層膜を用いたがこれに限らず、その他フッ化ナトリ
ウムやツー２化リチウムなど、感光層（実施例において
は重クロム酸アンモン含浸ゼラチン）より低い屈折率を
有することにより反射防止膜として機能し、かつ、ある
種の溶媒に溶解する物質で、なおかつ蒸着などの方法に
より均一な膜が得られる透明体であれば何でも用いるこ
とができる。また、単層■λに限らず、溶媒により除去
可能なものであれば複合膜や多層膜を用いることもでき
る。
ム単層膜を用いたがこれに限らず、その他フッ化ナトリ
ウムやツー２化リチウムなど、感光層（実施例において
は重クロム酸アンモン含浸ゼラチン）より低い屈折率を
有することにより反射防止膜として機能し、かつ、ある
種の溶媒に溶解する物質で、なおかつ蒸着などの方法に
より均一な膜が得られる透明体であれば何でも用いるこ
とができる。また、単層■λに限らず、溶媒により除去
可能なものであれば複合膜や多層膜を用いることもでき
る。
さらに、上記実施例では感光層として重クロム酸アンモ
ン含浸ゼラチンを用いたが、この他に利用可能な感光材
料としては、ハロゲン化銀乳剤、フォトレジスト・アク
リル酸モノマー（メチレンブルー増感）などのフォトポ
リマー、 ＫＢｒφＮａｃ Ｉ・スピロピラン類などの
フォトクロミック材料、ＬｉＮｂＯ３・ＳｒＯ，７５Ｂ
ａ０．２５ Ｎｂ２ ０６ ・Ｂｉａ Ｔｉ３ ０１２
−Ｚｎ５ｅなどの強誘電体、 ＭｎＢ１ ＊ ＥｕＯな
どの強磁性体、カルコゲンガラス、ルミネッセントガラ
スなどが挙げられる。
ン含浸ゼラチンを用いたが、この他に利用可能な感光材
料としては、ハロゲン化銀乳剤、フォトレジスト・アク
リル酸モノマー（メチレンブルー増感）などのフォトポ
リマー、 ＫＢｒφＮａｃ Ｉ・スピロピラン類などの
フォトクロミック材料、ＬｉＮｂＯ３・ＳｒＯ，７５Ｂ
ａ０．２５ Ｎｂ２ ０６ ・Ｂｉａ Ｔｉ３ ０１２
−Ｚｎ５ｅなどの強誘電体、 ＭｎＢ１ ＊ ＥｕＯな
どの強磁性体、カルコゲンガラス、ルミネッセントガラ
スなどが挙げられる。
以上のように、この発明によれば、感光性基板上に反射
防止機能を有する皮膜を形成する工程。
防止機能を有する皮膜を形成する工程。
この基板を露光する工程、溶媒洗浄により上記皮ｎりを
除去する工程および露光像を現像する工程を有すること
を特徴とするホログラムの製造方法としたので、これに
より得られるホログラムの諸性能を損うことなく、再生
時ゴースト像を低減できる効果がある。
除去する工程および露光像を現像する工程を有すること
を特徴とするホログラムの製造方法としたので、これに
より得られるホログラムの諸性能を損うことなく、再生
時ゴースト像を低減できる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例によるホログラム製造工程
を、第２図はそのホログラムの記録状態を示すものであ
り、第３図は従来のホログラム製造工程を、第４図はそ
の時のホログラムの記録状態を示すものである。■はゼ
ラチン塗布、ＩＩは感光化、■は反射防止膜形成、■は
露光、■は反射防１Ｆ膜除去、■ａは洗浄エツチング、
■ａは乾燥、■ｂは初期現像、■ｂは最終現像の各工程
を示す、また、１１オガラス基板、２Ａは感光性膜、３
０は反射防止膜である。なお、図中同一符号は同一また
は相当工程および部分を示す。
を、第２図はそのホログラムの記録状態を示すものであ
り、第３図は従来のホログラム製造工程を、第４図はそ
の時のホログラムの記録状態を示すものである。■はゼ
ラチン塗布、ＩＩは感光化、■は反射防止膜形成、■は
露光、■は反射防１Ｆ膜除去、■ａは洗浄エツチング、
■ａは乾燥、■ｂは初期現像、■ｂは最終現像の各工程
を示す、また、１１オガラス基板、２Ａは感光性膜、３
０は反射防止膜である。なお、図中同一符号は同一また
は相当工程および部分を示す。
Claims (2)
- （１）感光性基板上に反射防止機能を有する皮膜を形成
する工程、この基板を露光する工程、溶媒洗浄により上
記皮膜を除去する工程、および露光像を現像する工程を
有することを特徴とするホログラムの製造方法。 - （２）上記、溶媒洗浄により、反射防止機能を有する皮
膜を除去する工程と、露光像を現像する工程とを同時に
行なうことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のホ
ログラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60221526A JPS6280688A (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60221526A JPS6280688A (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | ホログラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6280688A true JPS6280688A (ja) | 1987-04-14 |
Family
ID=16768093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60221526A Pending JPS6280688A (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 | ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6280688A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997040412A1 (fr) * | 1996-04-23 | 1997-10-30 | Komatsu Ltd. | Dispositif optique confocal et dispositif d'exposition a un hologramme |
-
1985
- 1985-10-04 JP JP60221526A patent/JPS6280688A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997040412A1 (fr) * | 1996-04-23 | 1997-10-30 | Komatsu Ltd. | Dispositif optique confocal et dispositif d'exposition a un hologramme |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5162927A (en) | High efficiency holograms by multiple-layer holography | |
| US3944420A (en) | Generation of permanent phase holograms and relief patterns in durable media by chemical etching | |
| US3617274A (en) | Hardened gelatin holographic recording medium | |
| US3825317A (en) | Application of a novel photosensitive member to hologram | |
| Chang | Post-processing of developed dichromated gelatin holograms | |
| US3567444A (en) | Holographic recording method | |
| JPS6280688A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
| EP1262827B1 (en) | Post-exposure treatment method of silver halide emulsion layer, hologram manufactured using the method, and holographic optical element including the hologram | |
| US3728118A (en) | Process for producing multiple recording in a single medium | |
| JPS6280687A (ja) | ホログラム用感光性基板 | |
| JP2926847B2 (ja) | ホログラムの露光方法 | |
| US4433893A (en) | Process for producing holograms | |
| KR100322748B1 (ko) | 실버할라이드 홀로그램 기록매질의 제조 방법 | |
| JPH04250486A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
| GB2161620A (en) | Preparing holograms | |
| Kim et al. | Transmission and reflection SHSG holograms | |
| JP2733931B2 (ja) | ホログラムの製造方法 | |
| JPH0241755B2 (ja) | ||
| RU2008716C1 (ru) | Способ изготовления голографического материала | |
| JPS63163453A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
| JPH0151191B2 (ja) | ||
| JP2921005B2 (ja) | ホログラムの製造方法 | |
| JP2620555B2 (ja) | 体積位相ホログラムの製造方法 | |
| JPH0229773A (ja) | ホログラムの作製方法 | |
| Jeong | Control of reconstruction wavelength of dichromated gelatin holographic filter |