JPS6278260U - - Google Patents

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JPS6278260U
JPS6278260U JP1985167935U JP16793585U JPS6278260U JP S6278260 U JPS6278260 U JP S6278260U JP 1985167935 U JP1985167935 U JP 1985167935U JP 16793585 U JP16793585 U JP 16793585U JP S6278260 U JPS6278260 U JP S6278260U
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JP
Japan
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wafer
thickness
drive
semiconductor wafer
polishing
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JP1985167935U
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  • Control Of Electric Motors In General (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による研摩テーブル部の断面図
、第2図は本考案による研摩テーブル部の平面図
、第3図は従来構造の半導体ウエハ研摩装置の研
摩テーブルの断面図である。 1…吸着テーブル、2…吸着テーブルの駆動源
、3…研摩テーブル、4…研摩テーブルの駆動源
、5…ウエハ厚測定部、6…搬送アーム、7…歯
車列、8…速度制御部。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 回転する複数の半導体ウエハ装着用吸着テーブ
    ルを回転研摩テーブル上に同心状に設置してなる
    半導体ウエハの研摩装置において、前記吸着テー
    ブルを個々に独立して回転駆動する駆動部と、吸
    着テーブルへのウエハ搬入側で研摩前の半導体ウ
    エハの板厚を測定するウエハ厚測定部と、ウエハ
    厚測定部の出力を入力として前記駆動部による吸
    着テーブルの駆動速度をウエハの板厚に対応した
    速度にそれぞれ設定する速度制御部とを有するこ
    とを特徴とする半導体ウエハの研摩装置。
JP1985167935U 1985-10-31 1985-10-31 Pending JPS6278260U (ja)

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JP1985167935U JPS6278260U (ja) 1985-10-31 1985-10-31

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JP1985167935U JPS6278260U (ja) 1985-10-31 1985-10-31

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JPS6278260U true JPS6278260U (ja) 1987-05-19

Family

ID=31100336

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1985167935U Pending JPS6278260U (ja) 1985-10-31 1985-10-31

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6278260U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02199834A (ja) * 1989-01-30 1990-08-08 Shin Etsu Handotai Co Ltd 薄板研磨方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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