JPS6276531A - 基板収納方法 - Google Patents

基板収納方法

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Publication number
JPS6276531A
JPS6276531A JP60215492A JP21549285A JPS6276531A JP S6276531 A JPS6276531 A JP S6276531A JP 60215492 A JP60215492 A JP 60215492A JP 21549285 A JP21549285 A JP 21549285A JP S6276531 A JPS6276531 A JP S6276531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
reticle
dust
box member
surface portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60215492A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Kosugi
小杉　雅夫
Kazuo Iizuka
和夫 飯塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP60215492A priority Critical patent/JPS6276531A/ja
Priority to US06/911,414 priority patent/US4776462A/en
Publication of JPS6276531A publication Critical patent/JPS6276531A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体製造装置、特に自動的にマスク、レチク
ル等の基板を交換する装置において、マスク、レチクル
等を収納する方法に関するものである。
〔従来技術〕
半導体素子製造用のマスク、レチクル等（以下レチクル
と呼ぶ）は塵、ホコリ等により精度に悪影響を受けやす
いので、その取扱いには最大限の注意を必要とする。当
然自動的にレチクルを収納する際にもレチクルに塵が付
着しない、又塵が発生しないような防塵策を講じなけれ
ばならない。
その１つとしてレチクルを密閉容器内に収納し、その清
浄度を保存する方法が考えられてきた。しかし従来はこ
の方法で収納されたレチクルを取り出す時にはその容器
の上面の開口部を封じる蓋を自動的に扉聞けしたり持ち
上げたりしていた。この為、長期間放置により蓋の上に
堆積した塵を蓋の移動で舞い上げやすく、この時蓋上げ
動作による収納容器の瞬間的体積膨張の為に容器内が低
圧化するので前述の舞い上がった塵を吸い込んでしまい
、レチクル上に塵の降りかかる可能性があった。
〔発明の目的〕
本発明は前述従来例の欠点を除去し、レチクル自動挿入
出時に塵の舞い上がりにくい、基板収納容器を用いた基
板収納方法を提供する事にある。
〔実施例〕
第１図に本発明の実施例を示す、第１図（１）はレチク
ルの密閉収納状態、（ｎ）はレチクル挿入出時の開放状
態である。１はレチクル、２はレチクル１を収納する箱
部材、３は箱部材２の開口部を略密閉する蓋部材、２ａ
は蓋部材を扉開けする時に回転中心となるピンである。
図には示されていないが、容器は容器収納部材に設置さ
れている。
第１図（ｉ）でレチクル１は水平面に対して傾斜させて
収納されている。この時収納容器も同様に傾斜させてい
るので、収納容器を水平に置いた場合に比較して蓋部材
３に塵の堆積する可能性が少なくなっている。レチクル
１を挿入出する為に容器を開放する時には下側の箱部材
２を開放機構等により自動的に扉開は風に下げて第１図
（ｉ）の状態にする。このＶＡＭ部材３は固定されて動
かない。開放後レチクルはアーム等でアライナ−のレチ
クルステージに運ばれる。箱部材２は下側にあるので、
塵はほとんど堆積しない。この為箱部材２を動かして塵
を舞い上げる可能性が少ない。
従ってレチクルｌに塵が降りかかる確率が従来の方法よ
り犬きく下がる本になる。またレチクル１を最初に傾斜
させておく事で、箱部材２を下げて容器を開放してもレ
チクル１を水平状態にしてアーム等で自動挿入出できる
という利点がある。
第２図に本発明の別の実施例を示す、第２図（ｉ）はレ
チクルの密閉収納状態、（ｉｉ）はレチクル挿入出時の
開放状態である。第１図と同じ部材には同じ表示記号を
記載しである。第１図同様容器は容器収納部材に設置さ
れている。第２図（１）において蓋部材３は箱部材２の
下側にある。この為第１図の実施例の箱部材と同様蓋部
材３に塵は堆積しにくい、レチクルを挿入中する時には
第２図（ｉ）のように蓋部材３を自動的に扉開けして下
げる。この時箱部材２は固定されていて動かない、塵の
堆積のほとんどない蓋部材３を動かして容器を開くので
塵を舞い上げる事もほとんどない。又、蓋部材３をどれ
だけ動かしてもレチクル１は常に水平状態にできて、ア
ーム等による自動挿脱が容易であり、又常に上側を箱部
羽２が覆って一ヒからの塵の降下を防ぐ。
第１図、第２図の実施例では蓋部材ないし箱部材を扉開
けする場合についてのみ記載したが、下側にある蓋部材
ないし箱部材を分離して下に降ろす構成や第１図、第２
図の（ｊ）の状態から箱部材２を引き出し状に動かす構
成にしてもかまわない。又容器、蓋部材２箱部材等の形
状も適宜変更してかまわない。
〔発明の効果〕
本発明によりレチクル挿入出時に塵を舞い上げてレチク
ル上に塵を降りおとす１■のない基板収納容器を用いた
基板収納が可能になったイ。。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の基板収納方法の一実施例を示す図、第
２図は同別実施例を示す図である。第１図、第２図とも
に（ｉ）は基板収納状態、（ｎ）は基板挿入出時の開放
状態を示す。 図中； １ニレチクル　２二箱部材　２ａ：ビン３：蓋部材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）基板を収納する箱部材とその開口部を略密閉状態
    にする蓋部材とで構成された容器に基板を収納する基板
    収納方法において、前記箱部材と前記蓋部材のうちいず
    れか一方が前記容器の上面部を、もう一方が前記容器の
    下面部を含み、前記基板を挿入出する為に前記容器を開
    放する際に前記下面部を含む部材を動かす事を特徴とす
    る基板収納方法。
  2. （２）前記容器が略密閉状態にある時に、前記容器に収
    納されている前記基板が傾斜している事を特徴とする特
    許請求の範囲第１項に記載の基板収納方法。
JP60215492A 1985-09-27 1985-09-27 基板収納方法 Pending JPS6276531A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60215492A JPS6276531A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 基板収納方法
US06/911,414 US4776462A (en) 1985-09-27 1986-09-25 Container for a sheet-like article

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60215492A JPS6276531A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 基板収納方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6276531A true JPS6276531A (ja) 1987-04-08

Family

ID=16673278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60215492A Pending JPS6276531A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 基板収納方法

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JP (1) JPS6276531A (ja)

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