JPS6274374A - ハイパ−サ−ミア装置 - Google Patents
ハイパ−サ−ミア装置Info
- Publication number
- JPS6274374A JPS6274374A JP21637685A JP21637685A JPS6274374A JP S6274374 A JPS6274374 A JP S6274374A JP 21637685 A JP21637685 A JP 21637685A JP 21637685 A JP21637685 A JP 21637685A JP S6274374 A JPS6274374 A JP S6274374A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- temperature
- living body
- electrode
- probe
- Prior art date
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- Electrotherapy Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は加温治療を行なうための／＼イパーサーミア
装置に関する。
装置に関する。
従来の技術
温熱療法（ハイパーサーミア）は、癌の治療に優れた効
果をあげるものとして知られているが、加温中に体内温
度分布をモニタしていないと予期しない場所が高温にな
ったり、あるいは所定の温度（４３℃以上）に達してい
ないことがある。
果をあげるものとして知られているが、加温中に体内温
度分布をモニタしていないと予期しない場所が高温にな
ったり、あるいは所定の温度（４３℃以上）に達してい
ないことがある。
そこで、高周波誘導加熱方式（第３図）またはマイクロ
波加熱方式（第４図）で生体を加温するが、従来では第
３図または第４図のようにして生体内の温度をＡｌｌ！
定するようにしている。高岡波誘導加熱方式のハイパー
サーミア装置では、第３図のように加熱エネルギ源ｌか
ら発生する高周波（周波数５〜２４５０ＭＨｚ）エネル
ギが電極２１．２２に印加され、生体３が誘導加熱され
る。
波加熱方式（第４図）で生体を加温するが、従来では第
３図または第４図のようにして生体内の温度をＡｌｌ！
定するようにしている。高岡波誘導加熱方式のハイパー
サーミア装置では、第３図のように加熱エネルギ源ｌか
ら発生する高周波（周波数５〜２４５０ＭＨｚ）エネル
ギが電極２１．２２に印加され、生体３が誘導加熱され
る。
マイクロ波加熱方式のハイパーサーミア装置では、第４
図のように加熱エネルギ源１からのエネルギがアプリケ
ータ（アンテナ）４より生体３内に放射され、加熱され
る。流体層５１．５２は。
図のように加熱エネルギ源１からのエネルギがアプリケ
ータ（アンテナ）４より生体３内に放射され、加熱され
る。流体層５１．５２は。
これらの高周波加熱またはマイクロ波加熱において、生
体３の表面の冷却のため、および電極２１．２２、アプ
リケータ４と生体３とのインピータンス整合のために、
生体３の表面と電極２１．２２またはアプリケータ４と
の間に置かれることが多い。
体３の表面の冷却のため、および電極２１．２２、アプ
リケータ４と生体３とのインピータンス整合のために、
生体３の表面と電極２１．２２またはアプリケータ４と
の間に置かれることが多い。
生体３内の温度は、サーミスタや熱電対などの温度掻出
素子６を生体３内に刺込れ、測温装置７によってＪｌｌ
＋定される。そして、Δ１１温装′ｊ！１７で温度表示
したり、その温度測定信号を制御装置８にフィードバッ
クする。制御装置８は測定した温度に応じて加熱エネル
ギ源ｌの電圧、周波数、位相等を制御し、生体３を目的
の温度に維持する。
素子６を生体３内に刺込れ、測温装置７によってＪｌｌ
＋定される。そして、Δ１１温装′ｊ！１７で温度表示
したり、その温度測定信号を制御装置８にフィードバッ
クする。制御装置８は測定した温度に応じて加熱エネル
ギ源ｌの電圧、周波数、位相等を制御し、生体３を目的
の温度に維持する。
発明が解決しようとする問題点
しかし、従来のハイパーサーミア装置のように、サーミ
スタや熱電対を患者体内に刺入れて温度を測定したり、
加温制御を行なうというのでは、患者の負担が大きく好
ましいことではない。
スタや熱電対を患者体内に刺入れて温度を測定したり、
加温制御を行なうというのでは、患者の負担が大きく好
ましいことではない。
しかも、サーミスタや熱電対では限られた点しかδ１１
定できないので、ホットスポットが生じても分らずに加
温を続は患者に火傷を負わす危険もある。
定できないので、ホットスポットが生じても分らずに加
温を続は患者に火傷を負わす危険もある。
この発明は、加温中の生体内温度分布を無侵襲に測定す
ることによって、患者に負担を与えず、しかも安全なハ
イパーサーミア装置を提供することを目的とする。
ることによって、患者に負担を与えず、しかも安全なハ
イパーサーミア装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
この発明によるハイパーサーミア装置は、加熱エネルギ
源と、流体を介して生体表面にあてがわれ、上記加熱エ
ネルギ源よりエネルギ供給を受ける電極またはアプリケ
ータと、上記電極またはアプリケータと一体に形成され
るプローブを備える超音波測温装置とからなる。
源と、流体を介して生体表面にあてがわれ、上記加熱エ
ネルギ源よりエネルギ供給を受ける電極またはアプリケ
ータと、上記電極またはアプリケータと一体に形成され
るプローブを備える超音波測温装置とからなる。
作 用
加温治療中の生体温度を、超音波測温装置により無侵襲
に測定することができる。したがって１、ｐ者に負担を
かけることなしに、加温中の体内温度分布をモニタした
り、温度制御を行なったりできる。しかも、超音波側温
装置のプローブは加温用の一心極またはアプリケータと
一体であるため、加温中に随時温度測定することが容易
であるとともに、加温用電極およびアプリケータの位置
再現性もよい。
に測定することができる。したがって１、ｐ者に負担を
かけることなしに、加温中の体内温度分布をモニタした
り、温度制御を行なったりできる。しかも、超音波側温
装置のプローブは加温用の一心極またはアプリケータと
一体であるため、加温中に随時温度測定することが容易
であるとともに、加温用電極およびアプリケータの位置
再現性もよい。
実施例
第１図Ａ、Ｈにおいて、流体層５１内に回転軸１１が設
けられ、この軸１１に加温用の電極２１とプローブ９と
が一体に設けられて、軸１１によって一体に回転するよ
うにされている。このプローブ９はａＲ波測温装置１０
のプローブであり、ここから扇形の超音波の送・受波が
なされる。加熱エネルギ源１からの高周波エネルギは、
生体３をはさんで対向配置された電極２１と′上極２２
に供給され、生体３が誘導加熱される。流体層５工、５
２は、電極２１．２２と生体３とのインピーダンス整合
のため、および生体３の表面の冷却のために使用される
。
けられ、この軸１１に加温用の電極２１とプローブ９と
が一体に設けられて、軸１１によって一体に回転するよ
うにされている。このプローブ９はａＲ波測温装置１０
のプローブであり、ここから扇形の超音波の送・受波が
なされる。加熱エネルギ源１からの高周波エネルギは、
生体３をはさんで対向配置された電極２１と′上極２２
に供給され、生体３が誘導加熱される。流体層５工、５
２は、電極２１．２２と生体３とのインピーダンス整合
のため、および生体３の表面の冷却のために使用される
。
加温時には第１図Ａのように電極２１が生体３に近づけ
ちれ、プローブ９は退避した位置にある。この状態で加
熱エネルギＪｌから電Ｍ１２１．２２にエネルギが供給
されることによって生体３が１誘導加熱される。
ちれ、プローブ９は退避した位置にある。この状態で加
熱エネルギＪｌから電Ｍ１２１．２２にエネルギが供給
されることによって生体３が１誘導加熱される。
つぎにＡｌｌ＋温時には第１図Ｂの状態とされる。すな
わち、制御装置８からの指令などにより回転軸１１が第
１図Ａの状態から矢印のように回転してプローブ９が生
体３に近づけられ、電極２１は退避する。このとき、電
極２１．２２にエネルギを供給することは停止され、超
音波側温装置１０が動作して、プローブ９から超音波の
扇形ビームが送波され、その後受波される。この受波信
号の減衰や周波数特性等の温度依存性を利用して、超音
波測温装置ｌＯにより生体３内の広い範囲での温度分布
を求めることができる。こうして求められる生体３内の
温度分布は制御装置８にフィードパンクされ、加熱エネ
ルギ源工の加熱パラメータ（電圧、位相、周波数等）が
制御される。
わち、制御装置８からの指令などにより回転軸１１が第
１図Ａの状態から矢印のように回転してプローブ９が生
体３に近づけられ、電極２１は退避する。このとき、電
極２１．２２にエネルギを供給することは停止され、超
音波側温装置１０が動作して、プローブ９から超音波の
扇形ビームが送波され、その後受波される。この受波信
号の減衰や周波数特性等の温度依存性を利用して、超音
波測温装置ｌＯにより生体３内の広い範囲での温度分布
を求めることができる。こうして求められる生体３内の
温度分布は制御装置８にフィードパンクされ、加熱エネ
ルギ源工の加熱パラメータ（電圧、位相、周波数等）が
制御される。
こうして、つぎに加温状態とされたときに、生体３内の
温度分布が所望のものとなるよう制御されながら加温さ
れることになる。この際、電極２１とプローブ９と′が
回転軸１１に取り付けられて一体に回転するため、加温
と３１１温とを筒中に切り換え、る、−一とができると
ともに、電極２１およびプローブ９の位置再現性も良好
で、常に同じ状態で加温、Ｊｌ＋温を行なうことができ
、長い時間の温熱療法を安定に遂行できる。このように
して、たとえば５分の加温と３０秒の４１１温とを繰り
返して３０〜９０分の加温治療を行なえば、所望の温度
分布での温熱療法を実行できる。
温度分布が所望のものとなるよう制御されながら加温さ
れることになる。この際、電極２１とプローブ９と′が
回転軸１１に取り付けられて一体に回転するため、加温
と３１１温とを筒中に切り換え、る、−一とができると
ともに、電極２１およびプローブ９の位置再現性も良好
で、常に同じ状態で加温、Ｊｌ＋温を行なうことができ
、長い時間の温熱療法を安定に遂行できる。このように
して、たとえば５分の加温と３０秒の４１１温とを繰り
返して３０〜９０分の加温治療を行なえば、所望の温度
分布での温熱療法を実行できる。
なお、上記では高周波誘導加熱方式を例に説明したが、
マイクロ波加熱方式の場合でも同様である。
マイクロ波加熱方式の場合でも同様である。
また、高周波誘導加熱方式の場合、上記のように電極２
１とプローブ９とを一体に回転させるのでなく、第２図
Ａ、Ｂのように、加熱時には電極２１ａ、２１ｂが一体
となり（第２図Ａ）、測温時には相互に分離して離れる
（第２図Ｂ）ような構造をとることもできる。
１とプローブ９とを一体に回転させるのでなく、第２図
Ａ、Ｂのように、加熱時には電極２１ａ、２１ｂが一体
となり（第２図Ａ）、測温時には相互に分離して離れる
（第２図Ｂ）ような構造をとることもできる。
発明の効果
この発明のハイパーサーミア装着を用いれば。
加温中の生体内温度分布を無侵襲にモニタすることがで
き、温度制御も正確になる。無侵襲に温度′Ａｌｌ＋定
できることによって、７ｍ者に負担を与えずにすむ。し
かも限られた測定点ではなく、広い範囲での温度の１）
７を測定することができるので、所望の温度分布での温
熱療法を行なうことができ、治療効果が大きい、さらに
、ホットスポットなどが生じてもそれを直ちに発見でき
、きわめて安全である。
き、温度制御も正確になる。無侵襲に温度′Ａｌｌ＋定
できることによって、７ｍ者に負担を与えずにすむ。し
かも限られた測定点ではなく、広い範囲での温度の１）
７を測定することができるので、所望の温度分布での温
熱療法を行なうことができ、治療効果が大きい、さらに
、ホットスポットなどが生じてもそれを直ちに発見でき
、きわめて安全である。
第１図Ａ、Ｂはこの発明の一実施例を示すもので、第１
図Ａは加温中の状態を示すブロック図、第１図Ｂは温度
測定中の状態を示すブロック図、第２図Ａ、Ｂは他の実
施例に関するもので、第２図Ａは加温中の状態を、第２
図Ｂは温度測定中の状ｊ島をそれぞれ示すブロック図、
第３図および第４図はそれぞれ従来例を示すブロック図
である。 Ｊ・・・加熱エネルギ源 ２１．２２・・・電極３・
・・生体 ４・・・アプリｈ−タ５１．
５２・・・流体層 ６・・・温用検出未ｆ７・・・測
温装置 ８・・・制御装置９・・・プローブ
１０・・・超音波Ｍ１温装置１１・・・回転軸
図Ａは加温中の状態を示すブロック図、第１図Ｂは温度
測定中の状態を示すブロック図、第２図Ａ、Ｂは他の実
施例に関するもので、第２図Ａは加温中の状態を、第２
図Ｂは温度測定中の状ｊ島をそれぞれ示すブロック図、
第３図および第４図はそれぞれ従来例を示すブロック図
である。 Ｊ・・・加熱エネルギ源 ２１．２２・・・電極３・
・・生体 ４・・・アプリｈ−タ５１．
５２・・・流体層 ６・・・温用検出未ｆ７・・・測
温装置 ８・・・制御装置９・・・プローブ
１０・・・超音波Ｍ１温装置１１・・・回転軸
Claims (1)
- （１）加熱エネルギ源と、流体を介して生体表面にあて
がわれ、上記加熱エネルギ源よりエネルギ供給を受ける
電極またはアプリケータと、上記電極またはアプリケー
タと一体に形成されるプローブを備える超音波測温装置
とからなるハイパーサーミア装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60216376A JP2503952B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60216376A JP2503952B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6274374A true JPS6274374A (ja) | 1987-04-06 |
| JP2503952B2 JP2503952B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=16687600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60216376A Expired - Lifetime JP2503952B2 (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2503952B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63252172A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-19 | オリンパス光学工業株式会社 | ハイパ−サ−ミア装置 |
| JPS63305863A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-13 | Agency Of Ind Science & Technol | ハイパ−サ−ミア装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58116346A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-11 | 株式会社島津製作所 | 超音波診断装置 |
| JPS59222163A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-13 | 山本ビニタ−株式会社 | 高周波加温療法における患部温度検出装置 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP60216376A patent/JP2503952B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58116346A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-11 | 株式会社島津製作所 | 超音波診断装置 |
| JPS59222163A (ja) * | 1983-05-30 | 1984-12-13 | 山本ビニタ−株式会社 | 高周波加温療法における患部温度検出装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63252172A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-19 | オリンパス光学工業株式会社 | ハイパ−サ−ミア装置 |
| JP2635585B2 (ja) * | 1987-04-10 | 1997-07-30 | オリンパス光学工業株式会社 | ハイパーサーミア装置 |
| JPS63305863A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-13 | Agency Of Ind Science & Technol | ハイパ−サ−ミア装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2503952B2 (ja) | 1996-06-05 |
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