JPS6273706A - ウエハ加熱回転機構 - Google Patents

ウエハ加熱回転機構

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Publication number
JPS6273706A
JPS6273706A JP21238885A JP21238885A JPS6273706A JP S6273706 A JPS6273706 A JP S6273706A JP 21238885 A JP21238885 A JP 21238885A JP 21238885 A JP21238885 A JP 21238885A JP S6273706 A JPS6273706 A JP S6273706A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
heating
elevational
holder
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21238885A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuharu Yamamoto
山本 立春
Yoshimasa Kondo
近藤 芳正
Sumio Yamaguchi
山口 純男
Akira Shintani
新谷 昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP21238885A priority Critical patent/JPS6273706A/ja
Publication of JPS6273706A publication Critical patent/JPS6273706A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、真空槽内におけるウェハの加熱および回転に
加え、受渡した上下動のみによって自動的に行うことを
特徴とする。ウェハ加熱回転機構に関するものである。
〔発明の背景〕
ウェハ表面上に多種にわたる薄膜を形成する上において
、ウェハの加熱と同時にプロセスの均一化を計るため回
転を加えなければならないという要求が数多く存在する
また、近年特に半導体の量産化の傾向が強まる中で、半
導体製造装置全体の自動化が積極的に進められており、
ウェハの真空槽内への自動搬送と連動し、ウェハ処理機
構への受渡しも自動化する必要がある。
しかし、ウェハの自動受渡しが可能なウェハ加熱回転機
構は、ウェハ回転以外の複数の自由度を有することにな
り、それぞれ独立した位置制御を必要とすることが考え
られるため、構造が複雑化し、高真空中あるいは腐食性
ガス雰囲気中において、高温加熱をして使用する場合に
は、摺動部の信頼性と寿命が問題となる。さらに、ウェ
ハの回転運動面の方向を水平以外に取る必要がある場合
には、一層この傾向が強まる。
このため、従来から異なる真空NI’llの搬送は自動
で行うが、ウェハ処理機構への受渡しは手動で行わなけ
ればならないので、自動化の鎖がそこで断たれてしまう
という欠点があった。
本発明は、このような従来の欠点を解消するためになさ
れたもので、ウェハの回転運動面の方向に制約されず、
受渡しを自動的に行うことのできる構造を有した、ウェ
ハ加熱回転機構を提供するものである。
なお、この種の装置として関連するものには例えば特開
昭54−141575が挙げられる。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、従来のウェハを加熱し1回転させる処
理機構に対し、それと独立した搬送機構との受渡しを自
動的に行うための機能を加えたウェハ加熱回転機構と、
それに対応したウェハ保持具の構造を提供することにあ
る。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するために、本発明においては、ウェ
ハの加熱と回転に加え、受渡しに適合した構造を有する
ウェハ保持具を、上下動の位置制御のみで受渡しが可能
な機構を、一枚のフランジ上に一体として構成したもの
である。
〔発明の実施例〕
以下、実施例を用いて、その内容を詳細に説明する。第
1図はウェハ保持具の構造を示したちのである。ウェハ
保持具は上円板1と下円板2から構成される。この2枚
の円板は、下円板の」二側面に挿入され固定されている
ビン3により結合できる。また、その手順はウェハ4を
下円板上に乗せさらに上円板を同図の状態にはめ合せて
から、回転し、内周面に設けられたビンをつかむための
溝5にビンを入れる。とのウェハ保持具はニッケル。
インコネル等の高融点で耐腐食性材料を用いる。
第2図は、とのウェハ保持具を受渡す際の概略を示した
ものである。まず、搬送機構のフォーク6をウェハ保持
具の上段の溝7にはめ合せた状態で、ウェハ回転加熱機
構上方に位置させる。これに対しウェハ回転加熱機構の
上下機構はウェハ保持具の下段の溝8にツメ9がはめ合
されるまで上昇しこれを保持する。同図はその際の状態
を示したものであり、ツメ9はウェハ保持具に接触した
時から溝にはめ合されるまで周面により1強制的に開か
れることになる。次に、フォークは後退してゆきウェハ
保持具から放される。そして、上下機構は所定の位置ま
で下降してゆき、ウェハの受渡しを完了することになる
。一方、ウェハ加熱回転機構から、搬送機構のフォーク
への受渡しは、以上の順序を逆に行うことで可能となる
。なお、ここで用いるツメ9の材料としては、ウェハ保
持具の周面と摩擦させるため、セラミックあるいはカー
ボンのような、耐摩耗性があり、低摩擦係数でしかも高
融点のものを用いる。
第3図は、ウェハ保持具を保持した状態における、加熱
回転機構の真空槽内部の構造を示したものである。ツメ
9を上端に固定したアーム10は、支持部11の支点1
2を中心に回転でき、アームの下端のバネ13により保
持力が与えられ、ストッパ14でバクアップして所定の
姿勢を保っている。これら一連の構造を4fi、ベース
15上に構成し、これによりウェハ保持具を保持する構
造とする。ウェハ保持具の受渡しと回転は、このベース
に上下動と回転を与えることにより行われる。
この機構におけるウェハ保持具受渡しの際の上下動は、
真空槽外部よりベローズを用いて導入される上下動を中
央の連結棒16が受け、支柱17と干渉しないように接
続ビン]68で接続されたローラ支持部19を介し、上
下のローラ20に伝えられると同時に、ベアリング21
を介しベース及びベース15と一体化されている従動歯
車22に伝えられる。これにより、ローラ20は支柱の
外面に添ってころがり、上下動の運動精度を確保する。
また、この上下動による受渡しを完了した後、薄膜成長
を行う際の回転運動は、大気側から回転導入機によって
導入された回転運動を#23が受け、これと接続された
駆動歯車24により、従動歯車と一体となったベース1
5に伝達される8駆動歯車の歯幅は上昇時でも従動歯車
との噛合状態を維持するため、上昇距離だけ長く作られ
ている。
また、ウェハの加熱はケースに納められたヒーター25
により間接的に行い、この際のウェハ保持具2との間げ
きは1謂と小さくして、ヒーターの放射熱を効率的に受
取れるようにしている。さらに、ヒータ下−面からの放
射熱を遮断するためのラジエーションシール板26をヒ
ーターベース27との間に設けている。同図に示すよう
にウエハ保持具はこれらを包み込む内面形状になってお
り、ウェハ加熱には有効な熱的構造となっている。
〔発明の効果〕
以上、説明したごとく1本発明によれば、次のような効
果が得られる。
(1)ウェハを破損および汚染から守りながら、完全な
自動受渡しが可能となり、また、上下動およびその位置
制御のみで受渡しを行うため、構造が簡単にでき、真空
装置としての信頼性が向上する。
(2)ウェハ加熱回転機構は一枚のフランジ上に形成さ
れているため、フランジの取付角度を種々に変えて真空
槽に取付けることにより、ウェハの水平面以外の姿勢で
の自動受渡しと加熱回転が可能となり、各種の半導体プ
ロセスに対応できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はウェハ保持具の断面図、第2図はウェハ保持具
を受渡す際に、フォークとツメがウェハ保持具を保持し
ている状態の見取図、第3図はウェハ保持具を保持した
状態における、ウェハ加熱回転機構の真空側の縦断面図
。 9・・・ツメ、13・・・バネ、20・・・ローラ、2
2・・・従動歯車、24・・・駆動歯車、17・・・支
柱、25・・・ヒータ。 代理人 弁理士 小川勝男  パへ 15、  / 第 l 囚

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ウェハを装着したウェハ保持具を、支柱をガイドと
    する上下動のみにより、搬送機構から自動的に脱着する
    ことが可能な保持機構と、この保持機構に前記上下動と
    は独立して回転を与えるための回転機構と、ウェハ加熱
    のためのヒーターを設けて構成されるウェハ加熱回転機
    構。
JP21238885A 1985-09-27 1985-09-27 ウエハ加熱回転機構 Pending JPS6273706A (ja)

Priority Applications (1)

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JP21238885A JPS6273706A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 ウエハ加熱回転機構

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JP21238885A JPS6273706A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 ウエハ加熱回転機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6273706A true JPS6273706A (ja) 1987-04-04

Family

ID=16621754

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21238885A Pending JPS6273706A (ja) 1985-09-27 1985-09-27 ウエハ加熱回転機構

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