JPS6269150A - ウエハ異物検査装置 - Google Patents
ウエハ異物検査装置Info
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- JPS6269150A JPS6269150A JP21052885A JP21052885A JPS6269150A JP S6269150 A JPS6269150 A JP S6269150A JP 21052885 A JP21052885 A JP 21052885A JP 21052885 A JP21052885 A JP 21052885A JP S6269150 A JPS6269150 A JP S6269150A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分!lIチコ
この発明は、ウェハの表面における異物の自j%などの
検査を自動的に行うウェハ′)′4物検^装置に関する
。
検査を自動的に行うウェハ′)′4物検^装置に関する
。
[従来の技術]
ウェハ異物@合装置として、尤ビームをウェハ而に照射
し、ウェハ而からの反射光を光電素子に入射させ、この
光電素子の出力信−」に)、(づへウニ・・面における
Vd物のイf’ i”#なとを判定するI+、1式のも
のがある。
し、ウェハ而からの反射光を光電素子に入射させ、この
光電素子の出力信−」に)、(づへウニ・・面における
Vd物のイf’ i”#なとを判定するI+、1式のも
のがある。
このような従来のウェハ異物検査装置においては、ホト
レジスト膜、アルミニウム& 7F M’X ナトのパ
ターンのないブランク膜が表面に被itされたウェハの
異物検査を行う場合、かなり大きな1!(f射角度、例
えば30度で光ビームがウェハ而に11(1射されるよ
うになっている。
レジスト膜、アルミニウム& 7F M’X ナトのパ
ターンのないブランク膜が表面に被itされたウェハの
異物検査を行う場合、かなり大きな1!(f射角度、例
えば30度で光ビームがウェハ而に11(1射されるよ
うになっている。
[解決しようとする問題点コ
光電素子の出力4+−j ”J−には、異物に関係した
り、;−J成分の外に、異物とは直接関係しないバンク
グラウンドノイズも含まれている。このバンクグラウン
ドノイズはできる限り減少させる必・災があるが、従来
装置はバ・ツクグラウンドノイズのレベルがかなり、5
:、いとともに、Vd物の1コ1検出を招くようなノイ
ズ成分が°多いという問題があった。
り、;−J成分の外に、異物とは直接関係しないバンク
グラウンドノイズも含まれている。このバンクグラウン
ドノイズはできる限り減少させる必・災があるが、従来
装置はバ・ツクグラウンドノイズのレベルがかなり、5
:、いとともに、Vd物の1コ1検出を招くようなノイ
ズ成分が°多いという問題があった。
発明者の研究によれば、従来のウェハ穴物検舎装置にお
けるバックグラウンドノイズには、ウェハ表面(ブラン
ク膜の表面)の状態により決まるノイズ成分だけではな
く、ブランク膜内11Sの状態に関係するノイズ成分と
、ブランク膜のドのウェハ素地面の状態に関係するノイ
ズ成分とが含まれている。
けるバックグラウンドノイズには、ウェハ表面(ブラン
ク膜の表面)の状態により決まるノイズ成分だけではな
く、ブランク膜内11Sの状態に関係するノイズ成分と
、ブランク膜のドのウェハ素地面の状態に関係するノイ
ズ成分とが含まれている。
ウェハ表面からの反射光を利用するというIt;tFp
17、最初のノイズ成分を完全に除去することは不II
丁能であり、また、その影響も致命的なものではない。
17、最初のノイズ成分を完全に除去することは不II
丁能であり、また、その影響も致命的なものではない。
しかし、後の2つのノイズ成分は、ウェハ内部の状態に
影−されるものであり、直接、汎検出の原因となるため
、除去すべきものである。
影−されるものであり、直接、汎検出の原因となるため
、除去すべきものである。
[発明の目的]
この発明の目的は、そのようなブランク膜付きウェハの
兇物検査の場合において、ウェハ内部の状態影響を軽減
し、その影響による異物の、=を検出を防由したウェハ
異物検査装置を提供することにある。
兇物検査の場合において、ウェハ内部の状態影響を軽減
し、その影響による異物の、=を検出を防由したウェハ
異物検査装置を提供することにある。
[問題点を解決するためのL段]
発明者の研究によれば、従来装置においてはビームの照
射5C1度が大きいため、ウェハ表面に入射した光ビー
ムの・部がブランク膜の内部に侵入し、ウェハ素地面で
反射され、11fびブランク膜を通過しウェハ表面に出
て光電素子に入射するために、前述の好ましくないノイ
ズ成分が牛じていたことが判明した。
射5C1度が大きいため、ウェハ表面に入射した光ビー
ムの・部がブランク膜の内部に侵入し、ウェハ素地面で
反射され、11fびブランク膜を通過しウェハ表面に出
て光電素子に入射するために、前述の好ましくないノイ
ズ成分が牛じていたことが判明した。
この点に青11シ、この発明にあっては、ウェハ而で光
ビームが実質的に全反射するように光ビームの照射角度
を!・分小さく選び、ウエノ1内部への光ビームの侵入
を防11−する。
ビームが実質的に全反射するように光ビームの照射角度
を!・分小さく選び、ウエノ1内部への光ビームの侵入
を防11−する。
このようにjl(1射角度を小さくすると、ウニ/1而
での光ビームのスポツ)が長く延びてしまい、1−分な
照射密度を得にくい。そこで、この発明にあっては、・
ンリンドリカlレレンズによって光ビームを特定の方向
に絞り、ウェハ而でのスポット形状を円形に近づける。
での光ビームのスポツ)が長く延びてしまい、1−分な
照射密度を得にくい。そこで、この発明にあっては、・
ンリンドリカlレレンズによって光ビームを特定の方向
に絞り、ウェハ而でのスポット形状を円形に近づける。
しかし、ウェハ而で光ビーム全反射させるような小さな
照射角度の場合(特に人777のウニ/%を検査対象と
した場合)、シリンドリカルレンズの配置1・、の制約
から、シリンドリカルレンズとスボントまでの距離はか
なり長くなってしまう。このような条f′1では、シリ
ンドリカルレンズにより光ビームを絞るだけで1・分な
照射密度を得ようとすると、シリンドリカルレンズの入
射光ビームの径を1・介入きくする必°昂がある。
照射角度の場合(特に人777のウニ/%を検査対象と
した場合)、シリンドリカルレンズの配置1・、の制約
から、シリンドリカルレンズとスボントまでの距離はか
なり長くなってしまう。このような条f′1では、シリ
ンドリカルレンズにより光ビームを絞るだけで1・分な
照射密度を得ようとすると、シリンドリカルレンズの入
射光ビームの径を1・介入きくする必°昂がある。
ところが、後述の実施例のように、光ビームとしてレー
ザ光を一般に用いるため、ビーム径の大きな光ビームを
発する光6:(を得に<<、また高価である。そこで、
この発明にあっては、光源とシリンドリカルレンズとの
間に、光ビーム径を拡大するためのエキスパンダを挿入
し、光6;]からの光ビームの径を格別人きくすること
なく、1・分な!((1耐密度を得る。
ザ光を一般に用いるため、ビーム径の大きな光ビームを
発する光6:(を得に<<、また高価である。そこで、
この発明にあっては、光源とシリンドリカルレンズとの
間に、光ビーム径を拡大するためのエキスパンダを挿入
し、光6;]からの光ビームの径を格別人きくすること
なく、1・分な!((1耐密度を得る。
[作用]
光ビームの照射角度が1°分小さく、ウェハ内部に光ビ
ームが侵入しないため、ウェハ内ffi<の状態の影響
によるILL検出が防11−される。
ームが侵入しないため、ウェハ内ffi<の状態の影響
によるILL検出が防11−される。
光源からの光ビームをエキスパンダにより拡大してから
シリンドリカルレンズに入射させるため、ウェハ而の1
1(1耐密度を1・分高めて(・分な検出感度をjII
られる。また、光ビーム径の大きな、高価な光源も必要
としない。
シリンドリカルレンズに入射させるため、ウェハ而の1
1(1耐密度を1・分高めて(・分な検出感度をjII
られる。また、光ビーム径の大きな、高価な光源も必要
としない。
[実施例]
以ド、図面を参jj((L、この発明の−・実施例につ
いて詳細に説明する。
いて詳細に説明する。
第1図は、この発明によるウェハ用異物検査装置の光学
系部分などの構成を簡略化して示す概認図である。第2
図は、同装置の信吋系および処理制御系のW1霞図であ
る。
系部分などの構成を簡略化して示す概認図である。第2
図は、同装置の信吋系および処理制御系のW1霞図であ
る。
まず第1図において、lOはX方向に摺動11J能にベ
ース12に支持されたXステージである。このXステー
ジ10には、ステッピングモータ14の回転軸に直結さ
れたスクリュー16が螺合しており、ステッピングモー
タ14を作動させることにより、Xステージ10をX方
向に進退させることができる。18はXステージ10の
X方向位置Xに対応したコード信S3・を発生するリニ
アエンコーダである。
ース12に支持されたXステージである。このXステー
ジ10には、ステッピングモータ14の回転軸に直結さ
れたスクリュー16が螺合しており、ステッピングモー
タ14を作動させることにより、Xステージ10をX方
向に進退させることができる。18はXステージ10の
X方向位置Xに対応したコード信S3・を発生するリニ
アエンコーダである。
Xステージ10には、Zステージ20がZ方向に移動1
1)能に取り付けられている。その移動丁・段は図中省
略されている。Zステージ20には、被NA物としての
ウェハ30が載置される回転ステージ22が回転可能に
支持されている。ここで、ウェハ30としては、ブラン
ク膜付きウエノ1(鏡面ウェハもII)能である)また
はパターン付きウェハをセントして検査1丁能である。
1)能に取り付けられている。その移動丁・段は図中省
略されている。Zステージ20には、被NA物としての
ウェハ30が載置される回転ステージ22が回転可能に
支持されている。ここで、ウェハ30としては、ブラン
ク膜付きウエノ1(鏡面ウェハもII)能である)また
はパターン付きウェハをセントして検査1丁能である。
この回転ステージ22は、直流モータ24と連結されて
おり、これを作動させることにより同転させられるよう
になっている。このモータ24には、その回転角度位置
0に対応したコード信シ3″を出力するロータリエンコ
ーダが内蔵されている。
おり、これを作動させることにより同転させられるよう
になっている。このモータ24には、その回転角度位置
0に対応したコード信シ3″を出力するロータリエンコ
ーダが内蔵されている。
なお、ウェハ30は、回転ステージ22に負I[吸着に
より位置決め固定されるが、そのための手段は図中省か
れている。
より位置決め固定されるが、そのための手段は図中省か
れている。
このソ4物検査装置は、偏光レーザ光を利用してウェハ
301.の異物を自動的に検査するものであり、ウェハ
30の1°、而(被検青白)に、S偏光レーザ光が!!
(1射される。そのために、S偏光レーザ光振器36.
38が設けられている。各S偏光レーザ光振器3B、3
8は、ある波長のS偏光レーザ光を発生するもので、例
えば波長が8300tングストロー1、の1′・9体レ
ーデ発娠蒸である。
301.の異物を自動的に検査するものであり、ウェハ
30の1°、而(被検青白)に、S偏光レーザ光が!!
(1射される。そのために、S偏光レーザ光振器36.
38が設けられている。各S偏光レーザ光振器3B、3
8は、ある波長のS偏光レーザ光を発生するもので、例
えば波長が8300tングストロー1、の1′・9体レ
ーデ発娠蒸である。
そのS偏光レーデ光は、Xツノ向より・クエ/飄30の
l而に約2度の1((1射角度φでIK1射される1、
なお、照射角度は、ウエノ1内部へのS偏光レーザ光の
侵入防11・、照射密度な上を考慮した場合、1度ない
し3度の範囲が 般に適当である。
l而に約2度の1((1射角度φでIK1射される1、
なお、照射角度は、ウエノ1内部へのS偏光レーザ光の
侵入防11・、照射密度な上を考慮した場合、1度ない
し3度の範囲が 般に適当である。
このようにHHI射角度が小占いため、円形断面のS偏
光レーザ光のビー1、を!ビ1射した場合、ウニ・\面
におけるスボ・、トがX方向に延ひてし圭い、1分な照
射密度を得られない。そこで前述のように、S偏光レー
ザ発振Z436.38の前方にエキスパンダ37.39
とシリンドリカルレンズ44,46を順に配置している
。S偏光レーザ発振器36゜38から出たほぼ円形断面
のS偏光レーザ光ビームは、少なくともZ方向にシリン
ドリカルレンズ44.46の憧一杯に拡大され、このS
偏光レーザ光ビームはシリンドリカルレンズ44.46
によりZ方向につぶれた扁・14な断面形状のビートに
絞られてウェハ而に!!(1射される。し7かして、S
偏光レーザ光源としてビーム仔がそれほと人き(ない安
価なものを用い、ト分の11(1耐密度を得られる。
光レーザ光のビー1、を!ビ1射した場合、ウニ・\面
におけるスボ・、トがX方向に延ひてし圭い、1分な照
射密度を得られない。そこで前述のように、S偏光レー
ザ発振Z436.38の前方にエキスパンダ37.39
とシリンドリカルレンズ44,46を順に配置している
。S偏光レーザ発振器36゜38から出たほぼ円形断面
のS偏光レーザ光ビームは、少なくともZ方向にシリン
ドリカルレンズ44.46の憧一杯に拡大され、このS
偏光レーザ光ビームはシリンドリカルレンズ44.46
によりZ方向につぶれた扁・14な断面形状のビートに
絞られてウェハ而に!!(1射される。し7かして、S
偏光レーザ光源としてビーム仔がそれほと人き(ない安
価なものを用い、ト分の11(1耐密度を得られる。
!((1耐密度はI・分高いから、1・分な検出感度を
得られる。
得られる。
ここで、パターンなしのブランク膜付きウエノ飄(また
は鏡面ウェハ)の場合、S偏光レーザ光は、その!!(
1射スポツト内に異物が存イ1しなければ、はぼIF反
射され(前述のように、照射角度φが約2度と小さいた
め、ウェハ而で全反射され、ブランク膜内部にはS偏光
レーザ光は侵入しない)、Z方向には反射されないが、
異物が存イ1すれば、それにより乱反射されてZ方向に
も反射される。
は鏡面ウェハ)の場合、S偏光レーザ光は、その!!(
1射スポツト内に異物が存イ1しなければ、はぼIF反
射され(前述のように、照射角度φが約2度と小さいた
め、ウェハ而で全反射され、ブランク膜内部にはS偏光
レーザ光は侵入しない)、Z方向には反射されないが、
異物が存イ1すれば、それにより乱反射されてZ方向に
も反射される。
他方、パターン付きウェハの場合、ウニ/%面に11(
1射されたS偏光レーザ光の反射レーザ光は、その照射
スポット内にパターンが存在すれば、Z方向にも反射さ
れるが、そのパターンの而は微視的に下請であるため、
反射レーザ光はほとんどS偏光成分だけである。これに
対し、異物の表面には般に微小な凹凸があるため、照射
スポット内に異物がイr在すると、照射されたS偏光レ
ーザ光は散乱して偏光)」向か番化し、反射レーザ光に
は、S偏光成分の外に、P偏光成分をかなり含まれるこ
とになる。
1射されたS偏光レーザ光の反射レーザ光は、その照射
スポット内にパターンが存在すれば、Z方向にも反射さ
れるが、そのパターンの而は微視的に下請であるため、
反射レーザ光はほとんどS偏光成分だけである。これに
対し、異物の表面には般に微小な凹凸があるため、照射
スポット内に異物がイr在すると、照射されたS偏光レ
ーザ光は散乱して偏光)」向か番化し、反射レーザ光に
は、S偏光成分の外に、P偏光成分をかなり含まれるこ
とになる。
このような現象に青IIシ、このウエノ・巽物構台装置
においては、パターン付きウエノλの場合には、ウェハ
而からのZツノ向への反射レーザ光に含まれるP偏光成
分のレベルに基づき、異物のf’+’!県と〃1物のサ
イズを検出する。
においては、パターン付きウエノλの場合には、ウェハ
而からのZツノ向への反射レーザ光に含まれるP偏光成
分のレベルに基づき、異物のf’+’!県と〃1物のサ
イズを検出する。
他方0、ブランク膜付きウニ/1(鏡面ウエノ)も含む
)の場合には、検出感度を増大させるために、Z方向へ
のS偏光反射レーザ光およびP偏光反射レーザ光のレベ
ルにJ、Uづき、異物の存fiおよびサイズを検出する
。ここで、前述のようにS偏光レーザ光のブランク膜内
への侵入がな(、ブランク膜内部およびウニ/X素地面
の状態によってS偏光レーザ光の反射が影響されないめ
、ウエノ・人血の異物を11゛確に検出できる。
)の場合には、検出感度を増大させるために、Z方向へ
のS偏光反射レーザ光およびP偏光反射レーザ光のレベ
ルにJ、Uづき、異物の存fiおよびサイズを検出する
。ここで、前述のようにS偏光レーザ光のブランク膜内
への侵入がな(、ブランク膜内部およびウニ/X素地面
の状態によってS偏光レーザ光の反射が影響されないめ
、ウエノ・人血の異物を11゛確に検出できる。
ufび第1図をff1− jj((する。ウニl\面か
らの反射レーザ光は、前記ハ;先理に従い異物を検出す
る検出系50と、ウェハの11視観察のための顕@鏡5
2..!:にノ(通の光学系に入射する。すなわち、反
射レーザ光は、対物レンズ54、ハーフミラ−56、プ
リズム58を経111シて45度プリズム60に辻する
。
らの反射レーザ光は、前記ハ;先理に従い異物を検出す
る検出系50と、ウェハの11視観察のための顕@鏡5
2..!:にノ(通の光学系に入射する。すなわち、反
射レーザ光は、対物レンズ54、ハーフミラ−56、プ
リズム58を経111シて45度プリズム60に辻する
。
土た、11視観察のためにランプ70が設けられている
。このランプ70から出た1f視尤により、ハーフミラ
−56および対物レンズ54を介してウェハ而が照明さ
れる。また、45度プリズム60と60度プリズム62
とは光路途中に入れ替えられる構造になっており、検査
時には45度プリズl、60が、11視時には60度プ
リズム62が、それぞれ光路途中に入れられる。
。このランプ70から出た1f視尤により、ハーフミラ
−56および対物レンズ54を介してウェハ而が照明さ
れる。また、45度プリズム60と60度プリズム62
とは光路途中に入れ替えられる構造になっており、検査
時には45度プリズl、60が、11視時には60度プ
リズム62が、それぞれ光路途中に入れられる。
プリズム60を経111シて顕微鏡2側に入射した可視
反射光は、60度プリズム62、フィールドレンズ64
、リレーレンズ66を順に通過して接眼レンズ68に入
射する。したがって、接眼レンズ68より、ウェハ30
を1・分大きな倍ネくで11視観察することができる。
反射光は、60度プリズム62、フィールドレンズ64
、リレーレンズ66を順に通過して接眼レンズ68に入
射する。したがって、接眼レンズ68より、ウェハ30
を1・分大きな倍ネくで11視観察することができる。
この場合、視野の中心に、ウェハ1「1白−のS偏光レ
ーザ光スポットの範囲が位置する。
ーザ光スポットの範囲が位置する。
また、プリズム58を通してウェハ30を低倍率で観察
することもてきる。
することもてきる。
プリズム60を経由して検出系側に入射した反射レーザ
光は、スリ71−72に設けられた4つのアパーチャア
4を通過し、分[ラー88に入射する。
光は、スリ71−72に設けられた4つのアパーチャア
4を通過し、分[ラー88に入射する。
ここで、ウェハ30がパターン付きウェハの場合には、
S偏光カットフィルタ86(偏光板)が符−;se’に
より示す位置に移動せしめられるため、アパーチャア4
を通過した反射レーザ光のP偏光成分だけが抽出され、
分離ミラー88に入射する。ウェハ30がブランク膜付
きウェハ(またハ鏡面ウェハ)の場合、S偏光カットフ
ィルタ88は実線で示す位置に移動せしめられるため、
反射レーザ光のS偏光成分もP偏光成分も分離ミラー8
8に入射する。
S偏光カットフィルタ86(偏光板)が符−;se’に
より示す位置に移動せしめられるため、アパーチャア4
を通過した反射レーザ光のP偏光成分だけが抽出され、
分離ミラー88に入射する。ウェハ30がブランク膜付
きウェハ(またハ鏡面ウェハ)の場合、S偏光カットフ
ィルタ88は実線で示す位置に移動せしめられるため、
反射レーザ光のS偏光成分もP偏光成分も分離ミラー8
8に入射する。
87はS偏光カントフィルタ86を移動させるためのソ
レノイドである。
レノイドである。
スリット72の4つのアパーチャア4は丁・島状に配置
されており、分離ミラー88は四角X1状の四面鏡であ
る。分離ミラー88の入射面I4における各アパーチャ
ア4の視野74Aは、第3図に、1(すように、分離ミ
ラー88の特定の鏡面88A+−に入るような位置関係
におかれている。したがって、各アパーチャア4を通過
した反射レーザ光は、対応する鏡面88Aに入射し、’
I:いにほぼ直交する方向に分離されて反射される。分
離ミラー88の1・、ド左右には、各アパーチャア4と
対応したホトマルチプライヤ90(光電素子)が設けら
れている。各鏡面88Aにより反射されたレーザ光は、
対応したホトマルチプライヤ90にそれぞれ人射し、光
電変換される。
されており、分離ミラー88は四角X1状の四面鏡であ
る。分離ミラー88の入射面I4における各アパーチャ
ア4の視野74Aは、第3図に、1(すように、分離ミ
ラー88の特定の鏡面88A+−に入るような位置関係
におかれている。したがって、各アパーチャア4を通過
した反射レーザ光は、対応する鏡面88Aに入射し、’
I:いにほぼ直交する方向に分離されて反射される。分
離ミラー88の1・、ド左右には、各アパーチャア4と
対応したホトマルチプライヤ90(光電素子)が設けら
れている。各鏡面88Aにより反射されたレーザ光は、
対応したホトマルチプライヤ90にそれぞれ人射し、光
電変換される。
このように、アパーチャア4をT島状に配置したため、
面中な分離ミラー88(光分離f゛段)により、4つの
アパーチャア4の通過レーザ光を・度に分離して対応し
たホトマルチプライヤ90に入射させることができる。
面中な分離ミラー88(光分離f゛段)により、4つの
アパーチャア4の通過レーザ光を・度に分離して対応し
たホトマルチプライヤ90に入射させることができる。
ココで、例えば、4つのアパーチャア4をi9図に小す
ように直線的に配置した場合、ミラーまたはプリズムな
とにより、 ・度に分離することは困難である。何故な
らば、アパーチャア4とミラーまたはプリズムとの相対
位置の、lt差を著しく小さく抑えないと、不適当な位
置で分離されてしまうし、また、その誤差条件を満足で
きると仮定しても、後述するように、各アパーチャア4
を図if<のようにある方向(走査方向に対し直交する
方向)に部分的に重ねる必dがあるため、分離境界が直
線的でなく、異形のミラーまたはプリズムが必要となる
からである。
ように直線的に配置した場合、ミラーまたはプリズムな
とにより、 ・度に分離することは困難である。何故な
らば、アパーチャア4とミラーまたはプリズムとの相対
位置の、lt差を著しく小さく抑えないと、不適当な位
置で分離されてしまうし、また、その誤差条件を満足で
きると仮定しても、後述するように、各アパーチャア4
を図if<のようにある方向(走査方向に対し直交する
方向)に部分的に重ねる必dがあるため、分離境界が直
線的でなく、異形のミラーまたはプリズムが必要となる
からである。
そこで、このような直線的配列の場合には、第9図にお
ける■の位置を境にして1回11の光分離を行い、さら
に■の位置を境にして2回11の光分離を行う必要があ
る。これでは、ミラーまたはプリズムが3側辺1・、必
”災になるとともに、2回の反射またはk11折による
ボケが生じやすい。また、各回の分離に関して、一度に
分離する場合と同様に位置1貫差による影響を受けやす
いため、分離が不完全になりやすい。
ける■の位置を境にして1回11の光分離を行い、さら
に■の位置を境にして2回11の光分離を行う必要があ
る。これでは、ミラーまたはプリズムが3側辺1・、必
”災になるとともに、2回の反射またはk11折による
ボケが生じやすい。また、各回の分離に関して、一度に
分離する場合と同様に位置1貫差による影響を受けやす
いため、分離が不完全になりやすい。
これに対して、T・鳥配列の場合、第3図から明らかな
ように、隣接した各アパーチャの間隔が直交する各方向
とも1・公人きくなるため、前記のような曲中な分離ミ
ラー88により光分離を ・度に11うことができる。
ように、隣接した各アパーチャの間隔が直交する各方向
とも1・公人きくなるため、前記のような曲中な分離ミ
ラー88により光分離を ・度に11うことができる。
また、アパーチャア4と分離ミラー88との相対位置1
1t差をそれほど厳密に制限しなくても、完全な分離力
<++(能である。
1t差をそれほど厳密に制限しなくても、完全な分離力
<++(能である。
また、ホトマルチプライヤ90はかなり大型であるが、
分離ミラー88の1−ド左右に配置されるため、最少の
スペースですむ。
分離ミラー88の1−ド左右に配置されるため、最少の
スペースですむ。
さて、各ホトマルチプライヤ90から、それぞれの入射
光itkに比例した値の検出信りが出力される。後述の
ように、各ホトマルチプライヤ90の出力信−じ°は加
算され、その加算された信号−のレベルに基づき、ウェ
ハ而(厳密には、各アパーチャア4の視ツf内の部分)
における異物の有!!!(が判定され、また1Illt
h物が存イ1する場合は、その信5)のレベルから異物
の粒径が判定される。
光itkに比例した値の検出信りが出力される。後述の
ように、各ホトマルチプライヤ90の出力信−じ°は加
算され、その加算された信号−のレベルに基づき、ウェ
ハ而(厳密には、各アパーチャア4の視ツf内の部分)
における異物の有!!!(が判定され、また1Illt
h物が存イ1する場合は、その信5)のレベルから異物
の粒径が判定される。
ここで、異物検査は、前辻のようにウェハを回転させつ
つX方向(丁径)」向)に送りながら1jわれる。その
ようなウェハ30の移動に従い、第4図に小すように、
S偏光レーザ光のスポット30Aはウェハ30の1゛、
而を外側より中心へ向かって螺旋状に移動する。検出系
50と顕微鏡52は静11シており、アパーチャア4の
視野はスボント30A内に含まれ、またスポット30A
の全体または中心部分は顕微鏡52の視升内に入る。す
なわち、ウェハ而は螺旋走査される。
つX方向(丁径)」向)に送りながら1jわれる。その
ようなウェハ30の移動に従い、第4図に小すように、
S偏光レーザ光のスポット30Aはウェハ30の1゛、
而を外側より中心へ向かって螺旋状に移動する。検出系
50と顕微鏡52は静11シており、アパーチャア4の
視野はスボント30A内に含まれ、またスポット30A
の全体または中心部分は顕微鏡52の視升内に入る。す
なわち、ウェハ而は螺旋走査される。
スリット72の各アパーチャア4のウェハ面における視
野74Bは、第5図に示すごとく丁鳥配置となる。図示
のように、隣合うアパーチャの視!l!f74Bは、走
査方向(0方向)に対して+l’i直な方向、すなオ〕
ちX方向にαだけ車なっている。そして、βはウェハの
X方向(゛1′径方向)への送りピンチより太きい。し
たがって、ウェハ而は・部i1c?Mして走査されるこ
七になる。
野74Bは、第5図に示すごとく丁鳥配置となる。図示
のように、隣合うアパーチャの視!l!f74Bは、走
査方向(0方向)に対して+l’i直な方向、すなオ〕
ちX方向にαだけ車なっている。そして、βはウェハの
X方向(゛1′径方向)への送りピンチより太きい。し
たがって、ウェハ而は・部i1c?Mして走査されるこ
七になる。
さて、前記ホトマルチプライヤから出力されるイ、ニー
じには、異物に関係した43%;成分の外に、被検前面
の状態なとによって決まるバ、タグラウンドノイズも含
まれている。その信)ノのS/Nを1・、げ、微小な異
物の検出を可能とするためには、スリットのアパーチャ
を小さくする必安がある。しかし、従来のウェハ異物検
査装置のようにアパーチャが1つの場合、アパーチャが
小さいと、走査線(アパーチャ視野の軌跡)のピンチを
小さくしなければならす、ウェハ面全体を走査して検査
するための時間か増加する。
じには、異物に関係した43%;成分の外に、被検前面
の状態なとによって決まるバ、タグラウンドノイズも含
まれている。その信)ノのS/Nを1・、げ、微小な異
物の検出を可能とするためには、スリットのアパーチャ
を小さくする必安がある。しかし、従来のウェハ異物検
査装置のようにアパーチャが1つの場合、アパーチャが
小さいと、走査線(アパーチャ視野の軌跡)のピンチを
小さくしなければならす、ウェハ面全体を走査して検査
するための時間か増加する。
そこで、本実施例では、アパーチャを4つ説け、全アパ
ーチャの総合視野の走査方向と重重な方向の幅βを拡げ
ることにより、アパーチャを小さくした場合における走
査線ピッチを増加させ、以て検出能の向1・、と走へ検
査時間の短縮を達成している。
ーチャの総合視野の走査方向と重重な方向の幅βを拡げ
ることにより、アパーチャを小さくした場合における走
査線ピッチを増加させ、以て検出能の向1・、と走へ検
査時間の短縮を達成している。
なお、異物の巽方性による検出11I差をなくすため、
後述のように、異なる方向から1((イ射した散乱光を
検出している各ホトマルチプライヤの出力信号を〕川′
S′>するようにしている。
後述のように、異なる方向から1((イ射した散乱光を
検出している各ホトマルチプライヤの出力信号を〕川′
S′>するようにしている。
次に、このウェハ異物検査装置の(+j’SJ−系およ
び処理制御系について、第2図を参照して説明する。
び処理制御系について、第2図を参照して説明する。
ます、イ、1弓系について説明する。前記各ホトマルチ
プライヤ90の出力4jzJ’は加3?増幅’2410
0により力o)’>増幅され、レベル比較回路102に
人力される。
プライヤ90の出力4jzJ’は加3?増幅’2410
0により力o)’>増幅され、レベル比較回路102に
人力される。
ここで、ウニハトの異物の粒径と、ホトマルチプライヤ
90の出力L(”Jレベルとの間には、第6図に小すよ
うな関係がある。この図において、L/lL2.L、7
はレベル比較回路102,106の閾値である。
90の出力L(”Jレベルとの間には、第6図に小すよ
うな関係がある。この図において、L/lL2.L、7
はレベル比較回路102,106の閾値である。
レベル比較回路102は、それぞれの人力信シンのレベ
ルを各閾値と比較し、その比較結果に応じた論理レベル
の閾値対応の出力信吋を送出する。
ルを各閾値と比較し、その比較結果に応じた論理レベル
の閾値対応の出力信吋を送出する。
すなわち、閾fn”ELt 、L2+ LJに対応す
る出力(1j’y’07 ! 02 + OJの論理レ
ベルは、その閾値以1−のレベルのL:”Jが人力した
場合に“1”となり、大カイ、1昌ルベルが閥値末l菌
のききにu 041七なる。したがって、例えば、大カ
イ11号・レベルが閾値LI未満ならば、出力(+;S
Jはすへて0゛となり、入力信υレベルが閥fn’[L
、 2以1−で閾イ11°目7.?未満ならば、出力化
−3は0/と02か”ビ°、0.3が10゛となる。
る出力(1j’y’07 ! 02 + OJの論理レ
ベルは、その閾値以1−のレベルのL:”Jが人力した
場合に“1”となり、大カイ、1昌ルベルが閥値末l菌
のききにu 041七なる。したがって、例えば、大カ
イ11号・レベルが閾値LI未満ならば、出力(+;S
Jはすへて0゛となり、入力信υレベルが閥fn’[L
、 2以1−で閾イ11°目7.?未満ならば、出力化
−3は0/と02か”ビ°、0.3が10゛となる。
このように、出カイ13号0/ 、02.o3は、大カ
イバー3゛のレベル比較結果を示す2進コードである。
イバー3゛のレベル比較結果を示す2進コードである。
レベル比較回路102の出力L’;”Jは、コードL(
Olを最ド位ビ、トとした2進コード)として、処理制
御系と(+j−J系とのインターフェイスを1゛するイ
ンターフェイス回路108に人力される。
Olを最ド位ビ、トとした2進コード)として、処理制
御系と(+j−J系とのインターフェイスを1゛するイ
ンターフェイス回路108に人力される。
このインターフェイス回路108には、前記ロー911
エンコーダおよびリニアエンコータカラ、各時点におけ
る回転角度位置0およびX方向(゛]′径方向)位置X
の情報を示す化け(2進コード)が、バ・、ファ回路1
10,112を介し人力される。これらの人力コードは
、−・定の周期でインターフェイス回路108内部のあ
るレジスタに取り込まれ、そこに一時的に保持される。
エンコーダおよびリニアエンコータカラ、各時点におけ
る回転角度位置0およびX方向(゛]′径方向)位置X
の情報を示す化け(2進コード)が、バ・、ファ回路1
10,112を介し人力される。これらの人力コードは
、−・定の周期でインターフェイス回路108内部のあ
るレジスタに取り込まれ、そこに一時的に保持される。
また、インターフェイス回路108の内部には、処理制
御系よりモータ14.24およびソレノイド87の制御
情報がセントされるレジスタもある。
御系よりモータ14.24およびソレノイド87の制御
情報がセントされるレジスタもある。
このレジスタにセントされた制御情報に従い、モータコ
ントローラ116によりモータ14,24の駆動制御が
行われ、またソレノイドドライバ117によりソレノイ
ド87の駆動制御が行われる。
ントローラ116によりモータ14,24の駆動制御が
行われ、またソレノイドドライバ117によりソレノイ
ド87の駆動制御が行われる。
つぎに、処理制御系について説明する。この処理制御系
はマイクロプロセッサ120.ROMI22、RAM
l 24、フロッピーディスク装置126、X−Yプロ
・ツタ127、CRTディスプレイ装置128、キーボ
ード130などからなる。
はマイクロプロセッサ120.ROMI22、RAM
l 24、フロッピーディスク装置126、X−Yプロ
・ツタ127、CRTディスプレイ装置128、キーボ
ード130などからなる。
132は7ステムバスであり、マイクロブロセ。
す120、ROM122、RAM124、前記インター
フェイス回路108が直接的に接続されている。
フェイス回路108が直接的に接続されている。
キーボード130は、オペレータが各種指令やデータを
人力するためのもので、インターフェイス回路134を
介してシステムバス132に接続されている。フロッピ
ーディスク装置12Bは、オペレーティングシステムや
各種処理プログラム、検査結果データなどを格納するも
のであり、フロッピーディスクコントローラ136を介
しシステムバス132に接続されている。
人力するためのもので、インターフェイス回路134を
介してシステムバス132に接続されている。フロッピ
ーディスク装置12Bは、オペレーティングシステムや
各種処理プログラム、検査結果データなどを格納するも
のであり、フロッピーディスクコントローラ136を介
しシステムバス132に接続されている。
この異物検査装置が起動されると、オペレーティングシ
ステムがフロッピーディスク装置126からRAM12
4のシステム領域124Aヘロードされる。その後、フ
ロッピーディスク装置126に格納されている各種処p
ljプロゲラ1、のうち、必要・な1つ以1−の処理プ
ロゲラl、がRAM l 24のプログラム領域124
Bヘロードされ、マイクロプロセッサ120により実行
される。処理途中のデータなどはRAM124の作業領
域に一時的に記憶される。処理結果データは、最終的に
フロッピーディスク装置126へ転送され格納される。
ステムがフロッピーディスク装置126からRAM12
4のシステム領域124Aヘロードされる。その後、フ
ロッピーディスク装置126に格納されている各種処p
ljプロゲラ1、のうち、必要・な1つ以1−の処理プ
ロゲラl、がRAM l 24のプログラム領域124
Bヘロードされ、マイクロプロセッサ120により実行
される。処理途中のデータなどはRAM124の作業領
域に一時的に記憶される。処理結果データは、最終的に
フロッピーディスク装置126へ転送され格納される。
ROM l 22には、文字、数字、記すなどのドツト
パターンが格納されている。
パターンが格納されている。
CRTディスプレイ装置128は、オペレータとの対話
のための各種メツセージの表示、Vl!物マツプやその
他のデータの大小なとに利用されるものであり、その大
小データはビデオRAM l 38にビlトマップ1長
開される。140はビデオコントローラであり、ビデオ
RAM l 38の+’F 込み、読出しなとの制御の
外に、ドツトパターンに応じたビデオ信−3の発生、カ
ーソルパターンの発生なとをjlう。このビデすコント
ローラ140はインターフェイス回路142を介してシ
ステムバス132に接続されている。カーソルのアドレ
スを制御するためのカーツルアドレスポインタl 40
Aがビデオコントローラ140に設けられているが、こ
のポインタはキーボード130からのカーソル制御信−
ノ・に従いインクリメントまたはデクリメントされ、ま
たマイクロプロセッサ120によりアクセス可能である
。
のための各種メツセージの表示、Vl!物マツプやその
他のデータの大小なとに利用されるものであり、その大
小データはビデオRAM l 38にビlトマップ1長
開される。140はビデオコントローラであり、ビデオ
RAM l 38の+’F 込み、読出しなとの制御の
外に、ドツトパターンに応じたビデオ信−3の発生、カ
ーソルパターンの発生なとをjlう。このビデすコント
ローラ140はインターフェイス回路142を介してシ
ステムバス132に接続されている。カーソルのアドレ
スを制御するためのカーツルアドレスポインタl 40
Aがビデオコントローラ140に設けられているが、こ
のポインタはキーボード130からのカーソル制御信−
ノ・に従いインクリメントまたはデクリメントされ、ま
たマイクロプロセッサ120によりアクセス可能である
。
X−Yプロッタ127は異物マツプなどの印刷出力に使
用されるものであり、プロッタコントローラ137を介
してシステムバス132に接続すれている。
用されるものであり、プロッタコントローラ137を介
してシステムバス132に接続すれている。
次に、異物検査処理について、第8図のフローチャート
を参照しながら説明する。ここでは、異物の自動検査、
II視観察、印刷などのン搾ブをオペレータが指定する
型式としているが、これは飽くまで−・例である。
を参照しながら説明する。ここでは、異物の自動検査、
II視観察、印刷などのン搾ブをオペレータが指定する
型式としているが、これは飽くまで−・例である。
回転ステージ22の所定位置にウェハ30をセ、lトし
た状態で、オペレータがキーボード130より検査開始
を指令すると、検査処理プログラム゛がフロッピーディ
スク装置126からRAM l 24のプログラム領域
124Bヘロードされ、走り始める。
た状態で、オペレータがキーボード130より検査開始
を指令すると、検査処理プログラム゛がフロッピーディ
スク装置126からRAM l 24のプログラム領域
124Bヘロードされ、走り始める。
マス、マイクロプロセッサ120は、初期化処理行う。
置体的には、Xステージ10および同転ステージ22を
初期位置に荀置決めさせるためのモータ制御情報、およ
び、ウェハ30がパターン付キウエハの場合にはS偏光
カプトフィルタ86を符号°86゛の位置に移動させ、
ウェハ30かブランク膜付きウェハ(または鏡面ウエノ
\)の場合にはS偏光カットフィルタ86を実線位置へ
移動させるためのソレノイド制御情報が、インターフェ
イス回路108の内部レジスタにセットされる。
初期位置に荀置決めさせるためのモータ制御情報、およ
び、ウェハ30がパターン付キウエハの場合にはS偏光
カプトフィルタ86を符号°86゛の位置に移動させ、
ウェハ30かブランク膜付きウェハ(または鏡面ウエノ
\)の場合にはS偏光カットフィルタ86を実線位置へ
移動させるためのソレノイド制御情報が、インターフェ
イス回路108の内部レジスタにセットされる。
このモータ制御情報に従い、モータコントローラ118
がモータ14,20を制御し、各ステージを初期(1旨
+’5に移動させる。同様に、ソレノイドド−7(バ1
17は、ソレノイド制御情報に従い、′lレノイド87
を付勢または消勢する。また、マイクロプロセッサ12
0は、後述のテーブル、カウンタ、検査データのバッフ
γなとのための記憶領域(第2図参!!(()をRAM
120+・、に確保する(それらの記憶領域はクリアさ
れる)。
がモータ14,20を制御し、各ステージを初期(1旨
+’5に移動させる。同様に、ソレノイドド−7(バ1
17は、ソレノイド制御情報に従い、′lレノイド87
を付勢または消勢する。また、マイクロプロセッサ12
0は、後述のテーブル、カウンタ、検査データのバッフ
γなとのための記憶領域(第2図参!!(()をRAM
120+・、に確保する(それらの記憶領域はクリアさ
れる)。
it記テーブル(デープル領域124 Dにイ1成され
る)の概念図を第7図に小す。このテーブル150の各
エン1−りは、異物の番)ノ(検出された11(6番)
、V(物のも“I置(+′A出された走査位置x、0)
、その種類ないし性質(11視観察によっ1: 、Ji
へられる)、および粒径から構成されている。
る)の概念図を第7図に小す。このテーブル150の各
エン1−りは、異物の番)ノ(検出された11(6番)
、V(物のも“I置(+′A出された走査位置x、0)
、その種類ないし性質(11視観察によっ1: 、Ji
へられる)、および粒径から構成されている。
前記初期化の後に、ジョブメニューがCRTディスプレ
イ装置1’7128に人事され、すベレー9からのジ:
+ブ指定を待つ状態になる。
イ装置1’7128に人事され、すベレー9からのジ:
+ブ指定を待つ状態になる。
「自動検査」のジ、(ブが指定された場合の処理の流れ
を、第8図(A)のフローチャートを参Q((して説明
する。
を、第8図(A)のフローチャートを参Q((して説明
する。
自動検査のコードがキーボード130を通してマイクロ
プロセッサ120に入幻される。L、71′クロプロセ
ツサ120は、自動検査処理を開始する。まず、マイク
ロプロセッサ120は、インターフェイス回路108を
通じ、モーダニ2ントロー911日に村し走査開始を指
手する(ステップ210)。この1h小を受けたモータ
コント【]−ラ116は、+l+述のような螺旋走査を
一定速度で41’わせるように、モータ14.24を駆
動する。
プロセッサ120に入幻される。L、71′クロプロセ
ツサ120は、自動検査処理を開始する。まず、マイク
ロプロセッサ120は、インターフェイス回路108を
通じ、モーダニ2ントロー911日に村し走査開始を指
手する(ステップ210)。この1h小を受けたモータ
コント【]−ラ116は、+l+述のような螺旋走査を
一定速度で41’わせるように、モータ14.24を駆
動する。
マイクロプロセッサ120は、インターフェイス回路1
08の特定の内部レジスタの内容、すなわち、ウェハ3
0の走?i4r’を置X、0のコードと、レベル比較回
路102によるレベル比較結束であるコードLとからな
る入力データを取り込み、RAM124+tの入力バソ
フr124cに−)き込む(ステップ215)。
08の特定の内部レジスタの内容、すなわち、ウェハ3
0の走?i4r’を置X、0のコードと、レベル比較回
路102によるレベル比較結束であるコードLとからな
る入力データを取り込み、RAM124+tの入力バソ
フr124cに−)き込む(ステップ215)。
マイクロプロセ、す120は、取り込んた走査位置情報
を走査路r位置の位置情報上比較することにより、走へ
の終I”r11定を杓う(ステップ220)。
を走査路r位置の位置情報上比較することにより、走へ
の終I”r11定を杓う(ステップ220)。
この判定の結果がNo(走査途中)ならば、マイクロプ
ロセンサ120は、取り込んだコードLのゼロ判定を行
う(ステップ225)。L=000ならば、その走へ位
置には異物か存71シない。
ロセンサ120は、取り込んだコードLのゼロ判定を行
う(ステップ225)。L=000ならば、その走へ位
置には異物か存71シない。
L≠000ならば、+J4物が071する。
ステップ225の判定結果がYESならばステップ21
5に戻る。ステ・ノブ225の判定結果かNOならば、
マイクロブロセzf120に裏、II! ’1込んだ位
置情報(×、0)と、テーブル150に記憶されている
既検出の他の異物の位置情報(x。
5に戻る。ステ・ノブ225の判定結果かNOならば、
マイクロブロセzf120に裏、II! ’1込んだ位
置情報(×、0)と、テーブル150に記憶されている
既検出の他の異物の位置情報(x。
0)とを比較する(ステップ230)、、位置情報の
致かとれた場合、現r1の異物は他の異物4L:、同−
乏みなせるので、ステ4.ゾ215に戻る。
致かとれた場合、現r1の異物は他の異物4L:、同−
乏みなせるので、ステ4.ゾ215に戻る。
位置情報の比較か不一致の場合、新しいl/、1.物か
検出されたとみなせる。そこで、マイクロプロセッサ1
20は、RAM1241tに確保された領tlji12
4EであるカウンタNを1だけインクリメントする(ス
テップ235)。そして、テーブル150のN番11の
エントリに、当1亥異物の(1°I置情報(x、/7)
およびコードL(粒径情報として)を111き込む(ス
テップ240)。
検出されたとみなせる。そこで、マイクロプロセッサ1
20は、RAM1241tに確保された領tlji12
4EであるカウンタNを1だけインクリメントする(ス
テップ235)。そして、テーブル150のN番11の
エントリに、当1亥異物の(1°I置情報(x、/7)
およびコードL(粒径情報として)を111き込む(ス
テップ240)。
ウェハ30の走査が終rするまで、同様の処理が繰り返
しKt+’される。
しKt+’される。
ステップ220て走査路1′と判定さオjる、と、マス
ク120は、インターフェイス回路108を通じて、モ
ータコントローラ116にχ4 L 走h 停市指手を
送る(ステップ250)。この指手に応答して、モータ
コントローラ11Bはモータ14゜24の寧動を停!1
・する。
ク120は、インターフェイス回路108を通じて、モ
ータコントローラ116にχ4 L 走h 停市指手を
送る(ステップ250)。この指手に応答して、モータ
コントローラ11Bはモータ14゜24の寧動を停!1
・する。
次にマイクロプロセンサ120は、テーブル150を参
照し、コードLか12の異物の合計数TL/1コードL
が32の異物の合計数’I’L2、コードLが72の異
物の合計数TL3を1?1算し、その異物合計数データ
を、RAM1241−の特定領域124F、124G、
124Hに占き込む(ステップ251)。そして、テー
ブル150の記憶内容および異物合計データを、ウェハ
、It SZを付加してフロッピーディスク装置126
へ転送し、格納させる(ステップ252)。
照し、コードLか12の異物の合計数TL/1コードL
が32の異物の合計数’I’L2、コードLが72の異
物の合計数TL3を1?1算し、その異物合計数データ
を、RAM1241−の特定領域124F、124G、
124Hに占き込む(ステップ251)。そして、テー
ブル150の記憶内容および異物合計データを、ウェハ
、It SZを付加してフロッピーディスク装置126
へ転送し、格納させる(ステップ252)。
これで、自動検査のジョブが終J’L、CRTディスプ
レイ装置128のllIn +r+iにジョブメニュー
が表示される。
レイ装置128のllIn +r+iにジョブメニュー
が表示される。
つぎに「[1視観察」の処理の流れを、第8図(B)な
いし第8図(E)のフローチャートにより説明する。1
1視検杏としては、順次モード、番号指定モード、およ
びカーソル指定モードがあり、キーボード130より指
定できる。
いし第8図(E)のフローチャートにより説明する。1
1視検杏としては、順次モード、番号指定モード、およ
びカーソル指定モードがあり、キーボード130より指
定できる。
]」視観察のジョブおよびモードが指定されると、マイ
クロプロセッサ120は、ウェハの輪郭画像のトンドパ
ターンデータをフロッピーディスク装置126よりビデ
オRAM 138へI) M A転送さ仕る(ステップ
285)。この転送の起動制御はマイクロプロセッサ1
20により行われるが、その後の転送制御はビデオコン
トローラ140およびフロッピーディスクコントローラ
13Bによって11″われる。ビデオRAM13Bのト
ンドパターンデータは、ビデオコントローラ140によ
り順次読み出されビデオ信りに変換されてCRTディス
プレイ装置128に送られ、表示される。
クロプロセッサ120は、ウェハの輪郭画像のトンドパ
ターンデータをフロッピーディスク装置126よりビデ
オRAM 138へI) M A転送さ仕る(ステップ
285)。この転送の起動制御はマイクロプロセッサ1
20により行われるが、その後の転送制御はビデオコン
トローラ140およびフロッピーディスクコントローラ
13Bによって11″われる。ビデオRAM13Bのト
ンドパターンデータは、ビデオコントローラ140によ
り順次読み出されビデオ信りに変換されてCRTディス
プレイ装置128に送られ、表示される。
つぎにマイクロプロセッサ120は、観察対象のウェハ
の各号・(ジョブ選択時にキーボード130より人力さ
れる)が付加されてフロッピーディスク装置126に格
納されているテーブル150の記憶内容と異物合計数デ
ータを読み込み、RAM124の対応する領域に、IF
き込む(ステップ290)。
の各号・(ジョブ選択時にキーボード130より人力さ
れる)が付加されてフロッピーディスク装置126に格
納されているテーブル150の記憶内容と異物合計数デ
ータを読み込み、RAM124の対応する領域に、IF
き込む(ステップ290)。
マイクロプロセッサ120は、RAM1241−のテー
ブル150から、6ソ4物の位置情報とサイズ情+v(
Lコード)を順次読み出し、Lコードに対応したトンド
パターンデータをROM122から読み出し、位置情報
に対応したビデオRAM 138のアドレス情+V、=
ともにビデオコントローラ140へ転送し、ビデオRA
M138に8き込ませる(ステップ295)。この処理
により、テーブル150に記憶されている異物のマツプ
がCRTディスプレイ装置128の画商に表、1(され
る。
ブル150から、6ソ4物の位置情報とサイズ情+v(
Lコード)を順次読み出し、Lコードに対応したトンド
パターンデータをROM122から読み出し、位置情報
に対応したビデオRAM 138のアドレス情+V、=
ともにビデオコントローラ140へ転送し、ビデオRA
M138に8き込ませる(ステップ295)。この処理
により、テーブル150に記憶されている異物のマツプ
がCRTディスプレイ装置128の画商に表、1(され
る。
つぎにマイクロプロセッサ120は、インターフェイス
回路108を介して、モータコントローラ116に走査
位置の初期位置への位置決めを指示する(ステップ30
0)。以ド、指定モードにより処理が異なる。
回路108を介して、モータコントローラ116に走査
位置の初期位置への位置決めを指示する(ステップ30
0)。以ド、指定モードにより処理が異なる。
順次モードが指定された場合、マイクロブロセlす12
0は、カウンタM(RAM124の領域124J)に1
をセットしくステップ32o)、テーブル150のMM
I+のエントりに格納されている異物(Mll+に検出
された異物)のデータを読み出す(ステップ325)。
0は、カウンタM(RAM124の領域124J)に1
をセットしくステップ32o)、テーブル150のMM
I+のエントりに格納されている異物(Mll+に検出
された異物)のデータを読み出す(ステップ325)。
そして、その位置情HJ(x、/7)に対応した位置に
走査位置を移動させるための制御情報を、インターフェ
イス回路108を介してモータコントローラ116へ’
j−よる(ステップ330)。モータコントローラ11
6によりモータ14.20が制御され、走査位置の位置
決めがなされれば、当然、その光学顕微鏡52の視野の
中心に、2目1しているMil+の異物が位置する。
走査位置を移動させるための制御情報を、インターフェ
イス回路108を介してモータコントローラ116へ’
j−よる(ステップ330)。モータコントローラ11
6によりモータ14.20が制御され、走査位置の位置
決めがなされれば、当然、その光学顕微鏡52の視野の
中心に、2目1しているMil+の異物が位置する。
マイクロプロセッサ120は、M番11の異物のしコー
ドに対応する異物パターンと、2番11(PはRAM
124の領域124にカウンタPの値)の異物のしコー
ドに対応する異物パターンをROM122から読み出し
、PM[Iの異物のパターンはそのまま、M番11の異
物のパターンは反転して、アドレス情報とともにビデオ
コントローラ140へ順次転送し、それらのパターンを
ビデオRAMの該当アドレスに+’Fき込ませる(ステ
ップ335)。これで、CRTディスプレイ装置128
の両面に表17<されているW物マツプl−のM番11
の異物だけは、反転パターン乏して人生されるこ七にな
り、他の16物と視覚的に1×別さねる。
ドに対応する異物パターンと、2番11(PはRAM
124の領域124にカウンタPの値)の異物のしコー
ドに対応する異物パターンをROM122から読み出し
、PM[Iの異物のパターンはそのまま、M番11の異
物のパターンは反転して、アドレス情報とともにビデオ
コントローラ140へ順次転送し、それらのパターンを
ビデオRAMの該当アドレスに+’Fき込ませる(ステ
ップ335)。これで、CRTディスプレイ装置128
の両面に表17<されているW物マツプl−のM番11
の異物だけは、反転パターン乏して人生されるこ七にな
り、他の16物と視覚的に1×別さねる。
マイクロプロセッサ120は、インターフェイス回路1
08を介して位置情報を順次取り込み、MMI+の異物
の位置情報と比較し、位置決めの完rを判定する(ステ
ップ340)。位置決めが′完rすると、マイクロプロ
セッサ120は、観察1丁能の旨のメツセージをビデオ
RAM 138に転送し、CRTディスプレイ装置12
8の画面に人生させる(ステップ345)。そして、キ
ー人力を待つ(ステップ350)。
08を介して位置情報を順次取り込み、MMI+の異物
の位置情報と比較し、位置決めの完rを判定する(ステ
ップ340)。位置決めが′完rすると、マイクロプロ
セッサ120は、観察1丁能の旨のメツセージをビデオ
RAM 138に転送し、CRTディスプレイ装置12
8の画面に人生させる(ステップ345)。そして、キ
ー人力を待つ(ステップ350)。
オペレータは、異物の11視観察を11゛い、その異物
の性質ないし種類を識別し、その性質ないし種類のコー
ドをキーボード130より人力する。実際的には、]1
視観察ン9ブを指定するこことにより、CRTディスプ
レイ装置128の画面に、異物の性質ないし種類と番号
の表が表示されており、その表の該tlt、する准−シ
を人力する。
の性質ないし種類を識別し、その性質ないし種類のコー
ドをキーボード130より人力する。実際的には、]1
視観察ン9ブを指定するこことにより、CRTディスプ
レイ装置128の画面に、異物の性質ないし種類と番号
の表が表示されており、その表の該tlt、する准−シ
を人力する。
マイクロプロセッサ120は、人力コードカ異物の性質
ないし種類のコードならば(スタップ352) 、 ’
cノv −トラチーフル150(7’)MMIIツエン
トリにノFき込む(ステ、プ355)。たj−t=、人
力コードかタブな、どの他のコードの場合は、ステップ
355はスキップされる。
ないし種類のコードならば(スタップ352) 、 ’
cノv −トラチーフル150(7’)MMIIツエン
トリにノFき込む(ステ、プ355)。たj−t=、人
力コードかタブな、どの他のコードの場合は、ステップ
355はスキップされる。
−)ぎに、マイクロプロセッサ120は、カウンタM、
Pをまたけインクリ7ントしくスタップ360)、カ
ウンタMとカウンタNlの(++’fは検出された異物
の総合+jl数になっている)七の比較判定を11う(
ステップ365)。そして、M<Nならばステ、プ32
5へ1入る。
Pをまたけインクリ7ントしくスタップ360)、カ
ウンタMとカウンタNlの(++’fは検出された異物
の総合+jl数になっている)七の比較判定を11う(
ステップ365)。そして、M<Nならばステ、プ32
5へ1入る。
また、M≧Nならば、RAM138+、のテーブル15
0の記憶内容と〃5物合1;1数データを、ウェハ番z
ノとともにフロッピーディスク1. ! 2 Bへ転送
しくステ、ブ370) 、ン9ブメニュー画面状態に戻
る。
0の記憶内容と〃5物合1;1数データを、ウェハ番z
ノとともにフロッピーディスク1. ! 2 Bへ転送
しくステ、ブ370) 、ン9ブメニュー画面状態に戻
る。
・ツバ許ジノ指定モードが指定された場合、マイクロプ
ロセッサ120はオペレータからの異物洛−シ゛の入力
を待つ(スタップ410)。キー人力力なされると、そ
の人力コードが異物番号であるか判定する(ステップ4
15)。V禮物番5じてなければ、キー人力を持つ。
ロセッサ120はオペレータからの異物洛−シ゛の入力
を待つ(スタップ410)。キー人力力なされると、そ
の人力コードが異物番号であるか判定する(ステップ4
15)。V禮物番5じてなければ、キー人力を持つ。
II′11物各号がキー人力されると、マイクロプロセ
ッサ120は、そのγシ物洛zノ″をカウンタMにセッ
トしくステップ420)、ステップ325へ進む。
ッサ120は、そのγシ物洛zノ″をカウンタMにセッ
トしくステップ420)、ステップ325へ進む。
その後、スタップ357でカウンタMの値がカウンタP
にセントされ、次のステ、プ400において、現/1の
モードが番−3°指定モードかカーソル指定モードであ
るかの判定が行われる。ここでは、番5ノ・指定モード
であるから、ステップ410へ戻る。
にセントされ、次のステ、プ400において、現/1の
モードが番−3°指定モードかカーソル指定モードであ
るかの判定が行われる。ここでは、番5ノ・指定モード
であるから、ステップ410へ戻る。
以ド同様にして yIj物化号をキー人力することによ
り、指定したン亀巳物か顕微鏡52の視野のほぼ中心に
自動的に位置決めされ、11視観察がなされ、11視観
察の結果がテーブル150の藷当のエントリに+’Fき
込まれる。
り、指定したン亀巳物か顕微鏡52の視野のほぼ中心に
自動的に位置決めされ、11視観察がなされ、11視観
察の結果がテーブル150の藷当のエントリに+’Fき
込まれる。
なお、フローチャートには示されていないが、任意の時
点でキーボード130の終rキーを人力すれば、番−じ
指定モードが終rし、ステップ370の処理の後、ンA
ブメニュー画面の伏(6)に入る。
点でキーボード130の終rキーを人力すれば、番−じ
指定モードが終rし、ステップ370の処理の後、ンA
ブメニュー画面の伏(6)に入る。
カーソルth′lj、′モードについて説明する。カー
ソル指定モードにおいては、オペレータは、キーボード
130に設けられているカーソル操伯キーを操作するこ
七により、カーソル制御(+’i S7を通じてカーソ
ルアドレスポインタ140Aを史新し、CRTデfスプ
レィ装置128の画面に人生されているカーソルを、同
じく画面に人生されているII的の異物の位置に移動さ
せ、キーボード130のカーソル読込みキーを押ドする
ことによ&’)、!4JJ察すべき異物を指定する。
ソル指定モードにおいては、オペレータは、キーボード
130に設けられているカーソル操伯キーを操作するこ
七により、カーソル制御(+’i S7を通じてカーソ
ルアドレスポインタ140Aを史新し、CRTデfスプ
レィ装置128の画面に人生されているカーソルを、同
じく画面に人生されているII的の異物の位置に移動さ
せ、キーボード130のカーソル読込みキーを押ドする
ことによ&’)、!4JJ察すべき異物を指定する。
このモードになると、マイクロブロセ、す120はキー
人力を待ち(ステップ430)、キー人力がなされると
、カーソル読込みキーのコードであるか判定する(ステ
ップ435)。判定結TがNoならば、キー人力待ちに
なる。
人力を待ち(ステップ430)、キー人力がなされると
、カーソル読込みキーのコードであるか判定する(ステ
ップ435)。判定結TがNoならば、キー人力待ちに
なる。
判定結束かYESであると、マイクロプロセッサ120
は、カーソルアドレスポインタ140Aの内容(カーソ
ルアドレス)を読み取る(ステップ440)。そして、
そのカーソルアドレスを対応する走査イー7置、つまり
ソ、S物位置に゛灸換する(ステップ445)、。
は、カーソルアドレスポインタ140Aの内容(カーソ
ルアドレス)を読み取る(ステップ440)。そして、
そのカーソルアドレスを対応する走査イー7置、つまり
ソ、S物位置に゛灸換する(ステップ445)、。
次に、テーブル150をサーチし、求めた異物位置とテ
ーブル150に格納されている各γ11物の位置と比較
をJ+’い、最も近い異物を検索しくステ、ブ450)
、その+J4物の番シJをカウンタMにセ5.トする(
ステップ455)。そして、ステップ325へ進む。
ーブル150に格納されている各γ11物の位置と比較
をJ+’い、最も近い異物を検索しくステ、ブ450)
、その+J4物の番シJをカウンタMにセ5.トする(
ステップ455)。そして、ステップ325へ進む。
このようにして、カーソルで1旨定された異物が自動的
に顕微鏡の視野に位置決めされ、その観察結束がテーブ
ル150の、層重するエントリに−1き込まれる。
に顕微鏡の視野に位置決めされ、その観察結束がテーブ
ル150の、層重するエントリに−1き込まれる。
なお、国事されていないが、キーボード130の終rキ
ーを押ドすれば、ステップ370に分岐し、その終r後
にジョブ選択plq面の状態になる。
ーを押ドすれば、ステップ370に分岐し、その終r後
にジョブ選択plq面の状態になる。
前記11視観察によって、11視観察の結果と自動検査
の結果とが統合されたテーブルがjIIられる。
の結果とが統合されたテーブルがjIIられる。
なお、]1視観察において、観察中の異物がCRTディ
スプレイ装置128に画面表示されている異物マンプ1
−に、反転パターンとして人生されるため、オペレータ
(#iJJ察者)は、観察中の異物をVd物マツプ1−
で容易に確認できる。
スプレイ装置128に画面表示されている異物マンプ1
−に、反転パターンとして人生されるため、オペレータ
(#iJJ察者)は、観察中の異物をVd物マツプ1−
で容易に確認できる。
ジョブ選択画面の状態において、「印刷」を指定すれば
、検査結果をX−Yプロフタ12フより印刷出力させる
ことができる。
、検査結果をX−Yプロフタ12フより印刷出力させる
ことができる。
印刷が指定されると、第8図(F)に示されるように、
マイクロプロセッサ120は、ウェハ輪郭画像データを
フロッピーディスク装置126より読み出し、それをプ
ロッタコントローラへ転送する(ステップ465)。
マイクロプロセッサ120は、ウェハ輪郭画像データを
フロッピーディスク装置126より読み出し、それをプ
ロッタコントローラへ転送する(ステップ465)。
つぎにマイクロプロセッサ120は、印刷対象のウェハ
の番号(ジョブ選択時にキーボード130より人力され
る)が付加されてフロッピーディスク装置126に格納
されているテーブル150の記憶内容と異物合計数デー
タを順次読み出し、プロッタコントローラ137へ転送
する(ステップ470)。
の番号(ジョブ選択時にキーボード130より人力され
る)が付加されてフロッピーディスク装置126に格納
されているテーブル150の記憶内容と異物合計数デー
タを順次読み出し、プロッタコントローラ137へ転送
する(ステップ470)。
かくして、異物マツプ、テーブルの内容(表)、異物合
計数データ、ウェハ番ジノ・がX−Yプロッタ127に
より印刷される。
計数データ、ウェハ番ジノ・がX−Yプロッタ127に
より印刷される。
印刷が終rすると、ジョブ選択1+rii而の状態に戻
る。
る。
以1・、この発明の 実施例について説明したが、この
発明はそれだけに限定されるものではなく、適宜変形し
て実施し得るものである。
発明はそれだけに限定されるものではなく、適宜変形し
て実施し得るものである。
例えば、検査系50の走り位置が常に顕微鏡52の視野
内に入るようになっている必要は必ずしもなく、走り位
置と視野とか・定の位置関係を維持できればよい。但し
、+lit記実施例のようにすれば、11視観察中の異
物の識別などの処理が容易である。
内に入るようになっている必要は必ずしもなく、走り位
置と視野とか・定の位置関係を維持できればよい。但し
、+lit記実施例のようにすれば、11視観察中の異
物の識別などの処理が容易である。
前記ホトマルチプライヤの代わりに、他の適当な光電素
子を用い?jJる。
子を用い?jJる。
走査は螺旋走査に限らず、例えば直線走査としてもよい
。但し、直線走査は走査端で停止1・、するため、正合
時間が増加する傾向があり、また、ウェハのような円形
などの被検6而を走査する場合、走査端の信置制御が複
雑になる傾向がある。したがって、ウェハなとのン11
物検合の場合、螺旋走査が 般にイ1利である。
。但し、直線走査は走査端で停止1・、するため、正合
時間が増加する傾向があり、また、ウェハのような円形
などの被検6而を走査する場合、走査端の信置制御が複
雑になる傾向がある。したがって、ウェハなとのン11
物検合の場合、螺旋走査が 般にイ1利である。
また、この発明は、ウエノ・以外の?lA面の異物1装
置にも同様に適用し111ることは勿論である。また、
偏光レーザ尤以外の光ビームを利用する同様な大物検査
装置にも、この発明は適用Ill能である。
置にも同様に適用し111ることは勿論である。また、
偏光レーザ尤以外の光ビームを利用する同様な大物検査
装置にも、この発明は適用Ill能である。
[発明の効果コ
以1−説明したように、この発明によれば、ウェハの表
面に光ビームを11(1射し、該ウェハ而1−からの反
射光を光電素子に入射させ1.亥光電素γ−の出力信号
に基づき前記ウェハ面における異物の存否などを判定す
るウェハ異物検査装置において、光源より発した光ビー
ムが、エキスパンダに通されビーム径を拡大された後、
シリンドリカルレンズに通され特定の方向に絞られてか
ら、前記ウェハ面に、その異物が存在しない部分で実質
的に全反射されるような小さな!1(1射角度で照射せ
しめられるから、ウェハ内部の状態の影響による+i!
L検出を防1(・、できるとともに、光ビーム径が格別
大きな高価な光嵩1を用いることなく、ウェハ而の!(
(噴射密度を1・分高めて1・分な検出感度を得られる
、などの効果を達成できる。
面に光ビームを11(1射し、該ウェハ而1−からの反
射光を光電素子に入射させ1.亥光電素γ−の出力信号
に基づき前記ウェハ面における異物の存否などを判定す
るウェハ異物検査装置において、光源より発した光ビー
ムが、エキスパンダに通されビーム径を拡大された後、
シリンドリカルレンズに通され特定の方向に絞られてか
ら、前記ウェハ面に、その異物が存在しない部分で実質
的に全反射されるような小さな!1(1射角度で照射せ
しめられるから、ウェハ内部の状態の影響による+i!
L検出を防1(・、できるとともに、光ビーム径が格別
大きな高価な光嵩1を用いることなく、ウェハ而の!(
(噴射密度を1・分高めて1・分な検出感度を得られる
、などの効果を達成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるウェハ猶1物検合装置の光学系
などの概要図、第2図は同γd物検査装置の(+?−J
’系および処理制御系を小す概略ブロック図、第3図は
スリットのアバー千ヤの配置と分離ミラーの鏡面との対
応関係の説明図、第4図は被検谷面走査の説明図、第5
図はスリットのアパーチャの被検晶面1′、における視
野に関する説明図、第6図は異物の粒径とホトマルチプ
ライヤの出力信り七の関係、およびレベル比較の閾値と
の関係を小ナグラフ、第7図は検査処理に関連するテー
ブルの概念図、第8図(A)ないしくF)は検査処理に
関する処理のフローチャート、第9図はスリットのアパ
ーチャを直線的に配列した場合の光分離に関する説明1
ス1である。 10・・・Xステージ、14.24・・・モータ、22
・・・回転ステージ、30・・・ウェハ、36.38・
・・S偏光レーザ光振器、37.39・・・エキスパン
ダ、44.46・・・ンリンドリカルレンズ、50・・
・検出系、52・・・顕微鏡、72・・・スリット、7
4・・・アパーチャ、86・・・S偏光カントフィルタ
、87・・・ソレノイド、88・・・分離ミラー、90
・・・ホトマルチプライヤ、100・・・加31増幅Z
4.102・・・レベル比較回路、108・・・インタ
ーフェイス回路、116・・・モータコントローラ、1
16・・・ソレノイドドライバ、120・・・マイクロ
プロセッサ122・・・ROM1124・・・RAM、
126・・・フロッピーディスク装置、127・・・X
−Yプロブタ、128・・・CRTディスプレイ装置、
130・・・キーボード、138・・・ビデオRAM1
150・・・テーブル。
などの概要図、第2図は同γd物検査装置の(+?−J
’系および処理制御系を小す概略ブロック図、第3図は
スリットのアバー千ヤの配置と分離ミラーの鏡面との対
応関係の説明図、第4図は被検谷面走査の説明図、第5
図はスリットのアパーチャの被検晶面1′、における視
野に関する説明図、第6図は異物の粒径とホトマルチプ
ライヤの出力信り七の関係、およびレベル比較の閾値と
の関係を小ナグラフ、第7図は検査処理に関連するテー
ブルの概念図、第8図(A)ないしくF)は検査処理に
関する処理のフローチャート、第9図はスリットのアパ
ーチャを直線的に配列した場合の光分離に関する説明1
ス1である。 10・・・Xステージ、14.24・・・モータ、22
・・・回転ステージ、30・・・ウェハ、36.38・
・・S偏光レーザ光振器、37.39・・・エキスパン
ダ、44.46・・・ンリンドリカルレンズ、50・・
・検出系、52・・・顕微鏡、72・・・スリット、7
4・・・アパーチャ、86・・・S偏光カントフィルタ
、87・・・ソレノイド、88・・・分離ミラー、90
・・・ホトマルチプライヤ、100・・・加31増幅Z
4.102・・・レベル比較回路、108・・・インタ
ーフェイス回路、116・・・モータコントローラ、1
16・・・ソレノイドドライバ、120・・・マイクロ
プロセッサ122・・・ROM1124・・・RAM、
126・・・フロッピーディスク装置、127・・・X
−Yプロブタ、128・・・CRTディスプレイ装置、
130・・・キーボード、138・・・ビデオRAM1
150・・・テーブル。
Claims (1)
- (1)ウェハの表面に光ビームを照射し、該ウェハ面上
からの反射光を光電素子に入射させ、該光電素子の出力
信号に基づき前記ウェハ面における異物の存否などを判
定するウェハ異物検査装置において、光源より発した光
ビームが、エキスパンダに通されビーム径を拡大された
後、シリンドリカルレンズに通され特定の方向に絞られ
てから、前記ウェハ面に、その異物が存在しない部分で
実質的に全反射されるような小さな照射角度で照射せし
められることを特徴とするウェハ異物検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21052885A JPS6269150A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | ウエハ異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21052885A JPS6269150A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | ウエハ異物検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6269150A true JPS6269150A (ja) | 1987-03-30 |
Family
ID=16590854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21052885A Pending JPS6269150A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | ウエハ異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6269150A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03125945A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-05-29 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ウエハ異物検査装置 |
| JP2004514889A (ja) * | 2000-11-22 | 2004-05-20 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 表面欠陥の測定 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5630630A (en) * | 1979-08-23 | 1981-03-27 | Hitachi Ltd | Foreign matter detector |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP21052885A patent/JPS6269150A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5630630A (en) * | 1979-08-23 | 1981-03-27 | Hitachi Ltd | Foreign matter detector |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03125945A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-05-29 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ウエハ異物検査装置 |
| JP2004514889A (ja) * | 2000-11-22 | 2004-05-20 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 表面欠陥の測定 |
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