JPS6263678A - シーム溶接性に優れたティンフリースチールの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、溶接用ティンフリーステールおよびその製造
方法（２関する。

〔従来の波体〕

鋼板表面（−金属クロム層およびクロム水和酸化物層の
二層皮膜を有するティンフリースチール（以下、Ｔ　Ｆ
　Ｓ　−Ｃ’１’とイリ）ハ約２０年Ｍｉ＋　ｈ二開発
され、主として、食缶、１８１缶、菓子缶、飲料缶に多
飯（２使用されている。このＴＦＳ−ＣＴの缶胴接合は
、もっけら、接着法（ナイロン接看剤を接合部にはさみ
加熱正置する方法）を用いて行われるのか食通であるが
、近年、ブリキやニッケルメッキ鋼板を材料と１−る溶
接缶が多ｔａ　ｉ２実用化されるよう４二なり、Ｔ　Ｆ
　Ｓ　−Ｃ’ｌ’を溶接する試みがなされるようになっ
た。

ところが、通常のＴＦＳ−ＣＴではＴＫ気低抵抗よる溶
接は困難であり、特に、高速溶接において安定した溶接
強度、浴接外観を得ることは困難であることが明らかと
なった。

そこで、このＴＰＳ−ＣＴの浴接性を向上させる方法と
して、例えは、 （１）硫酸根、硝酸根、塩素イオン等の陰イオンを意図
的ｉ二は添加しないクロム酸、亜クロム酸などを主成分
とする水溶液中で、片面当たり０．５〜３０ｍｇ／Ｊの
金属クロム、釡属クロム換算で２〜５０ｍｇ／ｒＡのク
ロム水和酸化物を生成させたＴＦ’Ｓ−ｃ’ｉ”、ｃ特
開昭５５−１８５４２）、（２）鋼板表面ベニ３−４０
Ｈ／ｎ？の金属クロム層、その上部に金属クロム換算で
２〜１５ＩＴｈｇ／ｎａのクロム酸化物を主体とする非
金属クロム層からなり、金属クロム層をポーラスじした
ことを特徴とするクロムメッキ鋼板。（特開昭５５−３
１１２４）、（３）クロムメッキ鋼板に２０９６以下の
調質圧延を行うことを特徴とするクロムメッキ鋼板（特
開昭５５−４８４０６　）、などが提案され、ＴＦＳ−
ＣＴの溶接性向上について鋭意検討がなされているのが
実情である。

これらのＴ　Ｆ　８−　ＣＴ　ｈ：おいて、溶接性向上
を達成するための技術思想は次のように説明されている
。

即ち、上記引例（１）ｌ二おいては、クロム水和酸化物
の質的改善により金属クロム目付量を減少させることが
可能となり、溶接性の向上がもたらされたと説明されて
いる。引例（２１，＋３１１おいては、金属クロム層自
体が溶接開始直後の溶接電流通過を阻害しているので、
鋼板表面上において素地鋼の露出面積を多くするため、
金属クロム目付量を少なくしたり、４ｉ鵬クロムの目付
量の多い’！！！　甘で５調質圧延により鋼板に若干の
伸びにより亀裂を与えること４二より、溶接性を向上さ
せようとするものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上述のいずれの方法も缶用材料として必
要な耐食性能の点から見ると、金属クロム目付量の低下
、あるいは調質圧延による蕗出鋼面積の増大という耐食
性に不利な点はまぬがれ難いという問題を抱えていた。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上述のような技術思想とは全く異なる角度か
ら検討した結果見出したものである。即ち、Ｔ　Ｆ　Ｓ
　−ＣＴ　ｉｎ、おいて金属クロム層を多数の突起状ク
ロムが混在する析出形態とすることにより、接合部の′
電気接触抵抗が大はばζ二向上することを見出し、本発
明を完成する（２至うた。本発明の最大の特徴は、Ｔ　
Ｆ　Ｓ　　Ｃｉ、’−二おいて、溶接性以外の緒特性、
即ち、未ケ装時の耐食性、堅装後の耐食性などをなんら
低下させずに溶接性を同上させるには、金属クロム層を
多数の突起状クロムが混在する析出形態とすれば良いこ
とを見出したことにある。通常のＴＦ”５−ＣＴの金属
クロム層の析出形態は、第３図に示すように、突起状ク
ロムが素地龜表血の主として（１，００）［１０に見ら
れる程良であるが、特定の電解条件で析出させた蛍ｌ＾
クロム層においては、（１００）血ばかりでなく全面に
わたり突起状クロムの析出が起゛きてくる。

（第４図）この金属クロムｊ鰭における突起状クロムの
数と、熱アルカリでクロム水和酸化物を溶解後に、ＪＩ
Ｓ　　Ｚ　　８７４１ｉ二従って、２０反における金属
クロムメッキ前後の鏡面光沢度の差の関係をみたものが
第２図であり、クロム水和酸化物溶解的の電気接触抵抗
とクロム水和酸化物を溶解した後金属クロムメッキ前後
の鏡面光沢度の差の関係をみたものが第１図である。第
２図に示すように、透過電子顧微鏡写真で観察される莫
起状クロムの単位１１１Ｊ槓あたりの数と、金属クロム
メッキｔｉ−＋＋後の鏡面光沢度の差には艮い関係があ
り、突起状クロムの数が減少するにつれクロノ・メッキ
表面の鏡面光沢度は良くなる。鋼板の粗度によって異な
るが、通常のふりき、ＴＦＳ用の片板を用いると、金属
クロムの方が鉄よりも光沢が艮いため、一般にクロムメ
ッキにより試料の鏡面光沢度は良くなるのが普通である
。しかし、金属クロムを突起状クロムが混在する析出形
態にし、突起状クロムの数を増していくと次第に金属ク
ロム層の光沢が悪くなり、遂には、クロムメッキ…Ｉの
鋼板の鏡面光沢度よりも悪（なる。そこで、金属クロム
脂の析出状態を光沢度針で正確に測定し、クロム水和酸
化物溶解前の電気接触抵抗との関係を見ると、第１図に
示すように、光沢度が悪くなる程電気接触抵抗が小さく
なることがわかる。このことは、光沢度の良い金属クロ
ム層、即ち、平滑な表面は、溶接に良い作用をしないこ
とを示している。−力、光沢度の悪い金属クロムＪｆ＃
　、即ち、第４図の顕微鏡写真に示すように、１ｏｏｏ
オングストローム以下の径の突起状クロムが多数混在す
る表面は、溶接（２艮い作用をすることを示している。

このように、突起状クロムはシーム溶接時に電流通過の
起点となる他、加圧時に、電気絶縁性の表面のクロム水
和酸化物皮膜を破壊しおいという利点を口していると考
えられる。第１図に示したようｉ：＝Ｇａ（２０°）−
Ｇｂ　（２０’）ノ値が８９６を超；ｔ　６　ト竜気接
触抵抗値で表した溶接性が極端に悪くなる。

マタ、Ｑａ　（２００）−Ｇｂ　（２００）の値が負に
なる程、即ち、綱板よりもクロノ・メッキ後の表面の光
沢が悪くなる程溶接性は艮くなるが、突起状クロムの数
を増していっても−６９６を超えることはなかった。従
って、本発明における金属クロム層として、熱アルカリ
で上層のクロム水和酸化物を溶解後、Ｊｌ：Ｓ　　Ｚ　
　８７４１ｉ：、従つテ、２０ｉにおける金属クロムメ
ッキ削代の鏡面光沢度を測定し、クロムメッキ後の光沢
度をＧａ（２００）。

クロムメッキ前の光沢度をＧｂ（２０’）としだ１、Ｇ
ａ（２０°）−Ｇｂ　（２０’）（７）ｉが−６〜＋８
４の範囲に入るものと規定される。クロム水和酸化物皮
膜を溶解後の金属クロムＪ―の鏡面光沢度をよ１１定し
たのは、クロム水和酸化物皮膜が鏡面光沢度の値に与え
る影響を除くためであり、金属クロムメッキｌ￥ｒＩ後
の鏡面光沢度の差で析出状態を評価したのは、鋼板の粗
度が鏡面光沢度に与える影響を除くためである。金属ク
ロムの量が多いほど突起状クロムを生成するのに有利で
あり、金属クロムの世が３０　ｍｇ　／　ｎ（よりも少
なくなると突起状クロムが生成しなくなる。金属クロム
の量が５００　ｍｇ／Ｍを超えても、性能上、何ら不都
合な串はないが、コストおよび生産性の観点から上限を
この値とした。従って、本発明（＝おける金属クロム量
として、３０〜５００■／ｍと規定される。

突起状クロムを生成させる条件はいろいろあるが、例え
は、 （１）　　高濃度のクロム酸溶液中で断続電解を行う方
法。

（２）　　クロムメッキ中に、短時間の逆電解を打う方
法。

などがある。勿論、この方法以外にも、浴温、電流密度
、前処理等の電解条件を厳密３二選べば、通常のクロム
メッキ方法によっても突起状クロムを生成させることが
可能である。しかしながら、上記のｆｉ＋の方法では、
十分な数の突起状クロムを生成させることは難しく、電
解条件によつては突起状クロムが生成しない場合がある
。また、（２）の方法では、十分な数の突起状クロムを
生成させることはできるが表面汚れを発生しゃすい。そ
こで、電解条件によらず安定して突起状クロムを生成（
−１かつ、表向汚れを発生しにくいクロムメッキ方法を
種々検Ｒしたところ、クロムメッキの途中で水洗乾燥し
、引き続き電解を行うのが効果的であることを見出した
。この中間乾燥により突起状クロムが生成する理由は次
のように考えられる。

電解クロム酸処理により金属クロムを生成させる際に、
隘極となる鋼帯表面では最初（２可溶性のゾル状クロム
水和酸化物皮膜が生成し、この皮膜を通して金属クロム
の析出が起さると一般く二考えられている。連続電解の
場合はゾル状のクロム水和酸化物が表面をほぼ完全に覆
っているため、突起状クロムの生成は殆ど起こらない。

これに対して、断続電解ではゾル状クロム水和酸化物皮
膜が断続時の溶解、電解時の生成を繰り返し、皮膜の欠
陥部（＝おいて優先的に突起状クロムが生成する。

尚濃度のクロム酸を用いた方が粒状析出し易い地山も、
ＩＱｌＩＩＩｋ度の力がゾル状のクロム水和酸化物皮膜
を溶解する力が強く、皮膜に欠陥を生成しやすいためと
説明される。

そこで、一端電解を中断し５、水洗、乾燥後、再度′電
解を続けると、ゾル状のクロム水和酸化物が乾燥時（＝
収縮して多数の欠陥部を生成するため、単（―断続電解
を行う時のクロム水和酸化物皮膜よりもはるかに多くの
欠陥部を有するよう（−なり、その結果、断続電解より
も数多くの突起状クロムを生成する。乾燥の程度はゾル
状のクロム水和酸化物皮膜が一部ゲル化する程度で十分
であり、通常の熱風乾燥の場合は乾燥雰囲気中で板温な
７０°以上に数秒間保持するだけでよい。吏４二短時間
で加熱したい場合は、抵抗加熱や誘導加熱の方法を併用
することも有効である。かくして、突起状クロムが結晶
面に依らず安定して析出するようじなると考えられる。

公知のように、Ｔ　Ｆ　Ｓ　−ＣＴの製造法には二液法
と二液法とがあり、いずれの製造法≦二おいても５メツ
キタンクを開型じ数槽並べて断続電解を行い、メッキ槽
間で、水洗、乾燥を行わないのが一般的である。

二液法では金属クロムとクロム水和酸化物を同時に析出
させるため、比較的低濃度のクロム酸浴が用いられる。

本発明では、−液性の場合は、前段のタンクで約３〜１
５ｍｇ／Ｆ　ｃ以下、クロム換算値で表記する）のクロ
ム水和酸化物を生成させた後、一旦、水洗、乾燥して表
面のクロム水和酸化物をゲル化させ、引き続き、同じ液
を用いて後段のタンクで電解クロム酸処理を行い、金属
クロムどクロム水和酸化物を生成させる。

一方、二液法では最初に高濃度のクロム酸浴中で主とし
て金属クロムを析出させた後、低濃度のクロム酸洛中で
主としてクロム水和酸化物を生成させるのが普通である
。本発明では、二液法の場合は、クロムメッキ工程にお
いて、自１１段のタンクで金属クロムと約３〜１５ｆ１
１ｇ／ｒａのクロム水和酸化物を生成させた後、一旦、
水洗、乾燥して表面のクロム水和酸化物を′ビル化させ
、引き続き、向じ液を用いて後段のタンクでクロムメッ
キを行い、金属クロムと少量のクロム水和酸化物を生成
させる。二液法の場合は必要（２応じて、この後、主と
してクロム水和酸化物を生成する浴中で亀解し、所望の
量のクロム水和酸化物を析出させる。

−液性、二液性とも複数個のメッキタンクがある場合に
は、水洗、乾燥を各メッキタンクの前で全て行っても艮
いし、−回だけ行っても艮い、、−回しか水洗、乾燥を
行わない場合は、できるたけ前段のメッキタンク後に水
洗、乾燥を何うのが艮い。

上層のクロム水和酸化物皮膜の膜厚の均一性がＴＦＳ−
ＣＴの耐食性を確保するの（−重要である。

金属クロム層を突起状クロムが混在する析出形態とする
ことにより、耐食性が悪くなることはない。

クロム水和酸化物の量は少ないはど浴接性は良いが、５
　ｍｇ　／　ｍ”よりも少なくなると著しく耐食性が悪
くなる。一方、クロム水和酸化物の＋ｉｔが多いほど耐
食性は良いが、２０＋ｙ＋ｇ／ｍをこえると著しく溶接
性が悪くなる。従って、本発明４−おけるクロム水和酸
化物の量として５〜２０ｍｇ／ｎ’ｌと規定される。

〔作　用〕

ＴＦＳ−ＣＴの溶接性を艮くするために金属クロム層を
ポーラスにしたり金属、クロムＭｌ二調實圧延でクラッ
クを入れる方法は、ＴＦＳ−ＣＴの耐食性を悪くするお
それがある。本発明では、連続した金属クロム層を有し
ながらもその表面に突起状クロムを多数析出させること
により最表層の絶縁性のクロム水和酸化物皮膜を溶接の
加圧時にＩＯ々壊し易＜［７、溶接電流が流れ易いよう
（ニした。金属クロムメッキ工程の途中に乾燥工程をも
うけて、突起状クロムを安定して生成させるようにした
。

かくすることにより、耐食性４で損なうことなしく二Ｔ
ＦＳ−ＣＴの溶接性を著しく向上下ることができる。

〔実施例〕

次に本発明の実施例を比較例とともに挙ける。

〔−；雄側１〕 通常の方法で脱脂（Ｎ　ａ　ＯＨ７０ｇ　／　ｌ　、温
ａ　８０’Ｃ、電流密度　５ｈ７ａｒｘ！、時間　２秒
）。

酸洗（Ｈ２８０４７０ｇ／ｊ、温度３０’Ｃ，３秒間浸
漬）の前処理をした０、２２ｍｍ厚の冷延鋼板を、５５
°ＣのＣｒ　Ｏｓ　２００　ｇ　／　ｌ　、Ｈ２Ｓ　０
４３　ｇ／ｌのクロム酸浴中で、電流密度３ＱＡ／ｄ１
１ｆで１．５秒間陰極処理し、約５０ｍｇ／ｒｒｆの金
属クロムと約６＠／ｒＡのクロム水和酸化物を析出させ
た。

電解終了後、直ち（１浴から収りだし、水洗、乾燥（ド
ライヤーの約１００’Ｃの熱風で十分じ乾燥）し、引き
続き同じ浴中で３ａｈ７ａｄで１．５秒間陰極処理し、
約５０ｍｇ／ｎｆの金属クロムとクロム水和酸化物を析
出させた。

〔比較例１〕 通常の方法で脱脂、酸洗の前処理をした０、２２ｍｍ　
Ｂ　Ｏ）冷延鋼板を、５５’ＣのＣｒ０５２００ｇ／ｌ
、Ｈ２Ｂ０４３ｇ／ｊのクロム酸浴中で、電流密度３０
Ａ／ｄｎｆで１．５秒間陰極処理し、約５０■／Ｍの金
属クロムと約６■／Ｍのクロム水和酸化物を析出させた
。電解終了後、２秒間同じ浴中に浸漬し、引き続き３０
Ａ／ｄｎｆで１．５秒間陰極処理し、約５０ｍｇ、、／
Ｊの金属クロムとクロム水和酸化物を析出させた。

〔実施例２〕 実施例ｘの冷ｋｊｌＪ板を、５５°ＣｃＤＣｒＵ、１０
０ｇ　／　１　、　Ｎ　ａ　ｋ’　６　ｇ　／　ｌのク
ロム酸浴中で、冷；流密Ｌ４ｏｈ７ｄｒＡで１．０秒面
陰極処理し約５０■／ｒＡの金属クロムと約５ｍｇ／Ｉ
Ｎ（のクロム水和酸化物を析出させた。電解終了後、直
ち４二府から収りたし、水洗、乾燥し、引さ和°Ｌき同
じ浴中で２０人／　ｄ　ｒｎ”で２，０秒間陰極処理し
、約５０４／［Ｔｆの金属クロムとクロム水和酸化物を
析出させた。

〔実施例３〕 実施例２のＴＦＳ−ＣＴを、水洗代、３０°ＣのＣｒ　
Ｏｓ　５０　ｇ　／　ｐ　ｅ　Ｎ　ａｋ’　２　ｇ　／
　Ｚのクロム酸浴中で、亀ｔｋ密度１０　Ａ　／　ｄ　
ＩＪで２秒間１ぢ９極処理して、この上にクロム水和酸
化物をυ■出さゼた。

〔比較例２〕 実施例１の冷延鎖板を、５５°ＣＯ）　Ｃｒ　Ｕ　：ｌ
　１００ｇ　／　４　、　Ｎ　ａ　Ｆ　６　ｇ　／　Ｈ
ツクロムｍｇ中で、を流密ａ４０Ａ／ｄｍで１．０秒間
＾極処理し、約５０ｒｓ　／　ｒＡの金属クロムと約５
＃／艷のクロム水和酸化物を析出させた。電解終了後、
２秒間浴中に浚償し、引き続き２０Ａ／ａｎｔで２．０
秒間陰極処理し、約５０■／冨の金属クロムとクロム水
和酸化物を析出させた。水洗後史＋二、３０’ＣのＣｒ
ｙ。

５０　ｇ／ｊ　、　Ｎ　ａ　Ｆ　２　ｇ／　ｔツクａム
酸浴中ｒ：、電流密度１　ＯＡ／ｄｒｄで２秒間陰極処
理し、この上にクロム水和酸化物をＵ［出させた。

第１表幅−１特性評価結果を示す。

第１表　特性評価試験結果 ｆｉ＋　　鏡面光沢度の測定力法 鏡面光沢度の測定（＝はスガ試験機株式会社のデジタル
光沢針を用い、入射角、受光２１を２０反に設定し、−
次作業標準板の１ｄｉ　８８．２％とした時の試料の鏡
面光沢度を測定した。ム！、血光沢度は試ｉＬ）の向き
（庄姑方回に対する角ＩＭＬ　）　ｌニーよっても異な
るため、石板の圧延方向と平行、旧角、４５反の３方向
で各３点づつ測定し７．９点の平均値で表した。

ｒＦＳ−ｃ、’ｒを９５°Ｃ（Ｄ　７・）Ｎ　−Ｎ　ａ
　（Ｊ　Ｈ中に５分間浸漬してクロム水和酸化！−ｉン
を浴駄後の金１６亀クロムのλ（Σ面光沢反をＱ　ａ　
（２０″）とした。史に、金属クロムをｌＮ−ＮａＯＨ
中でｕ（・ム浴解後の片１板の鏡面光沢度をＧｂ’（２
０°）トシタ。Ｇａ（２０°）−Ｑｂ（２０’）の値で
評価することにより、鏡面光沢度に与える′Ｍ板の粗度
の違いによイ）影響を除いた。

（２）接触抵抗８ｉｌＪ定力法 溶接性は、均一なナゲツト形成及び十分な溶接強度を得
るのに必要な電流下限と苑地ｊｈ扱の一部が溶解飛散（
スプラッシュ発生）してしまう電流上限の差より求めた
適正溶接電流範囲の大小によって表わされ、この範囲が
大きいほど溶接性が良好とされている。この適正溶接電
流範囲は溶接缶用材料鋼板を２枚重ねした時の゛電気接
触抵抗値と艮い相関があり、電気接触抵抗が低いほど適
正溶接電流範囲は大きい。そこで、本発明の溶接缶用テ
ィンフリースチールの溶接性試験としてこの電気接触抵
抗値測定を実施した。

この電気接触抵抗値は以下に述べる方法により測定した
。それぞれの円周が１点で接触するように対ｂ＼した２
つの銅製円盤電極（的径５５ｍｍ、厚さ２ｒｒ＋ｍ）の
接触部位に２枚重ねした試料板（２０ｍｍｘ　ｌ　Ｑ　
Ｑｍｍ）を挾み、電極間を加圧する。２つの円盤電極間
に５人の直流′電流を流し、周速５ｍ／　ｍ　ｉ　ｎ　
、で回転させて試料板を移動させながら電極間の電圧を
測定し、電気接触抵抗値（単位：ミリオーム）を求めた
。尚、試料板は全て２１０゜Ｃで２０分間の加熱処理を
施してから測定に供した。

（３）壁装後耐食性試験 試料板にエポキシ・フェノール糸内面塗料を６０ｍｇ／
ｄ、ｉ塗布し、２１０°Ｃで１２分間焼き付けた後、ク
ロスカット試験機で墜膜面から素地Ｍ板（＝達する傷を
十文字に人れ、これを１．５９りクエン酸−１，５９６
食塩からなる腐食液中に浸欲して５０’Ｃで７日間経時
させた後（ニセロファンテーブで傷部付近の塗膜を剥離
して、腐食中を含む腐食状態を下記の５段階法により評
価した。

５：著しく良好、　４：良好、　３：やや劣る、　　２
：劣る、　　１：著しく劣る（４）塗料密着性試験 塾装後耐食性試験と同じ方法で孕装焼き付けした試料を
直径８Ｑｒｎｒｎの円板に打ち抜き、絞り比２でカップ
に絞り、１３０°Ｃの蒸気で２時間レトルト処理をした
後、カップの外面側置部塗膜をセロファンテープにより
剥離して下記の５段階法（＝より評価した。

５：剥離なし、　４：僅に剥離、　３：少し剥離、　２
：はとんどｑ（１離、　１：全面剥離〔発明の効果〕 本発明の浴接用ティンフリーステールは堅装後耐食性、
塗料密着性、対硫化黒変性などの従来のＴ　ＦＳ　−Ｃ
Ｔが有している特性を損なうことなしく二溶接性を著し
く改良でさる。従って、５ｎＪｐＮｌをメッキした溶接
材料の代替とすることができ、飲料缶用ばかりでなく魚
肉２食肉などを内容物とする一般食缶（１至るまで広く
使用可能であり、極めて有用性の高い材料である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ＴＦＳ−ＣＴの電気接触抵抗値と、クロム水
和酸化物溶解仮測定した金属クロムメッキ前後の鏡面光
沢度の差の関係を見た図面である。 第２図は、透過電子顕微鏡写真で見た金属クロム上の突
起状クロム生成密度と、クロム水和酸化物溶解仮測定し
た金属クロムメッキ前後の鏡面光沢度の差の関係を見た
図面である。 第３図は、通常のＴＦＳ−ＣＴの金属クロム層の透過電
子顕微鏡写真であり、第４図は、突起状クロムの多い金
属クロム層の透過′電子顕微鏡写真である。 図中の（）は金属クロムの結晶面を示す。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）銅板の表面に片面当たり３０〜５００ｍｇ／ｍ＾
   ２の金属クロム層と、この金属クロム層上に、クロム換
   算で片面当たり５〜２０ｍｇ／ｍ＾２のクロム水和酸化
   物を有するティンフリースチールにおいて、金属クロム
   層を突起状クロムが混在する析出状態とし、熱アルカリ
   により上層のクロム水和酸化物を溶解後、鏡面光沢度測
   定方法（ＪＩＳ　Ｚ８７４１）に従って測定したクロム
   メッキ後の２０度鏡面光沢度をＧａ（２０°）、クロム
   メッキ前の２０度鏡面光沢度をＧｂ（２０°）とした時
   、−６％≦Ｇａ（２０°）−Ｇｂ（２０°）≦＋８％な
   る条件を満足することを特徴とする、シーム溶接性に優
   れたティンフリースチール。
2. （２）無水クロム酸を主成分とする電解クロム酸処理浴
   中で鋼帯を陰極処理することにより金属クロムとクロム
   水和酸化物を生成させる工程において、電解クロム酸処
   理後、一旦、水洗、乾燥し、再度電解クロム酸処理する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシーム溶
   接性に優れたティンフリースチールの製造方法。
3. （３）無水クロム酸を主成分とするクロムメッキ浴中で
   鋼帯を陰極処理することにより主として金属クロムを生
   成させる工程において、クロムメッキ後、一旦、水洗、
   乾燥し、再度クロムメッキすることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載のシーム溶接性に優れたティンフリ
   ースチールの製造方法。