JPS626224A - 液晶配向膜の形成法 - Google Patents
液晶配向膜の形成法Info
- Publication number
- JPS626224A JPS626224A JP14556185A JP14556185A JPS626224A JP S626224 A JPS626224 A JP S626224A JP 14556185 A JP14556185 A JP 14556185A JP 14556185 A JP14556185 A JP 14556185A JP S626224 A JPS626224 A JP S626224A
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- Japan
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- substrate
- liquid crystal
- film
- polyimide resin
- solvent
- Prior art date
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、液晶配向膜の形成法に関する。特に液晶分子
を基板に対して水平方向に配向せしめるに好適な配向膜
に関する。
を基板に対して水平方向に配向せしめるに好適な配向膜
に関する。
従来の技術
従来、液晶分子を水平方向に配向せしめる配向膜の材料
として、専らポリ・イミド膜が用いられる。このポリ・
イミド膜自身の光学的性質、及び信頼性、耐熱性が非常
に優れていることが確められている。
として、専らポリ・イミド膜が用いられる。このポリ・
イミド膜自身の光学的性質、及び信頼性、耐熱性が非常
に優れていることが確められている。
従来におけるポリ・イミド膜の典型的形成法は、まず、
基板にシラン・カップリング剤（たとえば、ヘキサ・メ
チレン・ジシラザン）を溶媒で希釈した液をスピナー等
で塗布し、つぎに、多価カルボン酸とジアミンを合成し
て得られたプレ・ポリマーの溶媒稀釈を基板に、印刷法
または１、スピナー法で塗布し、その後焼成してポリ・
イミド膜を得る方法である。
基板にシラン・カップリング剤（たとえば、ヘキサ・メ
チレン・ジシラザン）を溶媒で希釈した液をスピナー等
で塗布し、つぎに、多価カルボン酸とジアミンを合成し
て得られたプレ・ポリマーの溶媒稀釈を基板に、印刷法
または１、スピナー法で塗布し、その後焼成してポリ・
イミド膜を得る方法である。
現実には、一定方向に、前記ポリ・イミド膜にラビング
を施すことにより、液晶に対する配向性が賦与される。
を施すことにより、液晶に対する配向性が賦与される。
発明が解決しようとする問題点
前記シラン・カップリング剤の溶媒・稀釈の塗布は、非
常に薄く塗ることの必要性から、スピナーでの塗布がな
されるが、これは１基板毎のバッチ処理であり、量産に
はや一難がある。
常に薄く塗ることの必要性から、スピナーでの塗布がな
されるが、これは１基板毎のバッチ処理であり、量産に
はや一難がある。
また、従来のシラン・カップリング剤の溶媒・稀釈のス
ピナーによる塗布と続いての前述のポリ・イミドのプレ
・ポリマーの溶媒・稀釈の塗布の場合、基板上での前記
プレ・ポリマーの溶媒・稀釈の塗布された状態が局部的
に弾き、すなわち、そノ部分が前記プレ・ポリマーの溶
媒・稀釈に濡れないことが起りがちである。この種の基
板で液晶セルを構成すると、表示品質は一般にかなり劣
化する。
ピナーによる塗布と続いての前述のポリ・イミドのプレ
・ポリマーの溶媒・稀釈の塗布の場合、基板上での前記
プレ・ポリマーの溶媒・稀釈の塗布された状態が局部的
に弾き、すなわち、そノ部分が前記プレ・ポリマーの溶
媒・稀釈に濡れないことが起りがちである。この種の基
板で液晶セルを構成すると、表示品質は一般にかなり劣
化する。
問題点を解決するための手段
本発明は前記問題点を解決するために、液晶分子を配向
させる配向膜を、基板にポリ・イミド樹脂膜を形成し、
ラビングすることにより得る過程において、気化したシ
ラン・カップリング剤を含む雰囲気中に前記基板を晒し
、つぎにその上にポリ・イミド樹脂膜を形成し、そのあ
とラビングすることを特徴とする液晶配向膜の形成法を
提供する。
させる配向膜を、基板にポリ・イミド樹脂膜を形成し、
ラビングすることにより得る過程において、気化したシ
ラン・カップリング剤を含む雰囲気中に前記基板を晒し
、つぎにその上にポリ・イミド樹脂膜を形成し、そのあ
とラビングすることを特徴とする液晶配向膜の形成法を
提供する。
作用
発明者らは、種々の実験の結果、気化したシラン・カッ
プリング剤、たとえばヘキサ・メチレン・ディシラザン
を含む雰囲気中に基板を晒し、つぎに多価カルボン酸と
ジアミンを合成して得られたプレ・ポリマーの溶媒・稀
釈を基板上に印刷法または、スピナー法で塗布し、その
あと熱処理により共°重合させるか、または殆ど完全に
重合度の進んだポリ・イミド重合体溶液を基板上に印刷
法または、スピナー法で塗布し、加熱して溶剤を蒸発・
乾燥でせて、ポリ・イミド樹脂膜を得る方法、すなわち
本発明に係る方法は、基板上での前記塗布の際、弾きか
なく、濡れがよいことが判った。
プリング剤、たとえばヘキサ・メチレン・ディシラザン
を含む雰囲気中に基板を晒し、つぎに多価カルボン酸と
ジアミンを合成して得られたプレ・ポリマーの溶媒・稀
釈を基板上に印刷法または、スピナー法で塗布し、その
あと熱処理により共°重合させるか、または殆ど完全に
重合度の進んだポリ・イミド重合体溶液を基板上に印刷
法または、スピナー法で塗布し、加熱して溶剤を蒸発・
乾燥でせて、ポリ・イミド樹脂膜を得る方法、すなわち
本発明に係る方法は、基板上での前記塗布の際、弾きか
なく、濡れがよいことが判った。
これは、従来法、すなわちシラン・カップリング剤の溶
媒・稀釈のスピナー塗布よりも、本発明による方法、す
なわちシラン・カップリング剤の蒸気に基板を晒す方が
、シラン・カップリング剤が基板上に薄く、均一に付着
するからだと考えられる。
媒・稀釈のスピナー塗布よりも、本発明による方法、す
なわちシラン・カップリング剤の蒸気に基板を晒す方が
、シラン・カップリング剤が基板上に薄く、均一に付着
するからだと考えられる。
シラン・カップリング剤の蒸気に基板を晒す時間は、数
分程度でよい。従って、シラン・カップリング剤の蒸気
に基板を晒す工程はバッチ処理が妥当だが、一度に多数
の基板の処理が可能であり、従って、量産にも十分適応
出来るものである。
分程度でよい。従って、シラン・カップリング剤の蒸気
に基板を晒す工程はバッチ処理が妥当だが、一度に多数
の基板の処理が可能であり、従って、量産にも十分適応
出来るものである。
実施例
以下、本発明の実施例を示す。
ソーダ・ガラスに二酸化硅素が被覆され、その上に、所
定の形状の酸化インジウム透明導電性膜（ＩＴＯ膜）を
有する基板を購入した。つぎに、これを東京応化製表面
処理剤（商標０ムＰ）と、前記基板とを、密閉された常
湿の容器内に数分共存させる。このとき、ヘキサ・メチ
レン・ディシラザンを含む蒸気は前記容器内に満ちてい
る。つぎに前記容器から基板を取り出し、東し製、ポリ
・イミドのプレ・ポリマー、８１”＄２５００を１％含
ムディメチル・アセトアミド溶液を基板上にスピナー・
塗布した。
定の形状の酸化インジウム透明導電性膜（ＩＴＯ膜）を
有する基板を購入した。つぎに、これを東京応化製表面
処理剤（商標０ムＰ）と、前記基板とを、密閉された常
湿の容器内に数分共存させる。このとき、ヘキサ・メチ
レン・ディシラザンを含む蒸気は前記容器内に満ちてい
る。つぎに前記容器から基板を取り出し、東し製、ポリ
・イミドのプレ・ポリマー、８１”＄２５００を１％含
ムディメチル・アセトアミド溶液を基板上にスピナー・
塗布した。
前記プレ・ポリマーを含む溶液の塗布状態を肉眼及び、
顕微鏡で観察すれば、均一・一様で局部的な弾きは全く
観察されなかった。この状況は、従来の場合より一段と
改善されていることが判る。
顕微鏡で観察すれば、均一・一様で局部的な弾きは全く
観察されなかった。この状況は、従来の場合より一段と
改善されていることが判る。
つぎに、約３６０°Ｃで前記基板を熱処理し、その後、
ラビング処理をする。この様な処理をした基板を２枚用
意し適当なセルギャップを保ち、エポキシ樹脂にて貼り
合わせた。この様にした状態でその基板間の間隙に、フ
ェニル・シクロヘキサン系の液晶（メルク社製ＺＬＩ−
１１３２）を真空台°浸法にて注入・充填して液晶素子
を構成した。
ラビング処理をする。この様な処理をした基板を２枚用
意し適当なセルギャップを保ち、エポキシ樹脂にて貼り
合わせた。この様にした状態でその基板間の間隙に、フ
ェニル・シクロヘキサン系の液晶（メルク社製ＺＬＩ−
１１３２）を真空台°浸法にて注入・充填して液晶素子
を構成した。
つぎに前記液晶素子を直交偏光板間に設置した。
以上の構造のツイスト・ネマティック液晶を用いた電界
効果型液晶表示素子の電気光学特性を測定した。コント
ラストは、従来のものに比べて、約０．５上昇した。
効果型液晶表示素子の電気光学特性を測定した。コント
ラストは、従来のものに比べて、約０．５上昇した。
発明の効果
以上、本発明は、表示品質の向上した液晶表示素子のた
めの配向膜の形成法を開示するものであって、かつ、前
記形成法は、量産により適応したものである。よって、
本発明は産業上、資すること大である。
めの配向膜の形成法を開示するものであって、かつ、前
記形成法は、量産により適応したものである。よって、
本発明は産業上、資すること大である。
Claims (1)
- 液晶分子を配向させる配向膜を、基板にポリ・イミド樹
脂膜を形成し、ラビングすることにより得る過程におい
て、気化したシラン・カップリング剤を含む雰囲気中に
前記基板を晒し、つぎにその上にポリ・イミド樹脂膜を
形成し、そのあとラビングすることを特徴とする液晶配
向膜の形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14556185A JPS626224A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 液晶配向膜の形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14556185A JPS626224A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 液晶配向膜の形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS626224A true JPS626224A (ja) | 1987-01-13 |
Family
ID=15387988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14556185A Pending JPS626224A (ja) | 1985-07-02 | 1985-07-02 | 液晶配向膜の形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS626224A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0264617A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-05 | Seiko Instr Inc | 多色液晶表示装置の製造方法 |
| US6559066B2 (en) | 1996-08-02 | 2003-05-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for use in display element, method of manufacturing the same, and apparatus for manufacturing the same |
-
1985
- 1985-07-02 JP JP14556185A patent/JPS626224A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0264617A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-05 | Seiko Instr Inc | 多色液晶表示装置の製造方法 |
| US6559066B2 (en) | 1996-08-02 | 2003-05-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for use in display element, method of manufacturing the same, and apparatus for manufacturing the same |
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