JPS6258224A - Transparent conductive base material - Google Patents
Transparent conductive base materialInfo
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- JPS6258224A JPS6258224A JP60198901A JP19890185A JPS6258224A JP S6258224 A JPS6258224 A JP S6258224A JP 60198901 A JP60198901 A JP 60198901A JP 19890185 A JP19890185 A JP 19890185A JP S6258224 A JPS6258224 A JP S6258224A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は透明導電性基材に関するものであり、詳しくは
、液晶ディスプレー用の表示板として適した透明導電性
基材に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a transparent conductive base material, and more particularly to a transparent conductive base material suitable as a display plate for a liquid crystal display.
(従来技術とその欠点)
透明導電性基材は通常、タッチパネル及び透明スイッチ
として用いられる他、例えば、液晶ディスプレー用の表
示板としても利用されている。この表示板は通常、ガラ
ス基板の片面に導電層を有すると共に、他面に偏光フィ
ルム層が形成されているが、導電層は金属又は金属酸化
物をスパッタリング法又は真空蒸着法などにより形成さ
れ、また、偏光フィルム層は例えば、a−Vを配合した
ポリビニルアルコール又ハ二色性色素を配合あるいは吸
着させたポリエステルなどの合成樹脂よりなる偏光フィ
ルムを積層することにより形成される。(Prior Art and Its Disadvantages) Transparent conductive substrates are usually used as touch panels and transparent switches, and are also used, for example, as display plates for liquid crystal displays. This display board usually has a conductive layer on one side of a glass substrate and a polarizing film layer on the other side, but the conductive layer is formed by sputtering or vacuum deposition of a metal or metal oxide. Further, the polarizing film layer is formed by laminating polarizing films made of synthetic resin such as polyvinyl alcohol containing a-V or polyester containing or adsorbing a dichroic dye.
しかしながら、このような構造の表示板は基板がガラス
であるため、曲げ強度及び衝撃強度に弱く、また、表面
がわん曲している表示板を製造することは難しい。そこ
で、近時、ガラス基板をポリエステルなどの合成樹脂基
板に代替する方法が提案されており、この場合には、表
示板自体に可撓性があるので、上記の欠点は改善され、
更に、表示板の軽量化を計ることができるので好ましい
。However, since the substrate of a display panel having such a structure is made of glass, it is weak in bending strength and impact strength, and it is difficult to manufacture a display panel with a curved surface. Recently, a method has been proposed to replace the glass substrate with a synthetic resin substrate such as polyester.In this case, the display board itself is flexible, so the above drawbacks are improved.
Furthermore, it is preferable because the weight of the display board can be reduced.
ところが、この場合には、合成樹脂基板上に偏光フィル
ムを積層することとなるが、偏光フィルムをムラなく均
一に積層することは極めて難しく、非常に大きな注意力
を有する。なお、通常の表示板では偏光フィルム層の外
側にセルロース系又は有機シリコン系などの保曖層を、
また、導電層の外側にポリイミド系樹脂などの配向膜が
設けられるが、これらの層の形成はいずれも、液状物を
塗布することにより実施されるので、フィルム自体を積
層処理するのは偏光フィルムだけである。However, in this case, the polarizing film is laminated on the synthetic resin substrate, but it is extremely difficult to evenly and uniformly laminate the polarizing film, and a great deal of care is required. In addition, in normal display boards, a cellulose-based or organic silicon-based retention layer is placed on the outside of the polarizing film layer.
In addition, an alignment film such as polyimide resin is provided on the outside of the conductive layer, but these layers are formed by applying a liquid material, so the film itself is laminated with a polarizing film. Only.
(発明の目的と解決手段)
そこで、本発明は上記実情に鑑み、偏光フィルムを積層
処理する必要がなく、均一で高品質の表示板を安定して
生産することのできる方法を提供するものであり、この
目的は偏光機能を有する合成樹脂製基板の少なくとも片
面に、金属又は金属酸化物をスパッタリング法又は真空
蒸着法により形成させた導電層を設けた透明導電性基材
を用いることにより達成される。(Objectives and Solutions of the Invention) In view of the above-mentioned circumstances, the present invention provides a method that can stably produce uniform, high-quality display boards without the need for lamination processing of polarizing films. This objective can be achieved by using a transparent conductive base material having a conductive layer formed by sputtering or vacuum deposition of a metal or metal oxide on at least one side of a synthetic resin substrate having a polarizing function. Ru.
(発明の構成)
以下、本発明を図面により詳細に説明するに、第1図は
不発明の透明導電性基材の一例を示す断面図であり、第
一図は従来の液晶ディスプレー用の表示板の断面図であ
り、11)は基板、(2)は導電層、(3)は配向層、
(4)は保護層、(5)は偏光フィルムを示す。(Structure of the Invention) Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an example of an uninvented transparent conductive base material, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the plate, 11) is a substrate, (2) is a conductive layer, (3) is an alignment layer,
(4) indicates a protective layer, and (5) indicates a polarizing film.
本発明においては、基板(1)は透明な合成樹脂により
構成され、しかも、偏光機能を有することを必須とする
が、合成樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンーー、6−ナフタレンジカルボキ
シレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、セルロー
ストリアセテート、セルロースダイアセテート、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン、ポリアミドなどが挙げられ
、通常、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。基板
(1)の厚さは必要以上に厚いと製品重量が大きくなる
ばかりか、表示板として用いた場合の視野角が狭くなる
が、あまり薄いが望ましい。合成樹脂製の基板(1)に
偏光機能を付与する方法としては、例えば、基板(1)
の製造時に、二色性色素やヨードなどの偏光色素成分を
配合する方法、又は、製造後の基板表面に二色性色素を
スパッタリング法又は真空蒸着法により付着さ、せる方
法などが挙げられる。また、ここで用いられる色素とし
ては、通常の偏光フィルムを製造する際に使用されてい
るものであれば、特に限定されるものではないが、例え
ば、次のような色素が好適である。In the present invention, the substrate (1) is made of a transparent synthetic resin and must have a polarizing function. Examples of the synthetic resin include polyethylene terephthalate, polyethylene, 6-naphthalene dicarboxylate, etc. , polycarbonate, polystyrene, cellulose triacetate, cellulose diacetate, polyvinyl chloride, polypropylene, polyamide, etc., and polyethylene terephthalate is usually preferred. If the substrate (1) is thicker than necessary, not only will the weight of the product increase, but also the viewing angle will be narrowed when used as a display board, but it is desirable that the substrate (1) be too thin. As a method for imparting a polarizing function to a substrate (1) made of synthetic resin, for example, the substrate (1)
Examples include a method in which a polarizing dye component such as a dichroic dye or iodine is blended during production, or a method in which a dichroic dye is attached to the surface of the substrate after production by sputtering or vacuum evaporation. Further, the dye used here is not particularly limited as long as it is used in manufacturing ordinary polarizing films, but for example, the following dyes are suitable.
−番 −
■アントラキノン
■アゾ系
■スチルベン系
■メチン系
■シアニン系
L;fig
url易本発明では上述のような基板(1)
の少なくとも片面に導電層(2)が設けられるが、この
導電層(2)は金属又は金属酸化物をスパッタリング法
又は真空蒸着法により形成する。金属成分としては、通
常、インジウム、スズ、パラジウム、白金、金などの金
属又はインジウム、スズ、亜鉛などの酸化物を主体とす
るものが挙げられ、特に、インジウム又はスズの酸化物
を主体とするものが好ましい。-Number - ■Anthraquinone ■Azo system ■Stilbene system ■Methine system ■Cyanine system L; fig
In the present invention, the above-mentioned substrate (1)
A conductive layer (2) is provided on at least one side of the conductive layer (2), and this conductive layer (2) is formed of metal or metal oxide by sputtering or vacuum evaporation. The metal component usually includes those mainly composed of metals such as indium, tin, palladium, platinum, and gold, or oxides such as indium, tin, and zinc, and in particular, those mainly composed of indium or tin oxides. Preferably.
スパッタリング法とは減圧槽中に輩素、アルゴン等の不
活性ガスを封入し、該不活性ガスをイオン化してターゲ
ットに照射し、ターゲートを原子または分子状態で飛散
させ、該蒸発したターゲット物質を基板表面に沈着させ
る方法であり、グロー放電スパッタリング法、マグネト
ロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法
等の方式がある。The sputtering method involves filling a vacuum tank with an inert gas such as nitrogen, argon, etc., ionizing the inert gas and irradiating it onto the target, scattering the target in an atomic or molecular state, and removing the evaporated target material. This is a method of depositing on the substrate surface, and methods include glow discharge sputtering, magnetron sputtering, and ion beam sputtering.
また、真空蒸着法とは高真空中で蒸着材料を加熱蒸発さ
せ、この蒸発粒子を基板上に沈着させる方法であり、加
熱方式によって、抵抗加熱法、アーク蒸発法、レーザー
加熱法、高周波加熱法、電子ビーム加熱法等がある。The vacuum evaporation method is a method in which the evaporation material is heated and evaporated in a high vacuum, and the evaporated particles are deposited on the substrate. Depending on the heating method, resistance heating method, arc evaporation method, laser heating method, high frequency heating method , electron beam heating method, etc.
これら金属成分のスパッタリング又は真空蒸着は常法に
従って、例えば、直流マグネトロン式スパッタリング装
置又はイオンビーム蒸着装置を用いて、必要に応じて、
少量の酸素を含有する不活性ガス中において、go−i
soc、好ましくはりo〜tOocI’)温度で/ 0
−’−10−”torr、好ましくは10’″” to
rr 台の減圧下で実施することができる。導電層(2
)の形成は通常、基板の抵抗値が10’−10”Ωであ
り、また、可視光透過率(jjOmm)が30チ以上、
好ましくは4IO優以上となるように調節するのが好ま
しい。なお、導電層(2)の形成はスパッタリング法に
よる方が、より高品質の導電性基材を得ることができる
ので好ましい。Sputtering or vacuum deposition of these metal components is carried out according to conventional methods, for example, using a DC magnetron sputtering device or an ion beam evaporation device, as necessary.
In an inert gas containing a small amount of oxygen, go-i
soc, preferably 0 ~ tOocI') at temperature / 0
-'-10-"torr, preferably 10'"" to
It can be carried out under reduced pressure on the order of rr. Conductive layer (2
) is usually formed when the resistance value of the substrate is 10'-10''Ω, and the visible light transmittance (jjOmm) is 30cm or more.
Preferably, it is adjusted to be more than 4IO. Note that it is preferable to form the conductive layer (2) by a sputtering method because a higher quality conductive base material can be obtained.
導電層(2)は基板+11の両面に設けてもよいが、通
常、液晶ディスプレー用の表示板に用いる場合には片面
だけに設けられる。なお、基板(1)に二色性色素をス
パッタリング法又は真空蒸着法−フ −
場合には、通常、導電層(2)はその反対面に設けた方
が望ましい。Although the conductive layer (2) may be provided on both sides of the substrate +11, it is usually provided on only one side when used for a display board for a liquid crystal display. Note that when dichroic dye is applied to the substrate (1) by sputtering or vacuum evaporation, it is usually desirable to provide the conductive layer (2) on the opposite surface.
本発明では偏光機能を有する合成樹脂製の基板(1)に
直接、導電層(2)が設けられているので、基材の軽量
化、可撓性化が計れる上、製造工程も簡省化することが
できる。これに対し、第1図に示すような従来品の場合
には、ガラス基板(1)の片面に偏光フィルム(5)が
積層され、一方、他面に導電層(2)が設けられている
ので、本発明で期待する効果は得ることができない。In the present invention, since the conductive layer (2) is provided directly on the synthetic resin substrate (1) having a polarizing function, the base material can be made lighter and more flexible, and the manufacturing process can also be simplified. can do. In contrast, in the case of a conventional product as shown in Figure 1, a polarizing film (5) is laminated on one side of a glass substrate (1), while a conductive layer (2) is provided on the other side. Therefore, the expected effects of the present invention cannot be obtained.
本発明の透明導電性基材は種々の用途に適用することが
可能であるが、その用途に応じて適宜、加工される。通
常、液晶ディスプレー用の表示板として用いる場合には
、導電層(2)の外側に例えば、ポリイミド系樹脂有機
シラン系化合物又はポリビニルアルコールなどよりなる
配向層(2)が設けられ、また、反対側の基板(1)上
には例えば、有機シリコン系又はセルロース系などより
なふ保護層(4)が設けられる。配向層(2)と保膜層
(4)の各成分、肉厚及び形成手段などは特に限定され
るものではなく、公知の方法から適宜選択することがで
きる。The transparent conductive substrate of the present invention can be applied to various uses, and is processed as appropriate depending on the use. Normally, when used as a display board for a liquid crystal display, an alignment layer (2) made of, for example, a polyimide resin, an organic silane compound, or polyvinyl alcohol is provided on the outside of the conductive layer (2), and an A protective layer (4) made of, for example, organic silicon or cellulose is provided on the substrate (1). The components, thickness, forming means, etc. of the alignment layer (2) and film-retaining layer (4) are not particularly limited, and can be appropriately selected from known methods.
(発明の効果)
本発明によれば、基板が合成樹脂であるため、軽量で、
しかも、可撓性を有するので、曲げ強度及び衝撃強度に
優れているばかりか、表面がわん曲している表示板の制
作も容易である。また、従来品のように、偏光フィルム
を積層する必要がないので、その製造工程で積層操作が
全く不要であり、製造面からも望ましい。(Effects of the Invention) According to the present invention, since the substrate is made of synthetic resin, it is lightweight;
Furthermore, since it is flexible, it not only has excellent bending strength and impact strength, but also allows easy production of display boards with curved surfaces. Further, unlike conventional products, there is no need to laminate polarizing films, so there is no need for any laminate operation in the manufacturing process, which is desirable from a manufacturing standpoint.
(実施例)
次に本発明を実施例により更に詳細に説明するが1本発
明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定される
ものではない。(Examples) Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless the gist thereof is exceeded.
実施例1
下記構造式
で示される赤色系色票を配合して成形された厚さl?S
I+111 のポリエチレンテレフタレートよりなる基
板(1)の片面に直流マグネトロン式スパッタリング装
置を用いて、下記の条件にて酸化インジウム−酸化スズ
(V、t:、t)をターゲットとスパッタリングを行な
い、導電層(2)を形成させた。Example 1 A molded product having a thickness of l? S
On one side of the substrate (1) made of I+111 polyethylene terephthalate, a conductive layer ( 2) was formed.
くスパッタリング条件〉
雰囲気ガス;酸$/vo1%含有のアルゴン、ガス温
度:りOC
圧 カニ J X / 0= torrこのように
して得た基材の抵抗値は200Ωと良好な導電性を示し
、しかも、偏光性も良好な上、可視光透過率(jjOn
m)は4Iotsと透明性も良好であった。また、この
基材は軽量で可撓性もあり、しかも、全体的な肉厚も薄
く表示板としての視野角の大きいものであった。Sputtering conditions> Atmosphere gas: Argon containing acid $/vo1%, gas temperature
Degree: riOC Pressure Crab J
The transparency of m) was also good at 4 Iots. In addition, this base material was lightweight and flexible, and had a thin overall thickness and a large viewing angle as a display board.
第1図は本発明の透明導電性基材の一例を示す断面図で
あシ、第一図は従来の液晶ディスプレー用の表示板の断
面図であり、(1)は基板、(2)は導電層、(3)は
配向層、(4)は保睦層、(5)は偏光フィルムを示す
。
出願人 三菱化成工業株式会社
代理人 弁理士 要否用 −
(ほか1名)
第1ビ
==コゴ
第2図
ヨヨヨヨ;臼−
VI
℃2FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the transparent conductive base material of the present invention, and FIG. A conductive layer, (3) an alignment layer, (4) an elasticity layer, and (5) a polarizing film. Applicant: Mitsubishi Chemical Industries, Ltd. Agent Patent attorney Necessity - (1 other person)
Claims (3)
面に、金属又は金属酸化物をスパタリング法又は真空蒸
着法により形成させた導電層を設けてなる透明導電性基
材。(1) A transparent conductive base material comprising a conductive layer formed of a metal or metal oxide by sputtering or vacuum deposition on at least one side of a synthetic resin substrate having a polarizing function.
許請求の範囲第(1)項記載の透明導電性基材。(2) The transparent conductive substrate according to claim (1), wherein the synthetic resin substrate has a thickness of 50 to 250 μm.
である特許請求の範囲第(1)項記載の透明導電性基材
。(3) The transparent conductive substrate according to claim (1), wherein the synthetic resin substrate is made of polyethylene terephthalate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60198901A JPS6258224A (en) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | Transparent conductive base material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60198901A JPS6258224A (en) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | Transparent conductive base material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6258224A true JPS6258224A (en) | 1987-03-13 |
Family
ID=16398823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60198901A Pending JPS6258224A (en) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | Transparent conductive base material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6258224A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0382684A2 (en) * | 1989-02-09 | 1990-08-16 | Intercast Europe S.P.A. | Optical element for use in eyeglasses, visors, masks and screens to reduce the image perception time and improve the contour definition thereof |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP60198901A patent/JPS6258224A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0382684A2 (en) * | 1989-02-09 | 1990-08-16 | Intercast Europe S.P.A. | Optical element for use in eyeglasses, visors, masks and screens to reduce the image perception time and improve the contour definition thereof |
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