JPS6255162B2 - - Google Patents

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JPS6255162B2
JPS6255162B2 JP11140478A JP11140478A JPS6255162B2 JP S6255162 B2 JPS6255162 B2 JP S6255162B2 JP 11140478 A JP11140478 A JP 11140478A JP 11140478 A JP11140478 A JP 11140478A JP S6255162 B2 JPS6255162 B2 JP S6255162B2
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JP
Japan
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gas
liquid
coupled
control device
diaphragm
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JP11140478A
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JPS5498293A (en
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Iohanesoitsuchi Sutsuto Iohanesu
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TARINSUKOE PUROIZUBODOSUTOENNOE UPURAFURENIE BODOSUNABUZENIA I KANARIZATSUII
Original Assignee
TARINSUKOE PUROIZUBODOSUTOENNOE UPURAFURENIE BODOSUNABUZENIA I KANARIZATSUII
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Filing date
Publication date
Application filed by TARINSUKOE PUROIZUBODOSUTOENNOE UPURAFURENIE BODOSUNABUZENIA I KANARIZATSUII filed Critical TARINSUKOE PUROIZUBODOSUTOENNOE UPURAFURENIE BODOSUNABUZENIA I KANARIZATSUII
Publication of JPS5498293A publication Critical patent/JPS5498293A/ja
Publication of JPS6255162B2 publication Critical patent/JPS6255162B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D11/00Control of flow ratio
    • G05D11/02Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
    • G05D11/13Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
    • G05D11/135Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture
    • G05D11/138Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture by sensing the concentration of the mixture, e.g. measuring pH value
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/76Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
    • C02F1/763Devices for the addition of such compounds in gaseous form
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D21/00Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
    • G05D21/02Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/2496Self-proportioning or correlating systems
    • Y10T137/2499Mixture condition maintaining or sensing
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  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Refuse Collection And Transfer (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は産業用装置に関し、特に計測装置に関
する。
本発明は液中のガスを測定する化学産業およ
び、流出液および自然水を処理する食料産業に特
に有利に使用することができるものである。
液中のガス、例えば水中の塩素を自動的に測定
する装置は公知であり、この公知装置はガスと水
とを混合させるエゼクタ、ガス流量制御装置、ガ
ス供給ラインにとりつけたロータメータをそなえ
ている(米国特許第2957494参照)。
しかし、この装置は水流量が変化した場合に水
中の塩素ガス量を希望の値に維持することができ
ないので、水中の塩素濃度は大きくなつたり小さ
くなつたり変化することになる。
他の公知計測装置(ソ聯発明者証第292540号)
は、水とガスを混合させるエゼクタと、作動機構
を有するガス流量制御装置と、このガス流量制御
装置に接続されエゼクタと空気力学的に関連した
真空式ダイアフラム弁とをそなえている。
この従来の計測装置も差誘導ピツクアツプを有
するロータメータをそなえ、ロータメータはガス
流量制御装置と、ガス供給ラインにとりつけたガ
ス圧力制御装置とに接続されている。この装置
は、変換器に接続された差誘導ピツクアツプ装置
をそなえた差圧計に関連し、且つ主管に配設され
た制限手段を有する液体流量計を含む制御回路を
更にそなえている。
この装置も、ガス流量制御装置の作動器と電気
的に関連したガス対液体比設定器をそなえてい
る。
しかし、この従来装置は、液体のガス吸収率お
よび液体流量が急速に変る場合に必要とする計測
精度が得られないという欠点がある。
従つて、本発明の目的は、制御系の応答性を改
善して液体中のガスの計測精度を向上させること
である。
この目的は本発明により次のような計測装置を
提供することによつて達成される。即ち、本計測
装置は、主管を通して供給される液体中のガスの
含有量を決定し制御する計測装置であつて、主管
と水力学的に関連した、液体とガスを混合するエ
ゼクタと、第1の作動機構と、前記第1の作動機
構に結合されたガス流量制御装置と、前記ガス流
量制御装置に結合され前記エゼクタと気体的に関
連した真空ダイヤフラム弁と、前記ガスを供給す
るためのラインと、前記ガス供給ラインに設けら
れたガス圧力制御装置と、第1の差誘導ピツクア
ツプと、前記第1の差誘導ピツクアツプに結合さ
れて前記ガスの流量を測定し、また前記ガス流量
制御装置および前記ガス圧力制御装置に結合され
たロータメータと、前記主管に配設された制限手
段と、第2の差誘導ピツクアツプと、第1の変換
器と、前記制限手段に水力学的に関連し、前記第
2の差誘導ピツクアツプに結合された差圧ゲージ
とを備え、前記制限手段、前記差圧ゲージ、前記
第2の差誘導ピツクアツプおよび前記第1の変換
器が液体流量計を構成する計測装置において、前
記液体中の前記ガスの定常的濃度を測定するため
に前記エゼクタから十分距離をおいて前記主管に
配置された濃度計と、ガス対液体比設定器と、前
記ガス対液体比設定器に結合された第2の作動機
構と、前記液体中の前記ガスの濃度を設定するた
めの装置に結合され、前記濃度計に結合され、前
記ガス対液体比設定器に前記第2の作動機構を介
して結合された電子式ガス対液体比修正制御装置
と、液体流量計と、前記第1の変換器および前記
液体流量計に結合された第1の信号分配器と、第
2の信号分配器と、前記第1の差誘導ピツクアツ
プおよび前記第2の信号分配器に結合された第2
の変換器と、前記ガス対液体比設定器および前記
第1の作動機構の間に接続され、前記第1および
第2の信号分配器に結合された電子式ガス対液体
比制御装置と、前記エゼクタおよび前記真空ダイ
ヤフラム弁の間に接続されたパイロツト作動式逆
止弁とを備えたものとして構成される。
本発明による計測装置を用いれば液体中のガス
の測定精度を実質的に向上させることができ、ま
た操作員が常についている必要が無いので、労力
の節約になる。
本発明による計測装置を水処理プラントを用い
た場合、その高精度、高信頼性により、塩素ガス
の量は最良値に常に保たれるので、塩素ガスの量
を実質的に節約できる。
また、本発明による計測装置は動作上の信頼性
が高く、何等維持管理なしで1年以上に動作する
ものである。
本装置は完全に気密であるので、自動制御測定
室が汚洗されることがない。
本装置を用いることによつて液体例えば飲料水
の質を実質的に改良することができる。
以下添付図面を参照して本発明を説明する。計
測装置は本管の水力学的に関連したエゼクタ1で
あつてガスと液体を混合させるもの即ち塩素ガス
を水と混合させるものと、作動機構3をそなえた
ガス流量制御装置2と、この装置2と結合した真
空式ダイヤフラム弁4と、エゼクタ1および真空
ダイヤフラム弁4とに結合したパイロツト作動式
逆止弁5とをそなえている。
計測装置は差誘導ピツクアツプ7を有するロー
タメータ6をそなえ、これはガス流量制御装置2
とガス圧制御装置8とに結合されている。ガス圧
制御装置8はフイルタ9と入口弁10を介してガ
ス送りライン11に接続されている。
矢印Aは圧力を受けて液体が流れる方向を示
し、矢印Bはガス供給方向を示している。
計測装置は、更に主管13(矢印Cは計測され
る液体が送給される方向を示す)内に配設された
制限手段12と、変換器16に接続した差誘導ピ
ツクアツプ15を有する差圧計14とをそなえた
液体流量計をそなえている。
計測装置は更にエゼクタ1から離れた所で主管
13上に設置した濃度計17をそなえ、これは液
体中のガスの安定濃度を充分に測定できるように
なつているものである。また液体のガスの濃度を
設定する装置18と、ガス対液体比設定器19
と、ガス対液体比設定器修正制御装置20とを計
測装置はそなえている。この修正制御装置20
は、液中のガス濃度設定用装置18に、加算器2
0′を介して濃度計17に、更に作動機構21を
介してガス対液体比設定器19に接続されてい
る。
更に変換器16と液体流量計23とに接続した
信号分配器22と、ロータメータ6の差誘導ピツ
クアツプ7と信号分配器25とに接続した変換器
24とを更にそなえている。
計測装置には、更に、加算器27を介して信号
分配器22,25に更に設定器19に接続した電
子式ガス対液体流量比制御装置26をそなえてい
る。
変換器24は変換器16と同様なものである。
変換器16は復調器28と修正器29とをそな
え、これらは加算器30を介して直流増幅器31
に接続されている。変換器16は更に差誘導ピツ
クアツプ15に接続した鉄共振安定器32をそな
えている。
信号分配器22,25は同様な構成のもので、
各々直列接続した2つのダイオード33,34
と、これらダイオードのうちのひとつのダイオー
ドの陽極に接続した抵抗35とをそなえている。
制御装置20,26も同様な構成のもので、
各々変調器36、直流増幅器37、復調器38、
磁気増幅器39でなる直列回路をそなえている。
磁気増幅器39の出力は帰還装置40と加算器4
0′を介して変調器36の入力に接続されてい
る。
濃度計17は直流増幅器42に接続したセンサ
41をそなえている。
パイロツト作動式逆止弁5はパイプ接続部44
を有する円筒体43と中央孔を有するダイアフラ
ム46とを有し、このパイプ接続部44は円筒体
43の軸にそつて円筒体43のの第1の端壁部を
通りしかも円筒体43の第2の端壁部から離隔し
ているものである。パイプ接続部44は円筒体4
3の第1の端壁部の近くにポート45をそなえて
いる。ダイアフラム46の中央孔には円筒状スリ
ーブ47が設けられており、このスリーブ47は
円筒体43の第2の壁部と密接に一致するように
なつている。
ダイアフラム46は、円筒体43の端壁部とダ
イアフラム46のスペース48,49が等しく且
つポート50,51でガスを出入させるように、
円筒体43内に配設されている。円筒状スリーブ
47とパイプ接続部44は、同軸に配設されてい
る。
計測装置はガス流量をモニタするためのガス流
量指示器52をそなえ、この指示器52は信号分
配器25に接続され、ガス流量制御装置2に近接
して配設されている。
計測装置は更に同装置をチエツクしガス圧力制
御装置8の調整を容易にするための圧力計53を
そなえ、この圧力計53はロータメータ6とガス
圧力制御装置8の間に介在されている。
更に計測装置は、作動機構3に接続された、制
御装置2の位置を示す指示器54と、ガス流量計
55とをそなえ、ガス流量計55は信号分配器2
5に接続され、且つ液中のガス濃度を設定する装
置18に近接して配設されている。
以上のように構成された計測装置の動作を説明
する。ガスは入口弁10とフイルタ9を介してガ
ス供給ライン11から送給される。フイルタ9は
ガスから機械的不純物を除くものである。ガスの
圧力は制御装置8により一定に保たれており、ガ
ス流量は差誘導ピツクアツプ7を有するロータメ
ータ6によつて測定される。次に、ガスはガス流
量制御装置2と、弁4とエゼクタ1の間が真空と
なつた時にのみ開らく真空ダイアフラム弁4と、
チエツクバルブ5を通つてエゼクタ1に流れ、そ
こで矢印Aの方向に供給される液体と混合する。
かくして得たガス―液体混合物は矢印Cの主流路
に入る。
その後、液体気体混合物の流量が測定される。
通過ガスの量はロータメータ6上の差誘導ピツ
クアツプ7と、変換器24によつて測定され、変
換器24から信号が分配器25を介して電子式ガ
ス対液体流量比制御装置26、指示器52、ガス
流量計55に加えられる。
液体の流量は制限手段12、差誘導ピツクアツ
プ15をそなえた差圧計14、変換器16によつ
て測定され、変換器16から測定信号が分配器2
2を介して電子式ガス対液体流量比制御装置26
と流量計23とに加えられる。液体に対するガス
の必要とする比はガス対液体比設定器19によつ
て設定される。
ガス対液体比のバランスがくずれると、電子制
御装置26の入力には加算器27からエラー信号
が加えられる。
電子制御装置26の出力には信号が得られ、こ
の信号は、ガス対液体比がバランスするまでガス
流量制御装置2の作動機構3に加えられる。
液中の必要とするガス濃度は装置18によつて
設定され、この希望ガス濃度をあらわす信号が設
定装置18の出力から電子制御装置20に加えら
れる。この電子制御装置20も液中の実際のガス
濃度をあらわす信号を入力する。この入力信号は
濃度計17から加えられたものである。これらの
信号は比較されて、実際の濃度が希望濃度と異つ
ていれば、信号が電子制御装置20から作動機構
21を介してガス対液体比設定器19に加えら
れ、ガス対液体比が時間積分方式で設定器19に
よつて修正される。時間積分は液体がガス―液体
混合物を液体に導入する点から濃度計17へ流れ
るまでに要する時間に依るものである。
ガスを液体中に含ませる値は前もつて設定した
ガス対液体比によつてほぼ瞬間的に測定され、ま
たこのガス対液体比は液中のガスの予定した実際
の濃度によつて修正されるので、計測精度が実質
的に改良される。
次に逆止弁5の動作を考える。初期状態では円
筒状スリーブ47は弁本体43の1つの端壁部と
一致している。ガスが供給される直に、ダイアフ
ラム46を介して圧力差が生じダイアフラム46
は円筒状スリーブ47と共に変位し、ガスはパイ
プ接続部44更にエゼクタ1に流れる。このよう
に弁体を構成したので、液体は制御装置2および
ロータメータ6には流れない。従つて供給ガスの
測定制御が高精度で行なわれる。
変換器16は次のように動作する。差誘動ピツ
クアツプ15からの交流電圧は復調器28により
直流電圧に変換され、修正器29の電圧に加算さ
れる。かくして得た信号は直率増幅器で増幅され
て、その出力に液体流量に比例した直流信号が得
られる。
制御装置20は次のように動作する。制御装置
20の入力には、液中のガスの希望する濃度と実
際の濃度とをあらわす各信号を比較して得た信号
が加えられる。この信号は変調器36によつて交
流信号に変換され増幅器37によつて増幅され
る。磁気増幅器39の入力には復調器38によつ
て検波された増幅直流が加えられる。磁気増幅器
39の出力には調整可能なパルス幅と持続時間を
有するパルス信号が得られ、この信号が作動機構
21に加えられる。
圧力計53は測定装置をチエツクするのに用い
られ、またガス流量制御装置の調整を容易にして
いる。
本発明により液体中のガス例えば飲料水中の塩
素ガスの測定精度が大きく改良され、従つて飲料
水の質が実質的に改善されるのである。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明による測定装置を示す機能図
である。 1…エゼクタ、2…ガス流量制御装置、3…ガ
ス流量制御装置の作動機構、4…真空式ダイアフ
ラム弁、5…パイロツト作動式逆止弁、6…ロー
タメータ、7,15…差誘導ピツクアツプ、8…
ガス圧力制御装置、9…フイルタ、10…入口
弁、11…ガス供給ライン、12…制限手段、1
3…主管、14…差圧計、16,24…変換器、
17…濃度計、18…液中ガス濃度設定装置、1
9…ガス対液体比設定器、20…電子式ガス対液
体比設定器修正制御装置、21…作動機構、2
2,25…信号分配器、23…流量計、26…電
子式ガス対液体流量比制御装置、27…加算器、
43…円筒体、44…パイプ接続部、45,5
0,51…ポート、46…ダイアフラム、47…
円筒状スリーブ、48,49…スペース、52…
ガス流量指示器、53…圧力計、55…ガス流量
計。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 主管を通して供給される液体中のガスの含有
    量を決定し制御する計測装置であつて、 主管と水力学的に関連した、液体とガスを混合
    するエゼクタと、 第1の作動機構と、 前記第1の作動機構に結合されたガス流量制御
    装置と、 前記ガス流量制御装置に結合され前記エゼクタ
    と気体的に関連した真空ダイヤフラム弁と、 前記ガスを供給するためのラインと、 前記ガス供給ラインに設けられたガス圧力制御
    装置と、 第1の差誘導ピツクアツプと、 前記第1の差誘導ピツクアツプに結合されて前
    記ガスの流量を測定し、また前記ガス流量制御装
    置および前記ガス圧力制御装置に結合されたロー
    タメータと、 前記主管に配設された制限手段と、 第2の差誘導ピツクアツプと、 第1の変換器と、 前記制限手段に水力学的に関連し、前記第2の
    差誘導ピツクアツプに結合された差圧ゲージとを
    備え、 前記制限手段、前記差圧ゲージ、前記第2の差
    誘導ピツクアツプおよび前記第1の変換器が液体
    流量計を構成する計測装置において、 前記液体中の前記ガスの定常的濃度を測定する
    ために前記エゼクタから十分距離をおいて前記主
    管に配置された濃度計と、 ガス対液体比設定器と、 前記ガス対液体比設定器に結合された第2の作
    動機構と、 前記液体中の前記ガスの濃度を設定するための
    装置に結合され、前記濃度計に結合され、前記ガ
    ス対液体比設定器に前記第2の作動機構を介して
    結合された電子式ガス対液体比修正制御装置と、 液体流量計と、 前記第1の変換器および前記液体流量計に結合
    された第1の信号分配器と、 第2の信号分配器と、 前記第1の差誘導ピツクアツプおよび前記第2
    の信号分配器に結合された第2の変換器と、 前記ガス対液体比設定器および前記第1の作動
    機構の間に接続され、前記第1および第2の信号
    分配器に結合された電子式ガス対液体比制御装置
    と、 前記エゼクタおよび前記真空ダイヤフラム弁の
    間に接続されたパイロツト作動式逆止弁と を備えた計測装置。 2 前記パイロツト作動逆止弁は、 第1および第2の端壁部および中心軸線を有す
    る円筒体と、 前記円筒体の前記第1の端壁部を貫通し、前記
    円筒体の中心軸線に沿つて延び、前記円筒体の前
    記第2の端壁部から離隔して配置され、前記円筒
    体の前記第1の端壁部の近くに設けられたポート
    を有するパイプ接続部と、 中央孔を有するダイヤフラムであつて、前記円
    筒体内に配設されて前記円筒体の前記第1および
    第2の端壁部と前記ダイフラムとの間に2つの等
    しいスペースが形成され、ガスの出入りをさせる
    ポートを有するダイヤフラムと、 前記ダイヤフラムの前記中央孔に収容され、前
    記円筒体の前記第2の端壁部と密に結合した円筒
    状スリーブとを備え、 前記円筒状スリーブと前記パイプ接続部が互い
    に同軸的に配設されいることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の装置。 3 ガス流量をモニタするためのガス流量指示器
    が前記信号分配器に接続され前記ガス流量制御装
    置の直近に配設されたことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項または第2項記載の装置。 4 前記計測装置をチエツクし前記ガス圧力制御
    装置の調整を助長するための圧力計が配設され、
    この圧力計が前記ロータメータとガス圧力制御装
    置の間に介装されたことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項乃至第3項のいずれかに記載の装置。 5 ガス流量計が前記第2の信号分配器に接続さ
    れ前記液体中のガスの濃度を設定する装置の直近
    に配設されたことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項乃至第4項のいずれかに記載の装置。
JP11140478A 1978-01-17 1978-09-12 Measuring device Granted JPS5498293A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782562096A SU885812A1 (ru) 1978-01-17 1978-01-17 Устройство дл автоматического дозировани газа в жидкость,например хлора в воду

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5498293A JPS5498293A (en) 1979-08-03
JPS6255162B2 true JPS6255162B2 (ja) 1987-11-18

Family

ID=20741163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11140478A Granted JPS5498293A (en) 1978-01-17 1978-09-12 Measuring device

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4232700A (ja)
JP (1) JPS5498293A (ja)
AT (1) AT384494B (ja)
CA (1) CA1093824A (ja)
CH (1) CH639566A5 (ja)
DE (1) DE2840860C2 (ja)
DK (1) DK148196C (ja)
FI (1) FI68917C (ja)
FR (1) FR2414750A1 (ja)
GB (1) GB2012432B (ja)
IT (1) IT7826548A0 (ja)
NO (1) NO782800L (ja)
SE (1) SE429410B (ja)
SU (1) SU885812A1 (ja)

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