JPS625451B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS625451B2
JPS625451B2 JP3609381A JP3609381A JPS625451B2 JP S625451 B2 JPS625451 B2 JP S625451B2 JP 3609381 A JP3609381 A JP 3609381A JP 3609381 A JP3609381 A JP 3609381A JP S625451 B2 JPS625451 B2 JP S625451B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paper
photocurable
prepreg
laminated mica
aromatic polyamide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP3609381A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS57149332A (en
Inventor
Hiroyuki Nakajima
Shohei Eto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP3609381A priority Critical patent/JPS57149332A/en
Publication of JPS57149332A publication Critical patent/JPS57149332A/en
Publication of JPS625451B2 publication Critical patent/JPS625451B2/ja
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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Insulating Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は光硬化性プリプレグに関する。さらに
詳しくは、電気機器用コイルの層間絶縁、または
スロツト、リードなどの絶縁に際し、半硬化状態
で可撓性があり、光照射することにより容易に硬
化、固着化する光硬化性プリプレグに関するもの
である。 半硬化状のプリプレグ絶縁シートまたはプリプ
レグ絶縁テープを用いて電気機器用コイルなどを
絶縁する方法は、絶縁ワニスの刷け塗りや含浸処
理などの操作を必要としないので、コスト面およ
び製造時間の点から極めて有利な方法であり、こ
のプリプレグの製造には、プリプレグ樹脂として
硬化物の諸特性にすぐれたエポキシ樹脂に、シフ
ツ化ホウ素アミン錯塩やジシアンジアミドなどの
潜在性硬化剤を配合したエポキシ樹脂組成物が広
範に使用されている。また、プリプレグの基材と
しては、ガラスクロスなどの無機質繊維基材、ポ
リエチレンテレフタレートクロス等の有機質繊維
基材、熱収縮フイルム類、紙、マイカシートなど
が使用されている。 しかし、この半硬化状プリプレグは硬化に際し
必らず加熱する必要があり、そのため加熱により
変質したり、分解したりするような被着体に対し
ては、使用不可能であり、かつ加温による被着体
の変形や半硬化樹脂の流動によるテープのズレに
より、被着体の固着・成形性がきわめて不確実に
なることが多かつた。また熱容量の大きな被着体
の場合、硬化反応に必要な温度(通常100〜150
℃)にまで温度が上昇するのにかなりの長時間を
必要とし、さらに樹脂自体の熱硬化時間も長時間
(通常数時間〜20時間)を必要とするものであつ
た。 本発明者らは叙上の欠点を排除し、半硬化状で
可撓性であり、硬化時に光照射により容易に硬化
し、固着化する光硬化性プリプレグを提供すべく
鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至つ
た。 即ち、本発明は融着剤として高分子フイブリツ
ドを含有する集成マイカ紙と芳香族ポリアミド紙
を多層構造としたものを基状とし、それに、キナ
ゾロン環含有ジカルボン酸化合物とエポキシ化合
物を反応させて得られるキナゾロン変性エポキシ
樹脂に不飽和一塩基酸を反応させることにより得
られる光硬化性樹脂組成物を塗布または含浸した
後、該基材を加熱乾燥した光硬化性プリプレグに
関するものであつて、電気機器用コイルなどの絶
縁に際し、特定の基材および光硬化性樹脂組成物
を用いてなる光硬化性プリプレグを使用すること
により、従来のプリプレグを用いた場合における
ごとく、加熱を必らず必要としそのために加熱に
より変質したり分解したりするような被着体に対
しては使用不可能であり、かつ、加温による被着
体の変形や半硬化樹脂の流動によるテープのズレ
により、被着体の固着成形性が極めて不確実にな
るといつた叙上の欠点が完全に排除され、半硬化
状で可撓性があり、硬化時に加熱することなく、
光照射により容易に硬化、固着化するという極め
て顕著な効果が奏される。 さらに、この光硬化性プリプレグにおいては被
着体を熱硬化反応に必要な温度に加温する必要が
なく、また硬化時間も極めて短縮でき、省エネル
ギー効果も果される。また、本発明のプリプレグ
は紫外線(例えば太陽光、低〜高圧水銀灯、キセ
ノンランプなど)の発生源に暴露されるとき、硬
化するものであり、紫外線を受けてない状態のと
きは恒久的に架橋することなく、貯蔵安定性にす
ぐれ貯蔵寿命が長い等の特徴を兼ね備えたもので
ある。また、光硬化性樹脂組成物中にキナゾロン
環を導入することにより耐熱性のすぐれたプリプ
レグを与える。 一方ここに用いる基材の融着剤としての高分子
フイプリツドを含有する集成マイカ紙と芳香族ポ
リアミド紙を多層構造としたものは、従来のポリ
エステルマツト等に比べ耐熱性が高いという特徴
をもち、これと上記光硬化性樹脂組成物とから得
られる本発明の光硬化性プリプレグは耐熱性の高
い絶縁体を与える。 本発明の光硬化性プリプレグに使用される光硬
化性樹脂組成物は、キナゾロン環含有ジカルボン
酸化合物1当量に対し、エポキシ樹脂1.2〜5当
量を反応させてキナゾロン変性エポキシ樹脂を
得、このキナゾロン変性エポキシ樹脂と不飽和一
塩基酸を必要に応じ、エステル化触媒、ビニル重
合禁止剤、溶剤、ビニルモノマーの存在下加熱反
応することにより容易に得られる。 上記エポキシ樹脂の配合量が1.2当量より少な
いときは得られる樹脂の分子量が大きくなり、溶
解性が低下すると共に、軟化点が上昇し、作業性
が悪くなる。一方5当量を越えるときは、得られ
る樹脂の耐熱性が満足し得るものとはならないの
で上記範囲内とすることが望ましい。 ここで用いられるキナゾロン環含有ジカルボン
酸化合物としては例えば 一般式 (式中Rは脂肪族または芳香族の2価の基) で示されるものなどが好適なものとして挙げられ
る。 また、キナゾロン変性エポキシ樹脂の製造に用
いる多官能エポキシ化合物としては、例えばビス
フエノールAジグリシゾルエーラルタイプのエピ
コート826、エピコート827、エピコート828(い
ずれもシエル化学社製のエポキシ樹脂、商品
名)、GY―252、GY―260(いずれもテバガイギ
ー社製のエポキシ樹脂、商品名)、DER330、
DER331、DER332(いずれもダウケミカル社製
のエポキシ樹脂、商品名)、ノボラツクタイプの
DEN431、DEN438(いずれもダウケミカル社製
のエポキシ樹脂、商品名)、脂肪族タイプのCY―
179(チバガイギー社製のエポキシ樹脂、商品
名)などがあげられる。 さらに本発明に使用できる不飽和一塩基酸とし
ては、アクリル酸、メタクリル酸、ソルビン酸、
ケイヒ酸などがあげられる。 また、多官能エポキシ化合物と不飽和一塩基酸
との反応において、第4級アンモニウム塩、第3
級アミン等の触媒を用いることにより、反応をよ
り円滑に行わせることができる。 光硬化性樹脂組成物の合成反応中におけるゲル
化の防止および合成後の貯蔵安定性の改善を目的
とし、ハイドロキノン、パラベンゾキノン、ヒド
ロキノンモノメチルエーテル、フエノチアジン、
チオセミカルバジツト、アセトンチオカルバゾン
銅塩等を通常0.001〜1.0重量%の範囲で添加する
ことができる。 さらに、上記光硬化性樹脂組成物に、以下にあ
げる光増感剤を光硬化性樹脂組成物100重量部に
対し0.1〜5重量部添加することによつてさらに
硬化を容易にすることができる。 この光増感剤としては例えばベンゾインやその
誘導体(例えば、ベンゾインのメチルエーテル、
エチルエーテル、イソプロピルエーテルなど)の
ようなカルボニル化合物、アントラキノンやナフ
トキノンなどのキノン系化合物、ジフエニルスル
フイドなどの有機イオウ化合物、ベンゾインパー
オキシドなどの過酸化物、アゾビスイソブチロン
トリルなどの窒素化合物、光還元性の染料(例え
ばメチレンブルー、ペートルエンスルホネートイ
オンなど)がある。 また、必要に応じ、ビニルモノマーを上記光硬
化性樹脂組成物に加えることも差し支えない。 このビニルモノマーとしては、例えばスチレ
ン、ビニルトルエン、ジアリルフタレート、ジア
リルイソフタレート、トリアリルイソシアヌレー
ト、トリアリルシアヌレート、トリアリルトリメ
リテート、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エス
テル類、(メタ)アクリル酸エステル類などをあ
げることができる。これらビニルモノマーの配合
量は全体の20%(重量%、以下同様)以下である
ことが望ましい。 即ち20%を越えるとプリプレグの粘着性が高く
なり、作業性、保存性が悪くなる。 本発明の光硬化性プリプレグにおいては、融着
剤として高分子フイブリツドを含有する集成マイ
カ紙と芳香族ポリアミド紙を熱融着により貼り合
わせた多層構造を有する新規基材を用いる。 基材における集成マイカ紙と芳香族ポリアミド
紙の構成比率としては、えられる光硬化性プリプ
レグの機械強度および硬化物諸特性の点から、集
成マイカ紙100部に対し、芳香族ポリアミド紙20
〜120部が好ましい。 基材における芳香族ポリアミド紙の構成比率が
集成マイカ紙100部に対し、20部より小さいとき
は、プリプレグとしての機械強度に乏しくなり、
コイルなどに巻回するばあいに亀裂などが生じて
実用に供しえず、また、120部より大きいときは
コイルなどに巻回したのち加熱硬化する際に基材
間が強固に接着されなくなる傾向がみられるので
いずれも好ましくない。 本発明の光硬化性プリプレグにおいて用いる集
成マイカ紙としては、前記のごとく、融着剤とし
て高分子フイプリツドを含有する集成マイカ紙が
あげられ、それらの代表的なものを例示すれば、
例えば、30〜5000μmのマイカ箔と、高分子フイ
ブリツドを水中に分散させ、丸網または長網式抄
紙機を用いて抄紙し、集成マイカ紙としたものな
どがあげられる。 集成マイカ紙に融着剤として含有される高分子
フイブリツドとしては、例えば、芳香族ポリアミ
ド、ポリアクリロントリルなどの短繊維(すなわ
ちフイブリツド)があげられる。 集成マイカ紙中の高分子フイブリツドの含有量
としては通常1〜10%さらに好ましくは1〜5%
が採用され、それにより、光硬化性樹脂組成物の
含浸性および芳香族ポリアミド紙との融着性が良
好な硬化物を与える集成マイカ紙が得られる。 集成マイカ紙中の高分子フイブリツドの含有量
が1%より少ないときは芳香族ポリアミド紙と熱
融着する場合、熱融着が困難となり、また10%よ
り多いときには、光硬化性樹脂組成物の含浸性が
悪くなりその結果得られる硬化物の電気特性、お
よび機械特性が低下しいずれも好ましくない。本
発明の光硬化性プリプレグにおいて、前記集成マ
イカ紙と熱融着される芳香族ポリアミド紙として
は、例えばイソフタル酸―m―フエンレンジアミ
ン共重合体、テレフタル酸―γ―フエニレンジア
ミン共重合体などからなるものがあげられ、それ
らのものを例示すれば、例えばアラミツド紙〔三
菱製紙(株)〕、ノーメツクス紙〔デユポン(株)、商品
名〕がある。 しかして、本発明の光硬化性プリプレグは融着
剤として高分子フイブリツドを含有する集成マイ
カ紙と芳香族ポリアミド紙を多層構造とした基材
に、前記光硬化性樹脂組成物の有機溶媒溶液を塗
布または含浸せしめた後、加熱乾燥させて半硬化
状のものとして得られる。 得られる光硬化性プリプレグは、貯蔵寿命が長
く、また機械強度が大きく、コイルなどに巻回し
ても、亀裂やシワが生じないものである。 また、前記光硬化性樹脂組成物の有機溶媒溶液
が塗布または含浸された基材の加熱乾燥条件は、
乾燥温度50〜200℃乾燥時間1〜60分が採用さ
れ、それにより電気特性、機械特性にすぐれた硬
化物を与える光硬化性プリプレグが得られる。 乾燥温度が200℃より高く、かつ乾燥時間が60
分より長いときは、得られる光硬化性プリプレグ
の硬化が進行しすぎることにより、コイル巻回後
に、シワや亀裂が生じたり、融着性の不充分なも
のとなる。 また、乾燥温度が50℃より低く、かつ乾燥時間
が1分より短かいときは、溶剤の揮発が不充分で
粘着性が大きくプリプレグとしての作業性に欠け
いずれも好ましくない。 しかして、得られる光硬化性プリプレグはコイ
ルなどの導体に巻回された後加熱することなし
に、光照射することによつて容易に硬化、固着化
し、耐熱性、機械特性、電気特性の良好な硬化物
を与える。 つぎに実施例をあげて本発明をさらに具体的に
説明する。 本発明の実施例を用いたキナゾロン環含有ジカ
ルボン酸化合物を以下に示す。 実施例 1 構造式QC―1で示されるキナゾロン環含有ジ
カルボン酸化合物の28.6g(0.1当量)とエポキ
シ当量190のビスフエノールA型エポキシ樹脂で
あるエピコート828(シエル化学商品名)の95g
(0.5当量)とを混合し、ベンジルトリエチルアン
モニウムクロライド0.01gを触媒とし150℃で1
時間反応させエポキシ当量310のキナゾロン変性
エポキシ樹脂を得た。 このキナゾロン変性エポキシ樹脂600gに対
し、メタクリル酸150gを加え、130℃で2時間反
応させ、酸価8の不飽和ポリエステルを得た。 ここで得られた不飽和ポリエステル100gにベ
ンゾインエチルエーテル0.5gを加え、光硬化性
樹脂組成物を合成した。 次いで、芳香族ポリアミド紙〔三菱製紙(株)厚さ
0.1mm〕と集成マイカ紙〔高分子フイブリツドの
含有率3%、高分子フイブリツドの構成ニイソフ
タル酸―ジアミノジフエニルメタン共重合体(ポ
リアミド):厚さ0.1mm〕(1m2当りの重量比:芳
香族ポリアミド紙/集成マイカ紙=20/100)を
熱融着して二層構造の耐熱マイカ紙(すなわち基
材)を得、この基材に前記光硬化性樹脂組成物を
塗布、温度100℃40分加熱処理してプリプレグシ
ートを製造した。 このプリプレグシートの機械特性を把握するた
めに、25mm×25mmに切り出した、光硬化性プリプ
レグシート4枚を約80℃に加温しつつ2.5KWの
水銀灯に約10分暴露させた。この試料を用いて得
られた硬化シートの接着強度を温度20℃でインス
トロン引張試験機を用いて測定した。 また、得られた光硬化性プリプレグシートを2
mm×5mm×50mmのホルマール平角銅線10本を1束
としたコイル導体上にラツパー巻き(すなわちス
シ巻き)に4回巻回したのち、80℃に加温しつ
つ、2.5KWの水銀灯に10分暴露し、この絶縁コ
イルの電気特性(誘電正接(tanδ)温度特性、
絶縁破壊電圧)を測定した。それらの測定結果を
第1表に示す。 なお、誘電正接温度特性は、得られた絶縁コイ
ルを温度20℃および200℃において、測定電圧
0.5KVで高圧シエーリングブリツジ法にて測定し
た。〔(株)横河電機製作所製のシエーリングブリツ
ジを使用〕 絶縁破壊電圧は得られた絶縁コイル(初期)お
よび該絶縁コイルを220℃で20日間熱劣化処理し
た絶縁コイル(劣化後)を温度250℃において1
KV/secの一定昇圧速度で油中で測定した。〔愛国
電機(株)製の耐電圧試験装置を使用〕 実施例 2 芳香族ポリアミド紙〔三菱製紙(株)製、厚さ0.1
mm〕と集成マイカ紙〔高分子フイブリツドの含有
量:5%、高分子フイブリツドの構成成分:イソ
フタル酸―ジアミノジフエニルソタン(ポリアミ
ド):厚さ0.3mm〕(1m2当りの重量比芳香族ポリ
アミド紙/集成マイカ紙=20/100)を熱融着し
て二層構造の基材を得た。 ついで得られた二層構造の基材を用いた他は、
実施例1と同様にして半硬化状の光硬化性プリプ
レグシートを製造し、かつ得られた光硬化製プリ
プレグシートの接着強度を測定した。 また、得られた光硬化性プリプレグシートを用
いた他は実施例1と同様にして絶縁コイルを製造
し、かつ得られた絶縁コイルの電気特性を測定し
た。それらの測定結果を第1表に示す。 実施例 3 芳香族ポリアミド〔三菱製紙(株)製:厚さ0.1
mm〕と集成マイカ紙〔高分子フイブリツドの含有
量:1%、高分子フイブリツドの構成成分:アク
リロニトリル―メチルメタクリレート共重合体:
厚さ0.1mm〕(1m2当りの重量比:芳香族ポリアミ
ド紙/集成マイカ紙=60/60)を熱融着して二層
構造の基材を得た。ついで得られた二層構造の基
材を用いた他は、実施例1と同様にして半硬化状
の光硬化性プリプレグシートを製造し、かつ得ら
れた光硬化性プリプレグシートの接着強度を測定
した。 また、得られた光硬化性プリプレグシートを用
いた他は実施例1と同様にして、絶縁コイルを製
造し、かつ得られた絶縁コイルの電気特性を測定
した。これらの結果を第1表に示す。 実施例 4 QC―2で示されるキナゾロン環含有ジカルボ
ン酸28.6g(0.1当量)とエポキシ当量190のビス
フエノールA型エポキシ樹脂であるエピコート
828(シエル化学商品名)の57.0g(0.3当量)と
を混合し、ベンジルトリエチルアンモニウムブロ
マイド0.01gを触媒とし、150℃で1時間反応さ
せ、エポキシ当量、430のキナゾロン変性エポキ
シ樹脂を得た。 このキナゾロン変性エポキシ樹脂800gに対
し、メタクリル酸140gを加え、120℃で2時間反
応させ、酸価5の不飽和ポリエステルを得た。 ここで得られた不飽和ポリエステル100gにベ
ンゾインエチルエーテル0.5gを加え光硬化性樹
脂組成物を合成した。 次いで得られた上記硬化性樹脂組成物および実
施例3で用いたと同じ二層構造の基材をそれぞれ
用いた他は、実施例1と同様にして半硬化状の光
硬化性プリプレグシートを製造した。得られた光
硬化性プリプレグシートの接着強度を実施例1と
同様にして測定した。 その測定結果を第1表に示す。 比較例 1 DEN438(ダウケミカル(株):エポキシ当量)60
gとECN1273(チバガイギー(株)エポキシ当量
225)40gおよび三フツ化ホウ素モノエチルアミ
ン錯塩3gとアセトン/トルエン(45/55)の混
合溶媒中に溶解し、エポキシ樹脂組成物の有機溶
剤溶液を得た。 ついで、実施例1で用いたのと同じ二層構造の
基材に、前記エポキシ樹脂組成物を塗布し、温度
100℃で5分間、次いで110℃で8分間乾燥してプ
リプレグシートを製造した。 ついで得られたプリプレグシートの接着強度を
実施例1と同様にして測定した。さらに、得られ
たプリプレグシートを用いた他は実施例1と同様
にして絶縁コイルを製造し、かつ得られた絶縁コ
イルの電気特性および外観の良否をそれぞれ測定
した。それらの測定結果を第1表に示す。 比較例 2 比較例1で得たエポキシ樹脂組成物の有機溶媒
溶液を芳香族ポリアミド紙(デユポン社製、商品
名「ノーメツクス紙」:厚さ0.1mm)に塗布し、
温度105℃で10分間乾燥してプリプレグシートを
製造した。 ついで得られたプリプレグシートの接着強度を
実施例1と同様にして測定した。また得られたプ
リプレグシートを用いた他は実施例1と同様にし
て絶縁コイルを製造し、かつ得られた絶縁コイル
の電気特性および外観の良否をそれぞれ測定し
た。それらの結果を第1表に示す。
The present invention relates to a photocurable prepreg. More specifically, it relates to photo-curable prepreg, which is flexible in a semi-cured state and easily hardens and becomes fixed when exposed to light, for interlayer insulation of coils for electrical equipment, or insulation of slots, leads, etc. be. The method of insulating coils for electrical equipment using semi-cured prepreg insulating sheets or prepreg insulating tapes does not require operations such as brushing or impregnating with insulating varnish, so it is effective in terms of cost and manufacturing time. This is an extremely advantageous method for producing this prepreg, and an epoxy resin composition is used to prepare a prepreg resin, which is an epoxy resin with excellent properties for the cured product, and a latent curing agent such as a sifted boron amine complex salt or dicyandiamide. is widely used. In addition, as base materials for prepreg, inorganic fiber base materials such as glass cloth, organic fiber base materials such as polyethylene terephthalate cloth, heat shrink films, paper, mica sheets, etc. are used. However, this semi-cured prepreg must be heated when curing, so it cannot be used for adherends that change or decompose when heated, and The adhesion and moldability of the adherend was often extremely uncertain due to tape displacement due to deformation of the adherend and flow of the semi-cured resin. In addition, in the case of adherends with large heat capacity, the temperature required for the curing reaction (usually 100 to 150
It took a considerable amount of time for the temperature to rise to .degree. The present inventors have conducted intensive research to eliminate the above-mentioned drawbacks and provide a photocurable prepreg that is semi-cured, flexible, and easily cures and becomes fixed when cured by light irradiation. , we have completed the present invention. That is, the present invention uses a multilayer structure of laminated mica paper containing polymeric fibrids and aromatic polyamide paper as a base, and reacts a quinazolone ring-containing dicarboxylic acid compound and an epoxy compound thereto. This invention relates to a photocurable prepreg obtained by coating or impregnating a photocurable resin composition obtained by reacting a quinazolone-modified epoxy resin with an unsaturated monobasic acid, and then heating and drying the base material, the prepreg being used for electrical equipment. By using a photocurable prepreg made of a specific base material and a photocurable resin composition when insulating coils, etc., heating is not necessarily required as in the case of using conventional prepreg. It cannot be used for adherends that change in quality or decompose when heated, and may cause deformation of the adherend due to heating or slippage of the tape due to the flow of the semi-cured resin. The above-mentioned disadvantages such as extremely uncertain fixation formability are completely eliminated, and it is semi-cured and flexible, and does not require heating during curing.
It has the extremely remarkable effect of being easily hardened and fixed by light irradiation. Furthermore, in this photocurable prepreg, there is no need to heat the adherend to a temperature necessary for a thermosetting reaction, and the curing time can be extremely shortened, resulting in an energy saving effect. Additionally, the prepreg of the present invention cures when exposed to a source of ultraviolet light (e.g. sunlight, low to high pressure mercury lamp, xenon lamp, etc.), and permanently crosslinks when not exposed to ultraviolet light. It has the characteristics of excellent storage stability and a long shelf life without causing any damage. Furthermore, by introducing a quinazolone ring into the photocurable resin composition, a prepreg with excellent heat resistance can be obtained. On the other hand, the base material used here, which has a multilayer structure of laminated mica paper containing polymer fibrids as a fusing agent and aromatic polyamide paper, is characterized by higher heat resistance than conventional polyester mat, etc. The photocurable prepreg of the present invention obtained from this and the photocurable resin composition provides an insulator with high heat resistance. The photocurable resin composition used in the photocurable prepreg of the present invention is prepared by reacting 1 equivalent of a quinazolone ring-containing dicarboxylic acid compound with 1.2 to 5 equivalents of an epoxy resin to obtain a quinazolone-modified epoxy resin. It can be easily obtained by heating and reacting an epoxy resin and an unsaturated monobasic acid in the presence of an esterification catalyst, a vinyl polymerization inhibitor, a solvent, and a vinyl monomer, if necessary. When the amount of the epoxy resin blended is less than 1.2 equivalents, the molecular weight of the resin obtained becomes large, solubility decreases, and the softening point increases, resulting in poor workability. On the other hand, if it exceeds 5 equivalents, the resulting resin will not have satisfactory heat resistance, so it is desirable to keep it within the above range. The quinazolone ring-containing dicarboxylic acid compound used here includes, for example, the general formula (In the formula, R is an aliphatic or aromatic divalent group.) Preferred examples include those represented by the following. In addition, examples of polyfunctional epoxy compounds used in the production of quinazolone-modified epoxy resins include bisphenol A diglysyl sol eral type Epicote 826, Epicote 827, and Epicote 828 (all epoxy resins manufactured by Ciel Chemical Co., Ltd., trade names). , GY-252, GY-260 (all epoxy resins manufactured by Teva Geigy, trade names), DER330,
DER331, DER332 (both epoxy resins manufactured by Dow Chemical Company, trade names), novolac type
DEN431, DEN438 (all epoxy resins manufactured by Dow Chemical Company, trade names), aliphatic type CY-
179 (epoxy resin manufactured by Ciba Geigy, trade name). Furthermore, unsaturated monobasic acids that can be used in the present invention include acrylic acid, methacrylic acid, sorbic acid,
Examples include cinnamic acid. In addition, in the reaction of polyfunctional epoxy compounds and unsaturated monobasic acids, quaternary ammonium salts, tertiary
By using a catalyst such as a grade amine, the reaction can be carried out more smoothly. Hydroquinone, parabenzoquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine,
Thiosemicarbasite, acetone thiocarbazone copper salt, etc. can be added usually in a range of 0.001 to 1.0% by weight. Furthermore, curing can be further facilitated by adding 0.1 to 5 parts by weight of the following photosensitizers to 100 parts by weight of the photocurable resin composition. . Examples of the photosensitizer include benzoin and its derivatives (for example, benzoin methyl ether,
ethyl ether, isopropyl ether, etc.); quinone compounds such as anthraquinone and naphthoquinone; organic sulfur compounds such as diphenyl sulfide; peroxides such as benzoin peroxide; These include nitrogen compounds and photoreducible dyes (for example, methylene blue, p-toluenesulfonate ion, etc.). Furthermore, if necessary, a vinyl monomer may be added to the photocurable resin composition. Examples of the vinyl monomer include styrene, vinyltoluene, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, triallyl trimellitate, vinyl acetate, (meth)acrylic acid esters, and (meth)acrylic acid esters. Examples include acid esters. The blending amount of these vinyl monomers is preferably 20% (wt%, same hereinafter) or less of the total. That is, if it exceeds 20%, the adhesiveness of the prepreg becomes high, resulting in poor workability and storage stability. In the photocurable prepreg of the present invention, a new base material having a multilayer structure in which laminated mica paper containing polymeric fibrils and aromatic polyamide paper are bonded together by heat fusion as a fusion agent is used. The composition ratio of laminated mica paper and aromatic polyamide paper in the base material is 100 parts of laminated mica paper to 20 parts of aromatic polyamide paper, from the viewpoint of the mechanical strength of the resulting photocurable prepreg and various properties of the cured product.
~120 parts is preferred. If the composition ratio of aromatic polyamide paper in the base material is less than 20 parts per 100 parts of laminated mica paper, the mechanical strength as a prepreg will be poor,
If it is wound around a coil etc., cracks will occur and it cannot be used for practical purposes, and if it is larger than 120 parts, it tends to not adhere firmly between the base materials when it is heated and hardened after being wound around a coil etc. Both are unfavorable because they can be seen. As mentioned above, examples of the laminated mica paper used in the photocurable prepreg of the present invention include laminated mica papers containing polymer fibrids as a fusion agent, and representative examples thereof include:
For example, mica foil of 30 to 5000 μm and polymeric fibrids are dispersed in water, and paper is made using a circular wire or fourdrinier paper machine to obtain laminated mica paper. Examples of the polymer fibrils contained in the laminated mica paper as a fusing agent include short fibers (ie, fibrids) of aromatic polyamide, polyacrylontrile, and the like. The content of polymer fibrids in the laminated mica paper is usually 1 to 10%, more preferably 1 to 5%.
As a result, a laminated mica paper can be obtained that provides a cured product with good impregnation properties with the photocurable resin composition and good fusion properties with the aromatic polyamide paper. If the content of polymer fibrids in the laminated mica paper is less than 1%, it will be difficult to heat-fuse it with aromatic polyamide paper, and if it is more than 10%, the photocurable resin composition will Impregnating properties deteriorate, and as a result, the electrical properties and mechanical properties of the resulting cured product deteriorate, both of which are unfavorable. In the photocurable prepreg of the present invention, the aromatic polyamide paper to be heat-sealed to the laminated mica paper is, for example, isophthalic acid-m-phenylenediamine copolymer, terephthalic acid-γ-phenylenediamine copolymer, etc. Examples of such paper include aramid paper (Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) and Nomex paper (DuPont Co., Ltd., trade name). Therefore, the photocurable prepreg of the present invention is made by applying an organic solvent solution of the photocurable resin composition to a base material having a multilayer structure of laminated mica paper and aromatic polyamide paper containing polymeric fibrils as a fusion agent. After coating or impregnating, it is heated and dried to obtain a semi-cured product. The resulting photocurable prepreg has a long shelf life, high mechanical strength, and does not crack or wrinkle even when wound into a coil or the like. Furthermore, the conditions for heating and drying the base material coated or impregnated with the organic solvent solution of the photocurable resin composition are as follows:
A drying temperature of 50 to 200° C. and a drying time of 1 to 60 minutes is used, thereby obtaining a photocurable prepreg that provides a cured product with excellent electrical and mechanical properties. Drying temperature is higher than 200℃ and drying time is 60℃
If it is longer than 1 minute, the curing of the resulting photocurable prepreg progresses too much, resulting in wrinkles and cracks after coil winding, and insufficient fusion properties. Furthermore, when the drying temperature is lower than 50° C. and the drying time is shorter than 1 minute, the volatilization of the solvent is insufficient and the adhesiveness becomes large, resulting in poor workability as a prepreg, and both are unfavorable. The resulting photocurable prepreg can be easily cured and fixed by irradiation with light without being heated after being wound around a conductor such as a coil, and has good heat resistance, mechanical properties, and electrical properties. Gives a cured product. Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Quinazolone ring-containing dicarboxylic acid compounds used in Examples of the present invention are shown below. Example 1 28.6 g (0.1 equivalent) of a quinazolone ring-containing dicarboxylic acid compound represented by the structural formula QC-1 and 95 g of Epicote 828 (trade name of Ciel Chemical), a bisphenol A type epoxy resin with an epoxy equivalent of 190.
(0.5 equivalent) and heated to 150℃ using 0.01g of benzyltriethylammonium chloride as a catalyst.
A quinazolone-modified epoxy resin with an epoxy equivalent of 310 was obtained by a time reaction. To 600 g of this quinazolone-modified epoxy resin, 150 g of methacrylic acid was added and reacted at 130° C. for 2 hours to obtain an unsaturated polyester with an acid value of 8. 0.5 g of benzoin ethyl ether was added to 100 g of the unsaturated polyester obtained here to synthesize a photocurable resin composition. Next, aromatic polyamide paper [Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd. thickness]
0.1 mm] and laminated mica paper [polymer fibrid content 3%, polymer fibrid composition diisophthalic acid-diaminodiphenylmethane copolymer (polyamide): thickness 0.1 mm] (weight ratio per 1 m2 : aroma Group polyamide paper/laminated mica paper = 20/100) was thermally fused to obtain a two-layer heat-resistant mica paper (i.e., base material), and the photocurable resin composition was applied to this base material at a temperature of 100°C. A prepreg sheet was produced by heat treatment for 40 minutes. In order to understand the mechanical properties of this prepreg sheet, four 25 mm x 25 mm photocurable prepreg sheets were heated to about 80°C and exposed to a 2.5 KW mercury lamp for about 10 minutes. The adhesive strength of the cured sheet obtained using this sample was measured at a temperature of 20°C using an Instron tensile tester. In addition, the obtained photocurable prepreg sheet was
A bundle of 10 formal flat rectangular copper wires of mm x 5 mm x 50 mm was wound 4 times in a lapper winding (or sushi winding) on a coil conductor, and then heated to 80°C and placed in a 2.5 KW mercury lamp for 10 strands. The electrical characteristics (dissipation tangent (tanδ), temperature characteristics,
dielectric breakdown voltage) was measured. The measurement results are shown in Table 1. Note that the dielectric loss tangent temperature characteristics are measured at the measured voltage of the obtained insulated coil at temperatures of 20°C and 200°C.
It was measured using the high-pressure Schering bridge method at 0.5KV. [Using a shearing bridge made by Yokogawa Electric Corporation] The breakdown voltage was determined by measuring the obtained insulated coil (initial stage) and the insulated coil (after deterioration) obtained by thermally degrading the insulated coil at 220°C for 20 days. 1 at 250℃
Measurements were made in oil at a constant pressure increase rate of KV/sec. [Using a withstand voltage tester manufactured by Aikoku Denki Co., Ltd.] Example 2 Aromatic polyamide paper [Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd., thickness 0.1
mm] and laminated mica paper [polymer fibrid content: 5%, polymer fibrid constituents: isophthalic acid-diaminodiphenylsothane (polyamide): thickness 0.3 mm] (weight ratio aromatic per m2 ) A base material with a two-layer structure was obtained by heat-sealing polyamide paper/laminated mica paper = 20/100. In addition to using the obtained two-layer structure base material,
A semi-cured photocurable prepreg sheet was produced in the same manner as in Example 1, and the adhesive strength of the obtained photocurable prepreg sheet was measured. Further, an insulated coil was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained photocurable prepreg sheet was used, and the electrical properties of the obtained insulated coil were measured. The measurement results are shown in Table 1. Example 3 Aromatic polyamide [manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.: thickness 0.1
mm] and laminated mica paper [Polymer fibrid content: 1%, Polymer fibrid constituents: Acrylonitrile-methyl methacrylate copolymer:
0.1 mm thick] (weight ratio per 1 m 2 : aromatic polyamide paper/laminated mica paper = 60/60) was heat-sealed to obtain a base material with a two-layer structure. Next, a semi-cured photocurable prepreg sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained two-layer structure base material was used, and the adhesive strength of the obtained photocurable prepreg sheet was measured. did. Further, an insulated coil was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained photocurable prepreg sheet was used, and the electrical properties of the obtained insulated coil were measured. These results are shown in Table 1. Example 4 28.6 g (0.1 equivalent) of a quinazolone ring-containing dicarboxylic acid represented by QC-2 and Epicote, a bisphenol A type epoxy resin with an epoxy equivalent of 190.
828 (trade name of Ciel Chemical) was mixed with 57.0 g (0.3 equivalents) and reacted with 0.01 g of benzyltriethylammonium bromide as a catalyst at 150° C. for 1 hour to obtain a quinazolone-modified epoxy resin with an epoxy equivalent of 430. To 800 g of this quinazolone-modified epoxy resin, 140 g of methacrylic acid was added and reacted at 120° C. for 2 hours to obtain an unsaturated polyester with an acid value of 5. 0.5 g of benzoin ethyl ether was added to 100 g of the unsaturated polyester obtained here to synthesize a photocurable resin composition. Next, a semi-cured photocurable prepreg sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the obtained curable resin composition and the same two-layer structure base material as used in Example 3 were used. . The adhesive strength of the obtained photocurable prepreg sheet was measured in the same manner as in Example 1. The measurement results are shown in Table 1. Comparative example 1 DEN438 (Dow Chemical Co., Ltd.: epoxy equivalent) 60
g and ECN1273 (Ciba Geigy Co., Ltd. epoxy equivalent)
225) and 3 g of boron trifluoride monoethylamine complex salt were dissolved in a mixed solvent of acetone/toluene (45/55) to obtain an organic solvent solution of an epoxy resin composition. Next, the epoxy resin composition was applied to the same two-layer structure base material used in Example 1, and the temperature was increased.
A prepreg sheet was produced by drying at 100°C for 5 minutes and then at 110°C for 8 minutes. Then, the adhesive strength of the obtained prepreg sheet was measured in the same manner as in Example 1. Furthermore, an insulated coil was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained prepreg sheet was used, and the electrical properties and appearance of the obtained insulated coil were measured. The measurement results are shown in Table 1. Comparative Example 2 An organic solvent solution of the epoxy resin composition obtained in Comparative Example 1 was applied to aromatic polyamide paper (manufactured by DuPont, trade name "Nomex Paper": thickness 0.1 mm),
A prepreg sheet was produced by drying at a temperature of 105°C for 10 minutes. Then, the adhesive strength of the obtained prepreg sheet was measured in the same manner as in Example 1. Further, an insulated coil was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the obtained prepreg sheet was used, and the electrical properties and appearance quality of the obtained insulated coil were measured. The results are shown in Table 1.

【表】 本発明の光硬化性プリプレグにあつては、コイ
ルなどの導体上に巻回したのち光照射することに
より、容易に前記諸特性にすぐれた絶縁組織が得
られ、工業上極めて有利である。
[Table] The photocurable prepreg of the present invention can easily obtain an insulating structure excellent in the above properties by winding it around a conductor such as a coil and then irradiating it with light, which is extremely advantageous industrially. be.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 融着剤としての高分子フイブリツドを含有す
る集成マイカ紙と芳香族ポリアミド紙を熱融着し
てなる基材に、キナゾロン環含有ジカルボン酸化
合物とエポキシ化合物を反応させて得られたキナ
ゾロン変性エポキシ樹脂と、不飽和一塩基酸を反
応させることにより得られた光硬化性樹脂組成物
を塗布または含浸し、半硬化状にした光硬化性プ
リプレグ。 2 集成マイカ紙と芳香族ポリアミド紙の構成比
率が、集成マイカ100重量部に対して芳香族ポリ
アミド紙20〜120重量部である特許請求の範囲第
1項に記載の光硬化性プリプレグ。
[Claims] 1. A base material made by heat-sealing a laminated mica paper containing polymeric fibrils as a fusion agent and an aromatic polyamide paper, and a quinazolone ring-containing dicarboxylic acid compound and an epoxy compound being reacted. A photocurable prepreg made into a semi-cured state by coating or impregnating a photocurable resin composition obtained by reacting the obtained quinazolone-modified epoxy resin with an unsaturated monobasic acid. 2. The photocurable prepreg according to claim 1, wherein the composition ratio of the laminated mica paper and the aromatic polyamide paper is 20 to 120 parts by weight based on 100 parts by weight of the laminated mica.
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