JPS6254114A - 三次元座標測定機 - Google Patents
三次元座標測定機Info
- Publication number
- JPS6254114A JPS6254114A JP19462385A JP19462385A JPS6254114A JP S6254114 A JPS6254114 A JP S6254114A JP 19462385 A JP19462385 A JP 19462385A JP 19462385 A JP19462385 A JP 19462385A JP S6254114 A JPS6254114 A JP S6254114A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- length measuring
- detector
- movement
- beam splitter
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、試料の形状を三次元的に測定する三次元座標
測定機に関する。
測定機に関する。
（発明の前景）
従来の三次元座標測定機は、試料の測定点を特定するプ
ローブのフィーラー球が、その移動量を計測する基準ス
ケールから大きく離れた構造であるため、プローブ移動
による姿勢変化に起因するアツベ誤差を避けられず、測
定精度の低下を引き起こしている。測定精度を向上させ
るためには、プローブ移動の基準となるガイド部材の精
度を良くすることが必要で、大巾なコストアップになる
という欠点があった。
ローブのフィーラー球が、その移動量を計測する基準ス
ケールから大きく離れた構造であるため、プローブ移動
による姿勢変化に起因するアツベ誤差を避けられず、測
定精度の低下を引き起こしている。測定精度を向上させ
るためには、プローブ移動の基準となるガイド部材の精
度を良くすることが必要で、大巾なコストアップになる
という欠点があった。
（発明の目的）
本発明はこのような欠点を解決し、高精度な計測が可能
な三次元座標測定機を得ることを目的とする。
な三次元座標測定機を得ることを目的とする。
線が互北直角をなす３組の測長装置と、前記測長線の交
差点にフイーラー球の中心がほぼ一致するように配設さ
れたプローブと、前記測長線の方向へ試料を三次元的に
移動する載物台と、を有することを特徴とする三次元座
標測定機であり、それによってアツベの原理を満足する
三次元的な測長を行なえるようになしたものである。
差点にフイーラー球の中心がほぼ一致するように配設さ
れたプローブと、前記測長線の方向へ試料を三次元的に
移動する載物台と、を有することを特徴とする三次元座
標測定機であり、それによってアツベの原理を満足する
三次元的な測長を行なえるようになしたものである。
（実施例）
第１図ないし第４図は本発明の第一実施例であって、第
１図は平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ’矢視断面図、
第３図は第１図のＢ−Ｂ’矢視断面図、第４図は第１図
のｃ−ｃ’矢視断面図である。
１図は平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ’矢視断面図、
第３図は第１図のＢ−Ｂ’矢視断面図、第４図は第１図
のｃ−ｃ’矢視断面図である。
レーザ光源１からＸ軸に沿って射出した光は第１のビー
ムスプリッタ２によってＸ軸に沿った透過光とＹ軸に沿
った反射光とに分割される。第１のビームスプリッタ２
の透過光は、第２図に示したように、第２のビームスプ
リッタ３によってＸ軸に沿った透過光とＹ軸に沿った反
射光とに分割される。第２のビームスプリンタ３の反射
光は第３のビームスプリッタ４によってＸ軸に沿った反
射光とＹ軸に沿った透過光とに分割される。第３のビー
ムスプリッタ４による反射光は十字動ステージＩＯ上に
Ｙ方向へ配置した第１の反射鏡５に垂直に入射する。こ
の入射光は反射鏡５で反射した後、第３のビームスプリ
ッタ４を透過し、検出器６に入射する。一方、第２のビ
ームスプリッタ３を反射し、第３のビームスプリンタ４
を透過した光は、コーナーキューブ７に入射した後反射
して第３のビームスプリンタ４に入り、そこテノ反射光
は検出器６に入射する。その結果、第１の反射鏡５から
の反射光とコーナーキューブ７からの反射光との干渉縞
の移動を検出器６にて検出することができ、干渉縞の移
動から第１の反射鏡５のＸ方向移動量を測定することが
できる。
ムスプリッタ２によってＸ軸に沿った透過光とＹ軸に沿
った反射光とに分割される。第１のビームスプリッタ２
の透過光は、第２図に示したように、第２のビームスプ
リッタ３によってＸ軸に沿った透過光とＹ軸に沿った反
射光とに分割される。第２のビームスプリンタ３の反射
光は第３のビームスプリッタ４によってＸ軸に沿った反
射光とＹ軸に沿った透過光とに分割される。第３のビー
ムスプリッタ４による反射光は十字動ステージＩＯ上に
Ｙ方向へ配置した第１の反射鏡５に垂直に入射する。こ
の入射光は反射鏡５で反射した後、第３のビームスプリ
ッタ４を透過し、検出器６に入射する。一方、第２のビ
ームスプリッタ３を反射し、第３のビームスプリンタ４
を透過した光は、コーナーキューブ７に入射した後反射
して第３のビームスプリンタ４に入り、そこテノ反射光
は検出器６に入射する。その結果、第１の反射鏡５から
の反射光とコーナーキューブ７からの反射光との干渉縞
の移動を検出器６にて検出することができ、干渉縞の移
動から第１の反射鏡５のＸ方向移動量を測定することが
できる。
すなわち、レーザ光源１、第１のビームスプリンタ２、
第２のビームスブリック３、第３のビームスプリッタ４
、第１の反射鏡５、検出器６、コーナーキューブ７によ
って、いわゆるＸ方向移動量を測定するための光波干渉
測長計が構成されている。
第２のビームスブリック３、第３のビームスプリッタ４
、第１の反射鏡５、検出器６、コーナーキューブ７によ
って、いわゆるＸ方向移動量を測定するための光波干渉
測長計が構成されている。
、一方、第１のビームスブリック２でＹ軸に沿った方向
へ反射された光は、第１図に示したように、平面反射鏡
８でＸ軸に沿った方向へ反射された後、第４図に示した
如く平面反射鏡９へ入射し、Ｙ軸に沿った方向へ反射さ
れる。この反射光は、第４のビームスプリッタ４０へ入
射し、Ｙ軸に沿った反射光とＹ軸に沿った透過光とに分
割される。第４のビームスプリッタ４０の反射光は十字
動ステージ１０上にＸ方向へ配置した第２の反射鏡５０
に垂直に入射する。この入射光は反射鏡５０で反射した
後、第４のビームスプリッタ４０を透過し、検出器６０
に入射する。一方、第１のビームスプリッタ２で反射し
、第４のビームスプリッタ４０を透過した光は、コーナ
ーキューブ７０に入射した後反射して第４のビームスプ
リッタ４０に入り、そこでの反射光は検出器６０に入射
する。その結果、第２の反射鏡５０からの反射光とコー
ナーキューブ７０からの反射光との干渉縞の移動を検出
器６０にて検出することができ、干渉縞の移動から第２
の反射鏡５０のＹ方向移動量を測定することができる。
へ反射された光は、第１図に示したように、平面反射鏡
８でＸ軸に沿った方向へ反射された後、第４図に示した
如く平面反射鏡９へ入射し、Ｙ軸に沿った方向へ反射さ
れる。この反射光は、第４のビームスプリッタ４０へ入
射し、Ｙ軸に沿った反射光とＹ軸に沿った透過光とに分
割される。第４のビームスプリッタ４０の反射光は十字
動ステージ１０上にＸ方向へ配置した第２の反射鏡５０
に垂直に入射する。この入射光は反射鏡５０で反射した
後、第４のビームスプリッタ４０を透過し、検出器６０
に入射する。一方、第１のビームスプリッタ２で反射し
、第４のビームスプリッタ４０を透過した光は、コーナ
ーキューブ７０に入射した後反射して第４のビームスプ
リッタ４０に入り、そこでの反射光は検出器６０に入射
する。その結果、第２の反射鏡５０からの反射光とコー
ナーキューブ７０からの反射光との干渉縞の移動を検出
器６０にて検出することができ、干渉縞の移動から第２
の反射鏡５０のＹ方向移動量を測定することができる。
すなわち、レーザ光源１１第１のビームスプリッタ２、
第４のビームスプリッタ４０、第２の反射鏡５０、検出
器６０、コーナーキューブ７０によって、いわゆるＹ方
向移動量を測定するための光波干渉測長計が構成されて
いる。
第４のビームスプリッタ４０、第２の反射鏡５０、検出
器６０、コーナーキューブ７０によって、いわゆるＹ方
向移動量を測定するための光波干渉測長計が構成されて
いる。
そして、第１図に示したように、第３のビームスプリッ
タ３を反射して第１の反射鏡５へ向かう光の光軸の延長
線と、第４のビームスプリッタ４０を反射して第２の反
射鏡５０へ向かう光の光軸の延長線とは、十字動ステー
ジ１０上方の一点Ｐで交差するように各光学部材が配置
されている。
タ３を反射して第１の反射鏡５へ向かう光の光軸の延長
線と、第４のビームスプリッタ４０を反射して第２の反
射鏡５０へ向かう光の光軸の延長線とは、十字動ステー
ジ１０上方の一点Ｐで交差するように各光学部材が配置
されている。
また、第２のビームスプリッタ３を透過した光はビーム
スプリッタ４００に入射してＹ軸に沿った反射光と、Ｘ
軸に沿ワた透過光とに分割される。
スプリッタ４００に入射してＹ軸に沿った反射光と、Ｘ
軸に沿ワた透過光とに分割される。
第５のビームスプリンタ４００を反射した光はＺ軸方向
へ移動自在に配設された十字動ステージ１０の下面に固
設した第３の反射鏡５００に垂直に入射し、その反射光
は第５のビームスプリッタ４００を透過し検出器６００
に入射する。一方、第２のビームスプリッタ３を透過し
第５のビームスプリッタ４００を透過した光は、コーナ
ーキューブ７００に入射した後反射して第５のビームス
プリッタ４００に入り、そこでの反射光は検出器６００
に入射する。その結果、第３の反射鏡５００からの反射
光とコーナーキューブ７００からの反射光との干渉縞の
移動を検出器６００にて検出することができ、干渉縞の
移動から第３の反射鏡５００のＺ方向の移動量を測定す
ることができる。
へ移動自在に配設された十字動ステージ１０の下面に固
設した第３の反射鏡５００に垂直に入射し、その反射光
は第５のビームスプリッタ４００を透過し検出器６００
に入射する。一方、第２のビームスプリッタ３を透過し
第５のビームスプリッタ４００を透過した光は、コーナ
ーキューブ７００に入射した後反射して第５のビームス
プリッタ４００に入り、そこでの反射光は検出器６００
に入射する。その結果、第３の反射鏡５００からの反射
光とコーナーキューブ７００からの反射光との干渉縞の
移動を検出器６００にて検出することができ、干渉縞の
移動から第３の反射鏡５００のＺ方向の移動量を測定す
ることができる。
そして、第２図、第３図に示したように、第５のビーム
スプリンタ４００を反射して第３の反射鏡５００へ向か
う光の光軸の延長線は上述の一点Ｐで交差するように各
光学部材が配置されている。
スプリンタ４００を反射して第３の反射鏡５００へ向か
う光の光軸の延長線は上述の一点Ｐで交差するように各
光学部材が配置されている。
そしてまた同上の如く、レーザ光源１、第１のビームス
プリッタ２、第２のビームスプリンタ３、第５のビーム
スプリ７タ４００、第３の反射鏡５００、検出器６００
、コーナーキューブ７００によって、いわゆるＺ方向移
動量を測定するための光波干渉測長針が構成されている
。
プリッタ２、第２のビームスプリンタ３、第５のビーム
スプリ７タ４００、第３の反射鏡５００、検出器６００
、コーナーキューブ７００によって、いわゆるＺ方向移
動量を測定するための光波干渉測長針が構成されている
。
十字動ステージ１０は周知の構造のものであって、基板
１０ａと、基盤１０ａ上をＹ軸に沿って動ステージ１０
は周知の構造によって基台１１に対しＺ軸に沿って移動
するようになっている。本例の場合には、第２図、第３
図に示したように、基台１１の中央部付近に開口が形成
され、第５のビームスプリッタ４００を反射した光がこ
の開口を通して十字動ステージＩＯの基板１０ａ下面に
固設した第３の反射鏡５００に入射するように構成され
ている。
１０ａと、基盤１０ａ上をＹ軸に沿って動ステージ１０
は周知の構造によって基台１１に対しＺ軸に沿って移動
するようになっている。本例の場合には、第２図、第３
図に示したように、基台１１の中央部付近に開口が形成
され、第５のビームスプリッタ４００を反射した光がこ
の開口を通して十字動ステージＩＯの基板１０ａ下面に
固設した第３の反射鏡５００に入射するように構成され
ている。
十字動ステージ１０の上板１０ｃの上方の一点Ｐにフィ
ーラー球１２の中心点がほぼ一致するようにタッチトリ
ガープローブ１３が配設されており、このプローブ１３
はフィーラー球１２の中心が一点Ｐに常に一致している
ように、十字動ステージ１０の移動に対して固定側、す
なわち基台１１側にある。
ーラー球１２の中心点がほぼ一致するようにタッチトリ
ガープローブ１３が配設されており、このプローブ１３
はフィーラー球１２の中心が一点Ｐに常に一致している
ように、十字動ステージ１０の移動に対して固定側、す
なわち基台１１側にある。
このような構造であるから、十字動ステージ１０の上坂
１０ｃ上に被測定物（円筒）１４を載置しくその内径を
測定しようとする場合には、十字動ステージエ０をＸ軸
、Ｙ軸、Ｘ軸方向へ移動して円筒１４の内部にフィーラ
ー球１２を入れた後、十字動ステージ１０をＸ軸方向も
しくはＹ軸方向へ移動すればよい。すなわち、第２図に
おいて十字動ステージ１０の上板１０ｃをＸ軸、Ｙ軸方
部へ移動し、内周の異なる３点にフィーラー球１２を当
接させて、タッチトリガープローブ１３から得られたタ
ッチ信号に同期させて検出器６．６０．６００の値（カ
ウンタの計数値）を取り込めば、当接した３点の座標を
求めることができ（この際、フィーラー球１２の直径骨
の補正はしであるものとする。）、内周の直径を演算す
ることができる。
１０ｃ上に被測定物（円筒）１４を載置しくその内径を
測定しようとする場合には、十字動ステージエ０をＸ軸
、Ｙ軸、Ｘ軸方向へ移動して円筒１４の内部にフィーラ
ー球１２を入れた後、十字動ステージ１０をＸ軸方向も
しくはＹ軸方向へ移動すればよい。すなわち、第２図に
おいて十字動ステージ１０の上板１０ｃをＸ軸、Ｙ軸方
部へ移動し、内周の異なる３点にフィーラー球１２を当
接させて、タッチトリガープローブ１３から得られたタ
ッチ信号に同期させて検出器６．６０．６００の値（カ
ウンタの計数値）を取り込めば、当接した３点の座標を
求めることができ（この際、フィーラー球１２の直径骨
の補正はしであるものとする。）、内周の直径を演算す
ることができる。
このようにして、フィーラー球１２の径を無視又は補正
することによりフィーラー球１２の中心、すなわち点Ｐ
の座標値を測定することができる。
することによりフィーラー球１２の中心、すなわち点Ｐ
の座標値を測定することができる。
３組の干渉測長針の光軸の延長線は測長線として、フィ
ーラー球１２の中心Ｐにおいて直交しているので、Ｘ軸
、Ｙ軸、Ｚ軸とも常にアツベの原理を度が多少悪くても
、測定精度への影響はほとんどない、という利点がある
。なお、直交の精度としては要求される誤差範囲内にあ
るように定められる。
ーラー球１２の中心Ｐにおいて直交しているので、Ｘ軸
、Ｙ軸、Ｚ軸とも常にアツベの原理を度が多少悪くても
、測定精度への影響はほとんどない、という利点がある
。なお、直交の精度としては要求される誤差範囲内にあ
るように定められる。
以上の実施例は測長装置として光波干渉測長計を用いた
が、測長装置としては他の構造のもの、例えば第５図な
いし第６図の第２実施例に示した如きピノール型測長器
を用いることができる。
が、測長装置としては他の構造のもの、例えば第５図な
いし第６図の第２実施例に示した如きピノール型測長器
を用いることができる。
第５図は平面図、第６図は第５図のＡ−Ａ’矢視断面図
、第７図は第５図のＢ−Ｂ”矢視断面図である。
、第７図は第５図のＢ−Ｂ”矢視断面図である。
第５図において、ピノール型測長器１５のスピンドル軸
１５ａの先端は、Ｙ軸方向に延びた基準部材１６の側面
に当接している。ピノール型測長器１５のスピンドル軸
１５ａはケースに内蔵された不図示のばねによって常に
ケースから突出する方向へ付勢されており、軸１５ａに
その中心軸と目盛面とが一致するように固定されたスケ
ールの目盛を例えば光電的に読み取ることによって、ス
ピンドル軸１５ａの進退の量を測定することができる。
１５ａの先端は、Ｙ軸方向に延びた基準部材１６の側面
に当接している。ピノール型測長器１５のスピンドル軸
１５ａはケースに内蔵された不図示のばねによって常に
ケースから突出する方向へ付勢されており、軸１５ａに
その中心軸と目盛面とが一致するように固定されたスケ
ールの目盛を例えば光電的に読み取ることによって、ス
ピンドル軸１５ａの進退の量を測定することができる。
スピンドル軸１５ａは常にケースから突出する方向へ付
勢されているから、十字動ステージの上板１０ｃがＸ軸
方向へ移動しても、常にその先端は基準部材１６に当接
している。ピノール型測長器１５はＸ軸方向の移動量を
測定するためのものであって、Ｙ軸方向の移動量を測定
するためにピノール型測長器１７が、そしてＸ軸方向の
移動量を測定するためにピノール型測長器１９が設けら
れている。ピノール型測長器１７もスピンドル軸１７ａ
を有しており、その先端がＸ軸方向に延びた基準部材１
８の側面に当接し、ピノール型測長器１９のスピンドル
軸１９ａもその先端が、十字動ステージ１０の中央部に
Ｚ軸方向へ形成した貫通孔を通して、上板１０ｃ上にＺ
方向移動自在に設けられたワーク載置台１０ｄの底面に
固設した基準部材２１に当接している。
勢されているから、十字動ステージの上板１０ｃがＸ軸
方向へ移動しても、常にその先端は基準部材１６に当接
している。ピノール型測長器１５はＸ軸方向の移動量を
測定するためのものであって、Ｙ軸方向の移動量を測定
するためにピノール型測長器１７が、そしてＸ軸方向の
移動量を測定するためにピノール型測長器１９が設けら
れている。ピノール型測長器１７もスピンドル軸１７ａ
を有しており、その先端がＸ軸方向に延びた基準部材１
８の側面に当接し、ピノール型測長器１９のスピンドル
軸１９ａもその先端が、十字動ステージ１０の中央部に
Ｚ軸方向へ形成した貫通孔を通して、上板１０ｃ上にＺ
方向移動自在に設けられたワーク載置台１０ｄの底面に
固設した基準部材２１に当接している。
そして、スピンドル軸１５ａ、１７ａ、１９ａの中心軸
の延長線は測長線として、ワーク載置台１０ｄの上方の
一点Ｐで直交し、そこにはフィーラー球１２の中心に一
致するようにタッチトリガプローブ１３が基板１０ａに
固定して設けられている。
の延長線は測長線として、ワーク載置台１０ｄの上方の
一点Ｐで直交し、そこにはフィーラー球１２の中心に一
致するようにタッチトリガプローブ１３が基板１０ａに
固定して設けられている。
なお当然のことではあるが、ピノール型測長器１９がＹ
軸方向へ移動する中板１０ｂ、中板１０ｂ上をＺ軸方向
へ移動する上板１０ｃの中央部分を貫通しているから、
十字動ステージ１０の中央部にＺ軸方向へ形成した貫通
孔は、中板１０ｂ、上板１０ｃの十分な移動を許容する
大きさに定められている。
軸方向へ移動する中板１０ｂ、中板１０ｂ上をＺ軸方向
へ移動する上板１０ｃの中央部分を貫通しているから、
十字動ステージ１０の中央部にＺ軸方向へ形成した貫通
孔は、中板１０ｂ、上板１０ｃの十分な移動を許容する
大きさに定められている。
このような構造の第２実施例によれば、基準部材１６．
１８はＺ軸に沿った方向へは移動しないので、Ｘ軸又は
Ｙ軸に沿った方向への移動量をカバーする大きさで済み
、製作が容易である。
１８はＺ軸に沿った方向へは移動しないので、Ｘ軸又は
Ｙ軸に沿った方向への移動量をカバーする大きさで済み
、製作が容易である。
また、基準部材１６．１８の高さを低く押えることがで
きるので、基準部材１６．１８の先端が高さの低い測定
物の測定点の上方に太き（突き出し、測定点の確認に支
障をきたす、というような問題もない。
きるので、基準部材１６．１８の先端が高さの低い測定
物の測定点の上方に太き（突き出し、測定点の確認に支
障をきたす、というような問題もない。
第２実施例のその他の構造は第１実施例と同様であり、
その動作も同様に行なうことができる。
その動作も同様に行なうことができる。
と
なお、第２実施例のステージ構造歳第１実施例のステー
ジと置き換えれば、第１の反射鏡５、第２の反射鏡５０
の大きさを第２実施例における基準部材１６．１８と同
様に小さくすることができ製作が容易となるばかりでな
く、高さを低くできるので測定点の確認も容易に行なえ
るようになる。
ジと置き換えれば、第１の反射鏡５、第２の反射鏡５０
の大きさを第２実施例における基準部材１６．１８と同
様に小さくすることができ製作が容易となるばかりでな
く、高さを低くできるので測定点の確認も容易に行なえ
るようになる。
（発明の効果）
以上のように本発明によれば、３軸方向共常にアツベの
原理を満足した状態で計測されるので、高精度の測定が
できるという利点があるのみならず十字動ステージや上
下動装置の移動精度をラフにでき、これらの部分を安価
に構成できるという効果がある。
原理を満足した状態で計測されるので、高精度の測定が
できるという利点があるのみならず十字動ステージや上
下動装置の移動精度をラフにでき、これらの部分を安価
に構成できるという効果がある。
第１図は本発明の第１実施例の平面図、第２図は第１図
のＡ−Ａ’矢視断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ”矢視
断面図、第４図は第１図のｃ−ｃ’矢視断面図、第５図
は本発明の第２実施例の平面図、第６図は第５図のＡ−
Ａ’矢視断面図、第７図は第５図のＢ−Ｂ’矢視断面図
である。 （主要部分の符号の説明） １ ・〜・−レーザ光源 ２ ・−−−−一−−第１のビームスプリンタ３−・−
・第２のビームスプリッタ ４−・−一一一一第３のビームスプリッタ５・・−・−
・第１の反射鏡 ５０−・−・・・第２の反射鏡 ５００−・−第３の反射鏡 ６．６０．６００−・・−・−・・検出器７．７０．７
００ ・：・−・コーナーキューブＰ −−−−−−−
・測長線の交差点 １０−−−−−−−・十字動ステージ １２ −−−−−−・・フィーラー球 １３ ・−・−・タッチトリガプローブ１５．１７．１
９−・−・・ピノール型測長器１６．１８．２１ −−
−−−−一・基準部材。
のＡ−Ａ’矢視断面図、第３図は第１図のＢ−Ｂ”矢視
断面図、第４図は第１図のｃ−ｃ’矢視断面図、第５図
は本発明の第２実施例の平面図、第６図は第５図のＡ−
Ａ’矢視断面図、第７図は第５図のＢ−Ｂ’矢視断面図
である。 （主要部分の符号の説明） １ ・〜・−レーザ光源 ２ ・−−−−一−−第１のビームスプリンタ３−・−
・第２のビームスプリッタ ４−・−一一一一第３のビームスプリッタ５・・−・−
・第１の反射鏡 ５０−・−・・・第２の反射鏡 ５００−・−第３の反射鏡 ６．６０．６００−・・−・−・・検出器７．７０．７
００ ・：・−・コーナーキューブＰ −−−−−−−
・測長線の交差点 １０−−−−−−−・十字動ステージ １２ −−−−−−・・フィーラー球 １３ ・−・−・タッチトリガプローブ１５．１７．１
９−・−・・ピノール型測長器１６．１８．２１ −−
−−−−一・基準部材。
Claims (1)
- 測長線が一点で交差しかつ夫々の測長線が互に直角をな
す３組の測長装置と、前記測長線の交差点にフィーラー
球の中心がほぼ一致するように配設されたプローブと、
前記測長線の方向へ試料を三次元的に移動する載物台と
、を有することを特徴とする三次元座標測定機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60194623A JPH083410B2 (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | 三次元座標測定機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60194623A JPH083410B2 (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | 三次元座標測定機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6254114A true JPS6254114A (ja) | 1987-03-09 |
| JPH083410B2 JPH083410B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=16327598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60194623A Expired - Lifetime JPH083410B2 (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | 三次元座標測定機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083410B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007183189A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Konica Minolta Opto Inc | 形状測定装置 |
| JP2013174579A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-09-05 | Mitsutoyo Corp | 精密二次元移動装置、精密三次元移動装置、および三次元測定機 |
| JP2019219359A (ja) * | 2018-06-22 | 2019-12-26 | 株式会社ミツトヨ | 測定装置および測定方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120908A (ja) * | 1974-08-13 | 1976-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Hatsuhoshitsuseramitsukuno seizohoho |
| JPS6035210U (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-11 | 株式会社ニコン | タッチセンサー |
-
1985
- 1985-09-03 JP JP60194623A patent/JPH083410B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120908A (ja) * | 1974-08-13 | 1976-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Hatsuhoshitsuseramitsukuno seizohoho |
| JPS6035210U (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-11 | 株式会社ニコン | タッチセンサー |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007183189A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Konica Minolta Opto Inc | 形状測定装置 |
| JP2013174579A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-09-05 | Mitsutoyo Corp | 精密二次元移動装置、精密三次元移動装置、および三次元測定機 |
| JP2019219359A (ja) * | 2018-06-22 | 2019-12-26 | 株式会社ミツトヨ | 測定装置および測定方法 |
| CN110631448A (zh) * | 2018-06-22 | 2019-12-31 | 株式会社三丰 | 测量装置和测量方法 |
| CN110631448B (zh) * | 2018-06-22 | 2022-09-23 | 株式会社三丰 | 测量装置和测量方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH083410B2 (ja) | 1996-01-17 |
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