JPS6249633B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6249633B2
JPS6249633B2 JP16256878A JP16256878A JPS6249633B2 JP S6249633 B2 JPS6249633 B2 JP S6249633B2 JP 16256878 A JP16256878 A JP 16256878A JP 16256878 A JP16256878 A JP 16256878A JP S6249633 B2 JPS6249633 B2 JP S6249633B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
thin film
transistor
switching element
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16256878A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5589890A (en
Inventor
Masahiro Ise
Kenzo Inazaki
Katsuyuki Machino
Chuji Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP16256878A priority Critical patent/JPS5589890A/en
Publication of JPS5589890A publication Critical patent/JPS5589890A/en
Publication of JPS6249633B2 publication Critical patent/JPS6249633B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はメモリ付薄膜EL素子に対し、コンデ
ンサ等を電圧源として用いることによりその電圧
低下を全面消去電圧とする回路方式に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a circuit system for a thin film EL element with a memory, in which a capacitor or the like is used as a voltage source, and the voltage drop thereof is used as a full erase voltage.

薄膜EL素子を用いた表示装置はガラス基板の
上に透明電極を縞状に配置し、この上に例えば
Y2O3、Si3N4、TiO2、Al2O3等の誘電物質を、更
にこの上に例えばMnをドープしたZnS、ZnSe等
の螢光層を、その上に更にY2O3、Si3N4、TiO2
Al2O3等の誘電物質を蒸着法、スパツタ法等の薄
膜技術により各々の層を500〜10000Åの厚さに被
着するとともに2重絶縁型3層構造にして、その
上に上記透明電極と直交する方向に縞状背面電極
を配置しマトリツクス形電極を構成するとともに
透明電極群のうちの一つと背面電極群のうちの一
つを選び適当な交流電圧を印加すると、この両電
極が交差して挾まれた微少面積部分(画面の一絵
素に相当)が発光し、これの組合せによつて、文
字、記号、模様等を表示するものである。
Display devices using thin-film EL elements have transparent electrodes arranged in stripes on a glass substrate, and on top of this, for example,
A dielectric material such as Y 2 O 3 , Si 3 N 4 , TiO 2 , Al 2 O 3 , etc. is further layered on top of this, for example, a phosphor layer such as Mn-doped ZnS, ZnSe , etc. , Si3N4 , TiO2 ,
A dielectric material such as Al 2 O 3 is deposited on each layer to a thickness of 500 to 10,000 Å using a thin film technique such as vapor deposition or sputtering, and a double-insulated three-layer structure is formed. Striped back electrodes are arranged in a direction orthogonal to the matrix to form a matrix electrode, and when one of the transparent electrode groups and one of the back electrode groups are selected and an appropriate AC voltage is applied, these two electrodes intersect. A tiny area (corresponding to one picture element on the screen) held between the two lights emits light, and by combining these lights, characters, symbols, patterns, etc. are displayed.

このような構造のEL素子は輝度や寿命、安定
性の点で従来の分散型EL素子に比して優れた特
性を有しているが、このEL素子は更に新たな特
性として印加電圧と発光輝度の間にヒステリシス
特性を示す。即ち電圧振幅V1のパルスを維持電
圧として印加すると、輝度は低レベルの輝度B1
にある。ここで維持電圧V1は発光閾値電圧Vthと
するとV1>Vthに設定されている。維持電圧V1
連続印加期間中輝度はB1に維持される。次に書
込み電圧V2(V2>V1)を印加すると、輝度は高レ
ベルの輝度B3にまで一挙に上昇し、以後、電圧
が維持電圧V1に再び戻つても輝度は先の輝度B1
より大きい輝度B2に落着く。維持電圧V1の連続
印加では輝度はB2に維持される。この状態のと
き、次に消去電圧V3(V3<V1)を印加すると、輝
度レベルは急激に減少し、再び維持電圧V1まで
戻すと前の低レベルの輝度B1に落着く。この履
歴現象は書き込み電圧の振幅やパルス幅、パルス
周波数に応じて任意の小ループをとりうる。即ち
中間調の表示も可能である。
EL elements with this structure have superior characteristics compared to conventional distributed EL elements in terms of brightness, lifespan, and stability, but this EL element also has new characteristics that improve the applied voltage and light emission. Shows hysteresis characteristics during brightness. In other words, when a pulse with voltage amplitude V 1 is applied as a sustaining voltage, the brightness decreases to the low level brightness B 1
It is in. Here, the sustaining voltage V 1 is set to be V 1 >Vth, where Vth is the emission threshold voltage. The brightness is maintained at B 1 during the period of continuous application of the maintenance voltage V 1 . Next, when the write voltage V 2 (V 2 > V 1 ) is applied, the brightness increases all at once to the high level brightness B 3 , and thereafter, even if the voltage returns to the maintenance voltage V 1 again, the brightness remains the same as before. B 1
The brightness settles to B2 , which is greater. The brightness is maintained at B2 by continuous application of the sustaining voltage V1 . In this state, when the erase voltage V 3 (V 3 <V 1 ) is applied next, the brightness level decreases rapidly, and when it is returned to the sustaining voltage V 1 again, it settles to the previous low level of brightness B 1 . This hysteresis phenomenon can take any small loop depending on the amplitude, pulse width, and pulse frequency of the write voltage. That is, it is also possible to display halftones.

このように一度書込み電圧、又は消去電圧を与
えると、各絵素は維持パルスによつてそれぞれ与
えられた階調を失わずに発光し続けるのが、EL
素子装置の他の表示装置に無い大きな特徴であ
る。上記の各電圧は組成や膜厚の物理条件や製造
条件、印加波形により大分異なるが、因みにある
試作例ではVth=200V、V1=210V、V2=210〜
280V、V3=190Vなる値を得ている。
In this way, once a write voltage or an erase voltage is applied, each picture element continues to emit light without losing the gradation given by the sustain pulse.
This is a major feature that other display devices do not have. The above voltages vary greatly depending on the physical conditions of composition and film thickness, manufacturing conditions, and applied waveform, but in a prototype example, Vth = 200V, V 1 = 210V, V 2 = 210 ~
The values are 280V and V 3 = 190V.

この薄膜ELパネルの駆動回路を本発明者等は
特願昭52−126948号「薄膜EL素子の駆動回路」
及び特願昭52−130529号「薄膜EL素子の駆動回
路」で特許出願したのでこれを先願発明として第
1図に示し以下説明する。
The drive circuit for this thin film EL panel was developed by the present inventors in Japanese Patent Application No. 52-126948 entitled "Drive Circuit for Thin Film EL Element".
and Japanese Patent Application No. 52-130529 ``Driving circuit for thin film EL element'', this is shown in FIG. 1 as a prior invention and will be described below.

10は前記薄膜EL素子であり、ここでは透明
電極11よりなる列(X)電極X1〜Xnと、アル
ミニウム電極12よりなる行(Y)電極Y1〜Yo
のみを示す。
Reference numeral 10 denotes the thin film EL element, in which column (X) electrodes X 1 to X n are made of transparent electrodes 11 and row (Y) electrodes Y 1 to Y o are made of aluminum electrodes 12.
only shown.

20はY電極へ正の維持電圧Vs1を電源ライン
Aより供給する回路で、維持信号T1によつて動
作するトランジスタ21,22よりなり、各電極
Y1〜Yoとは各電極に接続したダイオード23,
23,…を介して接続する。
Reference numeral 20 denotes a circuit that supplies a positive sustaining voltage V s1 to the Y electrode from the power supply line A, and is composed of transistors 21 and 22 operated by the sustaining signal T 1 .
Y 1 to Y o are the diodes 23 connected to each electrode,
23,...

30は維持駆動時に全てのX電極をアースに導
く回路で、維持信号T4によつて動作するトラン
ジスタ31よりなり、各電極X1〜Xnとダイオー
ド32,32…を介して接続される。
A circuit 30 connects all the X electrodes to ground during sustain drive, and is comprised of a transistor 31 operated by a sustain signal T4 , and is connected to each of the electrodes X1 to Xn via diodes 32, 32, . . .

40は全てのX電極へラインBより正の維持電
圧Vs1を供給する回路で、ラインCに加えられる
維持信号T3によつて動作するトランジスタ4
1,42よりなり、各電極X1〜Xnとはダイオー
ド43,43…を介して接続される。
40 is a circuit that supplies a positive sustaining voltage V s1 from line B to all X electrodes, and transistor 4 is operated by a sustaining signal T 3 applied to line C.
1 and 42, and are connected to each of the electrodes X 1 to X n via diodes 43, 43 .

50は全てのY電極Y1〜Yoをアースに導く回
路で、各電極はダイオード51,51,…を介し
て維持信号T2によつて動作するトランジスタ5
2に接続される。
50 is a circuit that connects all Y electrodes Y 1 to Y o to the ground, and each electrode is connected to a transistor 5 operated by a sustain signal T 2 via diodes 51, 51, . . .
Connected to 2.

60はY電極Y1〜Yoを選択するスイツチング
回路で、各電極に電圧Vw、Ve、Vrを供給する電
源63のラインD間に高耐圧P型スイツチングト
ランジスタ61,…とダイオード62,…が接続
され、上記トランジスタ61は垂直バイナリアド
レス信号によつて、動作するデコーダ(図示しな
い)により選択動作される。デコーダは高電圧ト
ランジスタにより直接トランジスタ61のベース
を駆動するように、或いはオプトアイソレータ等
によりバイナリアドレス信号のレベルシフトを行
い、5ボルト程度の出力によりトランジスタ61
のベースを駆動するように構成される。上記電源
ラインDには書込み電圧、消去電圧、読出し電圧
を薄膜EL素子の動作モードに合わせて選択的に
出力し、上記トランジスタ61の1個を通して選
ばれたY電極の一つに上記各種電圧を印加する。
Reference numeral 60 denotes a switching circuit for selecting Y electrodes Y 1 to Y o , which includes high voltage P-type switching transistors 61, . . . and diodes 62, . is connected, and the transistor 61 is selectively operated by a decoder (not shown) operated by a vertical binary address signal. The decoder drives the base of the transistor 61 directly with a high voltage transistor, or shifts the level of the binary address signal using an opto-isolator, etc., and drives the base of the transistor 61 with an output of about 5 volts.
configured to drive the base of the A write voltage, an erase voltage, and a read voltage are selectively output to the power supply line D according to the operation mode of the thin film EL element, and the various voltages are applied to one of the selected Y electrodes through one of the transistors 61. Apply.

70はX電極をアースに導びくスイツチング回
路で、各電極X1〜Xnに高耐圧N型トランジスタ
71,…が電極X1〜Xnとアース間に接続され
る。このトランジスタのベースには、書込み信号
WRITE、消去信号ERASEが水平パイナリアド
レス信号によつて動作するアナログスイツチ(図
示しない)を介して加えられる。このトランジス
タ71,…は書込み、消去、読出しの時の電極を
選択するスイツチング素子として作用する。
Reference numeral 70 denotes a switching circuit that leads the X electrode to the ground, and high voltage N-type transistors 71, . . . are connected to each of the electrodes X 1 to X n between the electrodes X 1 to X n and the ground. The base of this transistor has a write signal
WRITE and ERASE signals are applied via analog switches (not shown) operated by horizontal pinary address signals. These transistors 71, . . . act as switching elements for selecting electrodes during writing, erasing, and reading.

この駆動回路の動作を第2図に示すタイムチヤ
ートとともに説明する。
The operation of this drive circuit will be explained with reference to the time chart shown in FIG.

Γ維持駆動 第1のタイミングで信号T1が回路20に加え
られるとともに、信号T4が回路30に加えられ
る。従つて、維持電圧Vs1はトランジスタ22→
ダイオード23,…→Y電極→X電極→ダイオー
ド32,…トランジスタ31を介して加えられ
る。
Γ Maintain Drive At the first timing, the signal T 1 is applied to the circuit 20 and the signal T 4 is applied to the circuit 30. Therefore, the sustaining voltage V s1 is the transistor 22→
It is applied via the diode 23,...→Y electrode→X electrode→diode 32,...transistor 31.

第2のタイミングで信号T2が回路50に加え
られ、ダイオード44→ダイオード43,…→X
電極→Y電極→ダイオード51,…→トランジス
タ52の回路に残留している電荷を放電させる。
これは残留電荷による薄膜EL素子のブレークダ
ウンを防止するためである。
At the second timing, the signal T 2 is applied to the circuit 50, and the diode 44→diode 43,...→X
The electric charge remaining in the circuit of electrode→Y electrode→diode 51,...→transistor 52 is discharged.
This is to prevent breakdown of the thin film EL element due to residual charges.

第3のタイミングで信号T2が回路50に、ま
た信号T3が回路40に加えられる。従つて、維
持電圧Vs1はトランジスタ42→ダイオード4
3,…→X電極→Y電極→ダイオード51,…→
トランジスタ52を介して加えられる。このとき
の維持電圧は薄膜EL素子に対して前記と逆方向
に加えられることとなる。
At the third timing, the signal T 2 is applied to the circuit 50 and the signal T 3 is applied to the circuit 40. Therefore, the sustaining voltage V s1 is from transistor 42 to diode 4
3,...→X electrode→Y electrode→diode 51,...→
is applied via transistor 52. At this time, the sustaining voltage is applied to the thin film EL element in the opposite direction to that described above.

第4のタイミングで信号T4が回路30に加え
られ、ダイオード24→ダイオード23,…→Y
電極→X電極→ダイオード32,…トランジスタ
31→の回路で残留電荷を放電させる。
At the fourth timing, the signal T4 is applied to the circuit 30, and the diode 24→diode 23,...→Y
The residual charge is discharged in the circuit of electrode → X electrode → diode 32, . . . transistor 31 →.

以上の4つのタイミングを順次繰返して、維持
駆動を行う。
The above four timings are sequentially repeated to perform maintenance drive.

Γ書込み、消去、読出し駆動 薄膜EL素子の駆動モード、例えば書込み、消
去、読出し駆動に合わせて電源63は書込み電圧
Vw、消去電圧Ve、読出し電圧VrをラインDに出
力する。
ΓWrite, erase, read drive The power supply 63 is set to the write voltage according to the drive mode of the thin film EL element, for example, write, erase, read drive.
Vw, erase voltage Ve, and read voltage Vr are output to line D.

そして、書込み、消去、或いは読出しを希望す
る絵素に接続されたX電極及びY電極のトランジ
スタ61,71を電極選択信号により選択的にオ
ンする。電極選択信号は維持駆動の第4のタイミ
ング終了後で第1のタイミングの開始前に与えら
れる。このため書込み電圧Vw、消去電圧Ve或い
は読出し電圧Vrは、ラインD→トランジスタ6
1→ダイオード62→Y電極→X電極→トランジ
スタ71の回路で加えられる。このときの駆動は
点順次方式、又は線順次方式により行われる。
Then, the transistors 61 and 71 of the X electrode and Y electrode connected to the picture element desired to be written, erased, or read are selectively turned on by the electrode selection signal. The electrode selection signal is applied after the fourth timing of sustain driving ends and before the first timing starts. Therefore, the write voltage Vw, erase voltage Ve or read voltage Vr is changed from line D to transistor 6.
1→diode 62→Y electrode→X electrode→transistor 71. Driving at this time is performed by a point sequential method or a line sequential method.

第1図に示す駆動回路を簡略化しかつ薄膜EL
素子に対する全面消去回路を回路構成要素とした
駆動回路を第3図に示す。図中第1図と同一符号
は同一内容を表わしており説明を省略する。尚、
ダイオード24,44は維持電圧印加後薄膜EL
素子の両端を短絡して電荷を逃がす際にトランジ
スタ52,31とは逆の電流経路を形成するため
のものである。
The drive circuit shown in Figure 1 is simplified and a thin film EL
FIG. 3 shows a drive circuit whose circuit component is a full erase circuit for an element. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 1 represent the same contents, and the explanation will be omitted. still,
The diodes 24 and 44 are thin film EL after applying the sustaining voltage.
This is for forming a current path opposite to that of the transistors 52 and 31 when short-circuiting both ends of the element to release charge.

80は全面消去電圧発生部であり、維持電圧源
25より印加される電圧Vsを維持駆動時に維持
電圧Vs1として、全面消去時に全面消去電圧Veと
して供給する。その回路構成は維持電圧源25に
接続されるトランジスタ81とトランジスタ81
のベースと抵抗R2,R3を介して接続されるトラ
ンジスタ82より構成され、また抵抗R3及びR2
の共通接続点と維持電圧源25及びトランジスタ
81の共通接続点間にはコンデンサCと抵抗R1
が接続配置され、コンデンサCと抵抗R1の共通
接続点はトランジスタ81のベースと接続されて
いる。
Reference numeral 80 denotes a full-face erase voltage generation unit, which supplies the voltage Vs applied from the sustain voltage source 25 as a sustain voltage Vs 1 during sustain drive and as a full-face erase voltage Ve during full erase. Its circuit configuration consists of a transistor 81 connected to a sustaining voltage source 25;
The transistor 82 is connected to the base of the transistor 82 through resistors R 2 and R 3 , and the resistors R 3 and R 2
A capacitor C and a resistor R1 are connected between the common connection point of the sustain voltage source 25 and the transistor 81.
A common connection point between the capacitor C and the resistor R1 is connected to the base of the transistor 81.

通常の維持駆動時に於いてはトランジスタ82
はオフ、トランジスタ81はオンとなり、薄膜
EL素子に維持電圧Vs1を供給するが、全面消去時
にはトランジスタ82がオン、トランジスタ81
はオフとなり、従つてトランジスタ81のベース
電圧VBは、トランジスタ81のhfeが充分大きく
抵抗R1への影響を無視できるものとすると、 VB=Vs/R+R+R(R2+R3−R/R
+Re-〓〓〓) …(1) (但しRe=R(R+R)/R+R+R) となる。抵抗R2は全面消去のためにトランジス
タ82をオンした後通常の維持駆動を行なうため
にトランジスタ82をオフにした時、コンデンサ
Cの電荷を時定数CR2で放電させるための抵抗で
あり、R2≫R1,R3に設定されているため、上式
は次の如く簡単になる。
During normal sustain driving, the transistor 82
is off, transistor 81 is on, and the thin film
A sustaining voltage Vs 1 is supplied to the EL element, but when erasing the entire surface, transistor 82 is on and transistor 81 is on.
is off, and therefore the base voltage V B of the transistor 81 is V B =Vs/R 1 +R 2 +R 3 ( R 2 + R 3 -R 1 R 2 /R
1
+R 3 e - 〓〓〓) ...(1) (However, Re=R 2 (R 1 +R 3 )/R 1 +R 2 +R 3 ). The resistor R2 is a resistor for discharging the charge in the capacitor C with a time constant CR2 when the transistor 82 is turned on for full erase and then turned off for normal sustain driving. Since 2 ≫ R 1 and R 3 are set, the above equation can be simplified as follows.

B≒VS(1−R/R+Re-〓〓〓) …(2) (但しRe≒R1+R3) この場合に全面消去電圧発生部80より供給さ
れる電圧の時間的変化を第4図に示す。第4図に
於いてトランジスタ82はt1の時にオンとなる。
V B ≒V S (1-R 1 /R 1 +R 3 e - 〓〓〓) ...(2) (However, Re≒R 1 +R 3 ) In this case, the time of the voltage supplied from the full erase voltage generation section 80 Fig. 4 shows the changes in characteristics. In FIG. 4, transistor 82 is turned on at time t1 .

第3図に示す全面消去電圧発生回路を有する駆
動回路に於いては次に述べる如き欠点を有する。
The drive circuit having the full erase voltage generating circuit shown in FIG. 3 has the following drawbacks.

通常の維持駆動時には常にトランジスタ81が
オンになつているが薄膜EL素子への充電時に流
れる初期電流(6インチパネルで最大2A程度)
のため、hfeを大きく設定してもトランジスタ8
1のベースにはhfe≒1000に対して2mA程度の
電流が流れ、ベース電圧VBの値が(2)式で示す計
算値に合致せず、R1×2mAの電圧降下を生ず
る。抵抗R1,R3は維持電圧源25に対して過度
の負荷とならないように10kΩ程度に設定される
ため、抵抗R1の両端の電圧降下は20V程度とな
る。充電が進行するに従つてトランジスタ81の
コレクタ電流は減少するので最終的には薄膜EL
素子に所定の維持電圧が印加されるが立上りが遅
くなる。またトランジスタ81のベース電圧VB
が維持電圧VS1より低い薄膜EL素子への電圧印
加時の大きな初期電流が流れる時と全面消去電圧
発生時との各時点でトランジスタ81がエミツタ
フオロワ動作を行なうので、そのエミツタ電圧も
ほぼベース電圧VBに等しくなるため、トランジ
スタ81の消費電力もこのようなリニア動作時に
は余分に消費する。更に立上り特性の遅延化はこ
れを助長する。
During normal maintenance drive, transistor 81 is always on, but the initial current that flows when charging the thin film EL element (maximum 2A for a 6-inch panel)
Therefore, even if hfe is set large, transistor 8
A current of about 2 mA flows through the base of No. 1 for hfe≈1000, and the value of the base voltage V B does not match the calculated value shown by equation (2), resulting in a voltage drop of R 1 ×2 mA. Since the resistors R 1 and R 3 are set to about 10 kΩ so as not to place an excessive load on the sustaining voltage source 25, the voltage drop across the resistor R 1 is about 20 V. As charging progresses, the collector current of transistor 81 decreases, so eventually the thin film EL
A predetermined sustaining voltage is applied to the element, but the rise is slow. Also, the base voltage V B of the transistor 81
Since the transistor 81 performs an emitter follower operation at each point in time when a large initial current flows when a voltage is applied to the thin film EL element whose voltage is lower than the sustaining voltage V S1 and when a full erase voltage is generated, its emitter voltage is also approximately the base voltage V Since it is equal to B , the power consumption of the transistor 81 is also excessively consumed during such a linear operation. Furthermore, the delay in the rise characteristic promotes this problem.

本発明は技術的手段を駆使することにより上記
欠点を解消した新規有用な薄膜EL表示装置の全
面消去回路を提供することを目的とするものであ
る。
It is an object of the present invention to provide a new and useful full erase circuit for a thin film EL display device that eliminates the above-mentioned drawbacks by making full use of technical means.

以下、本発明を実施例に従つて図面を参照しな
がら詳説する。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail according to embodiments with reference to the drawings.

第5図は本発明の1実施例を説明する概略回路
構成図である。
FIG. 5 is a schematic circuit configuration diagram illustrating one embodiment of the present invention.

維持電圧源25、容量CSのコンデンサ84及
び容量CELの薄膜EL素子10の一端が並列に接
続され、各接続点間にはそれぞれスイツチング素
子91,92が介設されている。また他端は接地
され、更に薄膜EL素子10と並列にスイツチン
グ素子93が接続されている。スイツチング素子
91は第3図のトランジスタ81に、スイツチン
グ素子92は同じくトランジスタ22及び42
に、スイツチング素子93は同じくトランジスタ
52及び31に、それぞれ対応する。
A sustaining voltage source 25, a capacitor 84 having a capacitance C S , and one end of a thin film EL element 10 having a capacitance C EL are connected in parallel, and switching elements 91 and 92 are interposed between the respective connection points. The other end is grounded, and a switching element 93 is further connected in parallel with the thin film EL element 10. Switching element 91 corresponds to transistor 81 in FIG. 3, and switching element 92 corresponds to transistors 22 and 42.
Similarly, switching element 93 corresponds to transistors 52 and 31, respectively.

以下、本実施例の動作説明をスイツチング素子
92により薄膜EL素子10への充電動作及びス
イツチング素子93による薄膜EL素子10から
の放電動作に基いて詳説する。第6図は第5図の
動作説明に供するタイミングチヤート図である。
図中、T92,T93,T91はそれぞれスイツチング素
子92,93,91のオンタイミングを示す。通
常の維持駆動時にはスイツチング素子91はオン
になつており、維持電圧源25よりの維持電圧V
S1がスイツチング素子92,93の動作を介して
薄膜EL素子10に加印される。電圧印加時には
コンデンサ84が寄与し、CS≫CELに設定され
ているためスイツチング素子92のスイツチング
時に過渡大電流を流す時、スイツチング素子91
に負担をかけることなくコンデンサ84からの電
荷が薄膜EL素子10に供給され、従つて第3図
の駆動回路で問題となつたトランジスタ81の余
分な電力消費がない。薄膜EL素子10に移動し
た電荷相当分はスイツチング素子92がオフの期
間中スイツチング素子91により平均した小電流
で充電すればよく、1回の薄膜EL素子10への
電荷供給に於いてコンデンサ84の電圧はほとん
ど維持電圧源25の維持電圧VS1と等しくなり、
完全飽和状態での動作が可能であり、リニア動作
による余分の電力消費が解消される。全面消去の
期間、スイツチング素子91をオフとすれば、維
持電圧源25からコンデンサ84への電荷補充が
遮断されるため、コンデンサ84の薄膜EL素子
10への印加電圧はスイツチング素子92のオン
前でスイツチング素子93のオフ後の電圧をVO
とするとスイツチング素子92のオン毎にQS
・V/C+CELの電荷がスイツチング素子
92を介して 薄膜EL素子10へ繰り返して充電され、薄膜EL
素子10へ充電された電荷はスイツチング素子9
3のオン(この期間スイツチング素子92はオ
フ)毎に繰り返し形成される放電回路を介して放
散されるため、コンデンサ84の電圧は元のVS1
からn回のスイツチング素子92,93開閉後に
は VCS=(C/C+CELn・VS となる。
Hereinafter, the operation of this embodiment will be explained in detail based on the charging operation of the thin film EL element 10 by the switching element 92 and the discharging operation from the thin film EL element 10 by the switching element 93. FIG. 6 is a timing chart for explaining the operation of FIG. 5.
In the figure, T 92 , T 93 , and T 91 indicate on-timings of switching elements 92, 93, and 91, respectively. During normal sustain driving, the switching element 91 is turned on, and the sustain voltage V from the sustain voltage source 25 is applied.
S1 is applied to the thin film EL element 10 through the operation of switching elements 92 and 93. When a voltage is applied, the capacitor 84 contributes, and since it is set as C S >>C EL , when a large transient current flows during switching of the switching element 92, the switching element 91
The charge from the capacitor 84 is supplied to the thin film EL element 10 without placing a burden on the capacitor 84, and therefore there is no unnecessary power consumption of the transistor 81, which was a problem in the drive circuit of FIG. The charge equivalent to the charge transferred to the thin film EL element 10 can be charged with a small average current by the switching element 91 while the switching element 92 is off. The voltage becomes almost equal to the sustaining voltage V S1 of the sustaining voltage source 25,
Fully saturated operation is possible, eliminating extra power consumption due to linear operation. During the full erase period, if the switching element 91 is turned off, charge replenishment from the sustaining voltage source 25 to the capacitor 84 is cut off, so the voltage applied to the thin film EL element 10 of the capacitor 84 is changed before the switching element 92 is turned on. The voltage after the switching element 93 is turned off is V O
Then, each time the switching element 92 is turned on, Q S =
The charge of C S 2 ·V O /C S +C EL is repeatedly charged to the thin film EL element 10 via the switching element 92, and the thin film EL
The electric charge charged to the element 10 is transferred to the switching element 9.
The voltage of the capacitor 84 returns to the original V S1 because it is dissipated through a discharge circuit that is repeatedly formed every time 3 is turned on (the switching element 92 is turned off during this period).
After the switching elements 92 and 93 are opened and closed n times from , V CS =(C S /C S +C EL ) n ·V S.

例えばCS=10μF、CEL=0.3μFとすれば
/C+CEL=0.97となる。全面消去のためには
CS の値を〜0.8VS1程度まで徐々に低減すればよい
が、n=8でVCS≒0.78VS1となるのでこの期間
スイツチング素子91をオフに設定すれば全面消
去の目的は達成される。
For example, if C S =10 μF and C EL =0.3 μF, C S /C S +C EL =0.97. In order to erase the entire area, the value of V CS should be gradually reduced to about 0.8V S1 , but since when n = 8, V CS ≒ 0.78V S1 , if the switching element 91 is turned off during this period, the entire area will be erased. The purpose of erasure is achieved.

所期の電圧発生後再びスイツチング素子91を
オンにすればコンデンサ84は元の電圧VS1に充
電され、以後通常の維持電圧を保持する。スイツ
チング素子91は単なるスイツチ動作を実行すれ
ば良く、この部分の具体的回路構成図を第7図に
示す。スイツチング素子91の消費電力は第3図
の回路に比較して非常に少なくなり、トランジス
タ81に比べて小容量のトランジスタ、小面積の
放熱板で実施し得る。
When the switching element 91 is turned on again after the desired voltage is generated, the capacitor 84 is charged to the original voltage V S1 and thereafter maintains the normal maintenance voltage. The switching element 91 may simply perform a switching operation, and a specific circuit configuration diagram of this portion is shown in FIG. The power consumption of the switching element 91 is much lower than that of the circuit shown in FIG. 3, and it can be implemented using a transistor with a smaller capacity and a heat sink with a smaller area than the transistor 81.

尚、常時スイツチング素子91をオンとする代
りに第6図に破線で示す如くスイツチング素子9
2オフの適当な時点でスイツチング素子91をオ
ンにしてこの期間だけでコンデンサ84を充電し
ても良い。この場合にはスイツチング素子として
サイリスタ、フオトサイリスタ等を用いて簡単な
第8図A,Bに示す如き回路構成とすることも可
能である。この回路構成に於いてはトリガによる
サイリスタオン後にコンデンサ84への充電がほ
ぼ完了し、流れる電流が保持電流以下になれば自
動的にオフになる。サイリスタは大電流時でもオ
ン電圧が低いので素子自体の消費電力を少なくで
きる。
Incidentally, instead of always turning on the switching element 91, the switching element 9 is turned on as shown by the broken line in FIG.
The switching element 91 may be turned on at an appropriate time during the second off period, and the capacitor 84 may be charged only during this period. In this case, it is also possible to use a thyristor, photothyristor, etc. as the switching element to form a simple circuit configuration as shown in FIGS. 8A and 8B. In this circuit configuration, charging of the capacitor 84 is almost completed after the thyristor is turned on by the trigger, and when the flowing current becomes less than the holding current, the thyristor is automatically turned off. Thyristors have a low on-voltage even at high currents, so the power consumption of the element itself can be reduced.

以上詳説した如く本発明の全面消去回路方式に
よれば、薄膜EL素子の応答速度を遅延させるこ
となく全面消去動作用のスイツチング素子の消費
電力を少なく設定することができ、簡単な回路構
成で非常に実用的効果の顕著な技術となる。
As explained in detail above, according to the full erase circuit system of the present invention, the power consumption of the switching element for the full erase operation can be set to be low without delaying the response speed of the thin film EL element, and the circuit configuration is extremely simple. It becomes a technology with remarkable practical effects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は薄膜EL素子の基本的動作を制御する
駆動回路図である。第2図は第1図の動作説明に
供するタイムチヤート図である。第3図は従来の
薄膜EL素子の全面消去電圧発生部を有する駆動
回路図である。第4図は第3図の駆動回路の動作
説明に供する説明図である。第5図は本発明の1
実施例を説明する概略回路構成図である。第6図
は第5図の動作説明に供するタイムチヤート図で
ある。第7図は本発明のスイツチング素子の1実
施例を用いた全面消去回路部の回路構成図であ
る。第8図A,Bはサイリスタを用いた本発明の
1実施例を示す回路構成図である。 10……薄膜EL素子、25……維持電圧源、
84……コンデンサ、91,92,93……スイ
ツチング素子。
FIG. 1 is a diagram of a drive circuit that controls the basic operation of a thin film EL element. FIG. 2 is a time chart for explaining the operation of FIG. 1. FIG. 3 is a driving circuit diagram of a conventional thin film EL element having an entire erase voltage generating section. FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining the operation of the drive circuit shown in FIG. 3. Figure 5 shows part 1 of the present invention.
FIG. 2 is a schematic circuit configuration diagram illustrating an example. FIG. 6 is a time chart for explaining the operation of FIG. 5. FIG. 7 is a circuit diagram of a full erase circuit section using one embodiment of the switching element of the present invention. FIGS. 8A and 8B are circuit configuration diagrams showing one embodiment of the present invention using a thyristor. 10... thin film EL element, 25... maintenance voltage source,
84... Capacitor, 91, 92, 93... Switching element.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 印加電圧に応答して発光する薄膜発光層を互
いに直交するマトリツクス電極間に介在させてな
りかつ印加電圧と発光輝度の間にヒステリシス特
性を呈する薄膜EL素子に書込みされた前記マト
リツクス電極間の電荷を前記ヒステリシス特性に
基いて一斉に消去する薄膜EL素子の全面消去駆
動方法において、前記薄膜EL素子に維持電圧を
印加する維持電圧源にスイツチング素子を介して
前記マトリツクス電極とコンデンサを並列接続
し、全面消去期間で前記スイツチング素子をオフ
とし、前記コンデンサの蓄積電荷を前記マトリツ
クス電極間の全容量へ反復して充電するとともに
該容量へ充電された電荷を放電回路の反復開閉動
作に応じて放散せしめることを特徴とする薄膜
EL素子の全面消去駆動方法。
1. A charge written between the matrix electrodes in a thin film EL element in which a thin film emitting layer that emits light in response to an applied voltage is interposed between mutually orthogonal matrix electrodes, and exhibits hysteresis characteristics between the applied voltage and the luminance. In the method for driving a full erase operation of a thin film EL element in which all the data are erased all at once based on the hysteresis characteristic, the matrix electrode and the capacitor are connected in parallel to a sustain voltage source that applies a sustain voltage to the thin film EL element via a switching element; The switching element is turned off during a full erasing period, and the accumulated charge of the capacitor is repeatedly charged to the entire capacitance between the matrix electrodes, and the charge charged to the capacitance is dissipated in accordance with the repeated opening and closing operation of the discharge circuit. A thin film characterized by
Full erase drive method for EL elements.
JP16256878A 1978-12-28 1978-12-28 Fulllface erasing circuit system for thinnfilm electroluminescence element Granted JPS5589890A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16256878A JPS5589890A (en) 1978-12-28 1978-12-28 Fulllface erasing circuit system for thinnfilm electroluminescence element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16256878A JPS5589890A (en) 1978-12-28 1978-12-28 Fulllface erasing circuit system for thinnfilm electroluminescence element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5589890A JPS5589890A (en) 1980-07-07
JPS6249633B2 true JPS6249633B2 (en) 1987-10-20

Family

ID=15757053

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16256878A Granted JPS5589890A (en) 1978-12-28 1978-12-28 Fulllface erasing circuit system for thinnfilm electroluminescence element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5589890A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5589890A (en) 1980-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6545651B2 (en) Driving circuit for organic thin film EL elements
EP0595792B1 (en) Method and apparatus for driving capacitive display device
US3715607A (en) Electroluminescent circuit or the like
US4210848A (en) Thin-film EL display panel with light-activated write and erase means
KR20010113635A (en) Constant current apparatus, display apparatus and method of driving same
US4225807A (en) Readout scheme of a matrix type thin-film EL display panel
JPS6249633B2 (en)
JPS638479B2 (en)
JP2619027B2 (en) Display device driving method and device
JPS599067B2 (en) Elimination circuit for thin film electroluminescent panels
JP3646916B2 (en) Multicolor light emitting display panel drive device
JP2618994B2 (en) Display device driving method and device
JPS62510B2 (en)
KR100370032B1 (en) driving contol circuit in light device and method of the same
JP2000122609A (en) Capacitive light emitting element display device and driving method therefor
JPS62515B2 (en)
JPS599068B2 (en) How to erase thin film electroluminescent panels
JPS62516B2 (en)
JPS623432B2 (en)
JPS6226476B2 (en)
JPS62511B2 (en)
JPS624717B2 (en)
JPS6015277B2 (en) Drive circuit for thin film EL element
JPS6010629B2 (en) Driving method of thin film EL element
JPS609279B2 (en) Optical driving method for thin film EL elements