JPS609279B2 - Optical driving method for thin film EL elements - Google Patents

Optical driving method for thin film EL elements

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JPS609279B2
JPS609279B2 JP52087767A JP8776777A JPS609279B2 JP S609279 B2 JPS609279 B2 JP S609279B2 JP 52087767 A JP52087767 A JP 52087767A JP 8776777 A JP8776777 A JP 8776777A JP S609279 B2 JPS609279 B2 JP S609279B2
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thin film
light
optical
voltage
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憲三 稲崎
雅博 伊勢
勝行 町野
忠二 鈴木
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、発光輝度の対印加電圧特性に於いてヒステ
リシス現象を示す三層構造薄膜EL素子の駆動方法に関
し、特に光による書込みと消去に特徴を有するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for driving a three-layer thin film EL element that exhibits a hysteresis phenomenon in the characteristic of luminance versus applied voltage, and is particularly characterized in writing and erasing by light.

発光中心を形成する活性物質としてMn等を添加したZ
nS:Mn薄膜を、Y203特の絶縁膜でサンドイッチ
状にはさんだ、いわゆる三層構造薄膜EL素子に於いて
、発光輝度の対印加電圧特性にヒステリシス現象のある
ことが報告されている。
Z added with Mn etc. as an active substance forming a luminescent center
It has been reported that in a so-called three-layer structure thin film EL device in which an nS:Mn thin film is sandwiched between Y203 insulating films, there is a hysteresis phenomenon in the emission luminance vs. applied voltage characteristic.

このヒステリシス現象を利用すると、上記EL素子を一
種のメモリー機能素子として動作させることができ、素
子の発光輝度の大小として任意に情報を書込み、メモリ
ーさせ消去することができる。本発明は、この様な三層
構造薄膜EL素子の駆動方法に関するものであり、、特
に光による書込みと消去方式に特徴を有している。以下
に、上記ヒステリシス現象の説明と共に、すでに提案さ
れている駆動方法を述べ、後述する本発明方法の理解を
容易にする。
By utilizing this hysteresis phenomenon, the EL element can be operated as a type of memory function element, and information can be arbitrarily written, memorized, and erased based on the magnitude of the luminance of the element. The present invention relates to a method for driving such a three-layer thin film EL element, and is particularly characterized by a writing and erasing method using light. Below, along with an explanation of the hysteresis phenomenon, already proposed driving methods will be described to facilitate understanding of the method of the present invention, which will be described later.

第1図は三層構造のZnS:Mn薄膜発光素子の構成を
示す断面図であり、1は発光中心を形成する活性物質と
してMn等を添加したZnS薄膜層、2,3はY203
等の透明な絶縁薄膜、4は透明電極、5はAI等の背面
電極、6はガラス基板を示す。
Figure 1 is a cross-sectional view showing the structure of a ZnS:Mn thin film light emitting device with a three-layer structure, in which 1 is a ZnS thin film layer doped with Mn or the like as an active substance forming a luminescent center, 2 and 3 are Y203
4 is a transparent electrode, 5 is a back electrode such as AI, and 6 is a glass substrate.

この図から明らかな様に、この発光素子はZnS薄膜層
1を透明絶縁薄膜2,3でサンドイッチ状にはさんだ横
であり、ZnS薄膜層1または透明絶縁薄膜2,3の材
質あるいは製造条件を適当に設定する事に依って、この
素子に発光輝度のヒステリシス現象を生じさせる事がで
きる。第2図は、上許ZnS薄膜発光素子の、対印加電
圧発光輝度特性を示す図であって、横軸は印加交流露圧
パルスの振幅(波高値)Vを、縦麹は発光輝度Bをあら
わしている。
As is clear from this figure, this light-emitting element has a ZnS thin film layer 1 sandwiched between transparent insulating thin films 2 and 3, and the material or manufacturing conditions of the ZnS thin film layer 1 or transparent insulating thin films 2 and 3 are different from each other. By making appropriate settings, it is possible to cause a hysteresis phenomenon in the luminance of this element. FIG. 2 is a diagram showing the luminance versus applied voltage characteristics of the above ZnS thin film light emitting device, where the horizontal axis represents the amplitude (peak value) V of the applied AC exposure pressure pulse, and the vertical axis represents the luminance B. It is showing.

この第2図から明らかな様に、印加パルスの電圧を上昇
して行く時の素子の発光輝度(曲線Aで示す)と、電圧
を降下して行く時の素子の発光輝度(曲線で示す)との
間には、顕著なヒステリシス現象が存在する。従って今
、電圧上昇時の最小発光輝度Beと電圧下降時の最大発
光輝度Bwとの差が充分に大きい点の電圧値Vs(維持
電圧)を選び、これを振幅とする交流パルス芥蛇sで上
記素子を駆動する時素子はBwの範囲内の発光輝度をこ
のパルス列Psに依って維持する。即ち、交流パルス列
Psの振幅を瞬間的に変調して、高い書込み電圧ywを
一瞬素子に印加すると、素子は瞬間輝度Vw′で発光し
た後、次の交流維持パルスにて書込み輝度Bwの点で落
ちつき、以後の交流維持パルスの印加によってこの輝度
Bwを維持する。一方、このようにして書込み状態を維
持している交流維持パルス列Psの振幅をさらに変調し
て、充分に低い消去電圧Veを一瞬素子に印加すると素
子は瞬間消去輝度Be′の点を通過した後「次の交流維
持パルス列肥sにて消去輝度Beに落ちつきこの輝度段
を維持して、消去及び消去状態のメモリーを行う。
As is clear from Fig. 2, the luminance of the device as the voltage of the applied pulse increases (shown by curve A) and the luminance of the device as the voltage decreases (shown as the curve) There is a significant hysteresis phenomenon between. Therefore, we will now select a voltage value Vs (maintenance voltage) at a point where the difference between the minimum luminance Be when the voltage increases and the maximum luminance Bw when the voltage decreases is sufficiently large, and use the AC pulse Kutagabi s with this as the amplitude. When driving the element, the element maintains the luminance within the range of Bw depending on the pulse train Ps. That is, when the amplitude of the AC pulse train Ps is instantaneously modulated and a high write voltage yw is momentarily applied to the element, the element emits light at the instantaneous brightness Vw', and then emit light at the write brightness Bw with the next AC sustaining pulse. After settling down, this brightness Bw is maintained by applying the AC sustaining pulse thereafter. On the other hand, if the amplitude of the alternating current sustaining pulse train Ps that maintains the write state in this way is further modulated and a sufficiently low erase voltage Ve is momentarily applied to the element, the element will pass through the instantaneous erase luminance Be' point and then ``At the next AC sustaining pulse train s, the erase brightness Be is reached and this brightness step is maintained to perform erasure and memory of the erased state.

また上記書込み、消去にあたって、書込みあるいは消去
電圧Vw、Veを任意に選択すると、輝度Bw,茂の間
での中間調の輝度が得られる。以上に述べたのが、すで
に提案されているZnS薄膜EL素子の駆動方法であっ
て、この様にする事に依り素子に一種のメモリー機能を
持たせることができる。
Further, in the above writing and erasing, if the writing or erasing voltages Vw and Ve are arbitrarily selected, an intermediate brightness between the brightness Bw and the brightness can be obtained. What has been described above is a method for driving a ZnS thin film EL element that has already been proposed, and by doing so, the element can be provided with a kind of memory function.

またかかるZnS薄膜発光素子は外部からの照射光に対
して敏感である事に基いてこの発光素子の光駆動方法が
公知である。
Furthermore, since such a ZnS thin film light emitting element is sensitive to external irradiation light, a method for optically driving this light emitting element is known.

第3図は光駆動方法にかかるタイムチャートであって、
図イは素子に印加する印加電圧波形を、図口は発光輝度
波形を示す。
FIG. 3 is a time chart related to the optical driving method,
Figure A shows the applied voltage waveform applied to the element, and the figure in the figure shows the luminance luminance waveform.

尚両図にて横軸の時間tは互いに対応して示されいる。
以下このタイムチャートに添って光駆動方法を述べると
、図に示す如く上記維持電圧Vsを振幅(波高値)とす
る、パルスの休止期間を持った交流パルス打肥sを素子
に印加する時、期間T,以前には電圧又は光による書込
みが行われておらず、交流維持パルス茨企sによって消
去状態の輝度Beを維持している。
In both figures, the time t on the horizontal axis is shown in correspondence with each other.
The optical driving method will be described below with reference to this time chart. As shown in the figure, when an AC pulse s with an amplitude (peak value) of the sustaining voltage Vs and a rest period of the pulse is applied to the element, Before the period T, writing by voltage or light was not performed, and the brightness Be in the erased state was maintained by the alternating current sustaining pulse Ibaraki s.

期情町2において交流維持パルス刃肥sのパルス期間に
同期して外部よりこの素子に光を照射すると、入射光エ
ネルギーに対応して発光輝度Bは上昇して充分な光照射
の後には完全な書込状態、即ち輝度Bwの状態に落付く
。光照射の停止後もこの書込状態は維持パルス刃肥sの
印加期間中絶持される(期間L)。次に期間T4に示す
如く、上言己パルス列Psの休止期間に同期して外部よ
りこの素子に光を照射すると、入射光エネルギーに対応
して発光輝度Bは低下し、充分な光照射の後には完全な
消去状態則ち輝度Beの状態に落ち付く。光照射の停止
後もこの消去状態は、維持パルス刃肥sの印加期間中絶
持され(期間T5)、従ってパルス列Psの休止期間に
同期して光照射を行うという上記操作は、消去のための
操作とみなし得る。また期間m2及びT4に於けるこの
光書込及び光消去の時点で、書込み及び消去効果は照射
光の波長^と入射光量、即ち光エネルギーの大きさ‘こ
対応しており、従って光書込み光消去に依る輝度はこの
入射光エネルギーを適当に選ぶ事に依って輝度Bwから
輝度Beまでの任意の値を取ることができ、中間調の書
込み及び消去が可能である。尚この書込み及び消去過程
に於いて、素子への光照射はパルスのーパルス期間及び
一休止期間のみならず数個のパルス期間及び休止期間に
亘つて行ってもよい。以上に述べた光書込みはZnS層
の光分極作用により光消去はZnS層の光緩和作用によ
りなされると理解されている。
When this element is irradiated with light from the outside in synchronization with the pulse period of the alternating current sustaining pulse blade s at Kijo-cho 2, the luminance brightness B rises in response to the incident light energy, and becomes complete after sufficient light irradiation. The brightness reaches Bw. Even after the light irradiation is stopped, this written state is maintained for the application period of the maintenance pulse blade s (period L). Next, as shown in period T4, when this element is irradiated with light from the outside in synchronization with the rest period of the above-mentioned pulse train Ps, the luminance brightness B decreases in accordance with the incident light energy, and after sufficient light irradiation, settles into a completely erased state, that is, a state with luminance Be. Even after the light irradiation is stopped, this erased state is maintained during the application period of the maintenance pulse blade fertilizer s (period T5). Therefore, the above-mentioned operation of performing light irradiation in synchronization with the rest period of the pulse train Ps is effective for erasing. It can be considered manipulation. Furthermore, at the time of optical writing and optical erasing in periods m2 and T4, the writing and erasing effects correspond to the wavelength of the irradiated light and the amount of incident light, that is, the magnitude of the optical energy. The brightness caused by erasing can take any value from brightness Bw to brightness Be by appropriately selecting the incident light energy, making it possible to write and erase halftones. In this writing and erasing process, the element may be irradiated with light not only during one pulse period and one pause period, but also over several pulse periods and a pause period. It is understood that the optical writing described above is performed by the optical polarization effect of the ZnS layer, and the optical erasing is performed by the optical relaxation effect of the ZnS layer.

ところで薄膜EL素子の照射光波長に対する光感度の特
性は第4図に示す通りであって、3500Aに最大感度
のピークを持つ。
Incidentally, the characteristics of the photosensitivity of the thin film EL element with respect to the wavelength of the irradiated light are as shown in FIG. 4, with the maximum sensitivity peaking at 3500A.

従って光源としては3500Aの波長を多く含むものが
最適であるこが分る。この光源としては例えば光源とし
て駆動の簡単さ、取り扱いの手軽さよりタングステンラ
ンプがあり、フラッシュランプの一例としてキセノンラ
ンプがある。それらの発光波長特性を第5図に示す。こ
の図より3500△を比較して多く含むキセノンランプ
の方がタングステンランプに比べてEL素子の光書込み
、消去には適していることがわかる。さらに、第3図の
ようにタイミングをとって発光させるには、タングステ
ンランプのように応答の遅いものでは不可能である。な
ぜならEL素子の維持駆動周波数は100日2以上を必
要とするので、1仇hsec以内のタングステンランプ
のオンーオフは非常に困難だからである。それに対し、
キセノンフラッシュランプは、電荷充電用コンデンサの
容量にもよるが、数msec以下の発光が可能であり、
十分第3図に示すような維持交流パルスとタイミングを
とつて発光させることは可能である。さらに、強度的に
もタングステンランプよりキセノンフラッシュランプの
方が非常に強くてEL素子への光書込み、消去に適して
いる。すなわち、タングステンランプのような応答の遅
さに関しては、例えば光書込み時光源位置を移動させて
線図等を描く場合、応答の遅さにより誤った位置に書込
まれる(又は必要な位置に書込まれない等の)恐れが生
じる。また、光消去時は、パルス休止期間からパルス期
間にまたがって光照射されれば、光書込みと光消去の両
方の操作が行なわれ、かつ光書込みが優先されるので、
結果的に、書込み操作が行なわれることとなる。これを
防ぐため、後者の光消去時は、特に、パルス休止期間が
長くなるようにデューティを変化させることも提案され
る。しかし、このような交流パルス列の切換えは、回路
構成を複雑にする等の欠点がある。先に説明したフラッ
シュランプは上述のような問題点を解消できるものであ
り、光書込み及び光消去に応じてフラッシュランプの点
灯時期を制御するだけで、一定の交流パルス列の印加で
、光書込み及び光消去の両方が実行でき、デューティの
変更などの必要もない。
Therefore, it can be seen that the optimum light source is one that includes a large amount of wavelength of 3500A. As this light source, for example, a tungsten lamp is used because it is easy to drive and easy to handle, and a xenon lamp is an example of a flash lamp. Their emission wavelength characteristics are shown in FIG. From this figure, it can be seen that the xenon lamp containing more 3500Δ is more suitable for optical writing and erasing of EL elements than the tungsten lamp. Furthermore, it is impossible to emit light at the right timing as shown in FIG. 3 with a tungsten lamp that has a slow response. This is because the sustain driving frequency of the EL element requires 100 days or more, so it is very difficult to turn on and off the tungsten lamp within 1 hsec. For it,
Xenon flash lamps can emit light for several milliseconds or less, depending on the capacity of the charging capacitor.
It is possible to emit light in sufficient timing with the sustaining AC pulse as shown in FIG. Furthermore, in terms of intensity, a xenon flash lamp is much stronger than a tungsten lamp and is suitable for optical writing and erasing of EL elements. In other words, regarding the slow response of tungsten lamps, for example, when moving the light source position during optical writing to draw a line diagram, etc., the slow response causes writing to be made in the wrong position (or written in the required position). (e.g., not being allowed to enter). In addition, during optical erasing, if light is irradiated from the pulse rest period to the pulse period, both optical writing and optical erasing operations are performed, and optical writing takes priority.
As a result, a write operation will be performed. In order to prevent this, it is also proposed to change the duty so that the pulse pause period becomes particularly long during the latter optical erasing. However, such switching of the AC pulse train has drawbacks such as complicating the circuit configuration. The flash lamp described above can solve the above-mentioned problems, and by simply controlling the lighting timing of the flash lamp according to optical writing and optical erasing, optical writing and erasing can be performed by applying a constant AC pulse train. Both optical erasing can be performed, and there is no need to change the duty.

第6図にフラッシュランプを用いたEL素子の光書込み
、光消去用駆動回路の1例を示す。
FIG. 6 shows an example of a drive circuit for optical writing and optical erasing of an EL element using a flash lamp.

第6図は全体回路及び維持パルス発生回路で第7図はフ
ラッシュランプ点灯回路である。そのタイムチャートを
第8図に示す。第6図ではVsはEL素子に印加する維
持電圧電源、ELは上記薄膜EL素子、T,〜T4はス
イッチングトランジスタ、D,、○2はダイオードであ
る。第7図のVIはフラッシュランプを点灯させるため
の電源である。Cはフラッシュランプ点灯用のコンデン
サ、Mは高電圧トリガ発生用の相互ィンダクタンス、T
は制御回路よりコンデンサCの充電タイミングをとり、
Cを充電するためのスイッチトランジスタである。この
Tはランプの発光間隔が長ければ、抵抗でよいが、数1
0HZ以上の発光を行なわせるとき、急速に充電する必
要があるため、トランジスタスイッチにしなければなら
ない。制御回路では、EL両端に印加する維持パルスタ
イミングを与えると同時に、フラッシュランプ点灯タイ
ミングトリガ、フラッシュランプ用コンデンサ充電パル
スを与える。その様子を第8図により、説明する。信号
S,,S2,S3,S4を第8図に示すタイミングで与
えると、EL素子の両端には同図に示す電圧が印加され
、メモリ付EL素子の維持パルス印加状態となる。第6
図に示すダイオーデドD,,D2はELの両端の電位を
、トランジスタT2,T4がオンのとき完全にGNDに
固定するためにはたらいている。たとえば、信号S,.
S4が“1”でEL素子Vsになる電圧が印加されたの
ち、信号S,を“0”にしてトランジスタT,がオフに
なったとき、まだEL素子には電荷が残っており(EL
素子は一種のコンデンサと考えてよい)、次に信号S2
が“1”になってトランジスタT2がオンになったとき
、EL素子のトランジスタT,(又はT2)側の電極が
GNDにつけられるが、電荷がたまっているためEL素
子のトランジスタT3(又はT4)側の電極の電位はG
ND以下になろうとする。そのときダイオードD2を通
して電流が粒れ、EL素子のトランジスタL(又はT4
)側の電位はGND以下にならずGNDに固定される。
ダイオードD,は逆の電極が同様にGND以下になるの
を防ぐ。ダイオードD,,D2がなくなっても抵抗R,
(又はR2)、トランジスタのベースコレクタを介して
放電ループが形成されるが抵抗R,(又はR2)を介し
ていることにより、ダイオードのみでGNDにつながる
場合よりもEL素子両端の固定状態がよくない。光書き
込みを行なうときは、信号S,又はS3が“1”になる
タイミングに合わせて、トリガを与えると維持パルス印
加時にランプが点灯し光書込みが行なわれる。このとき
、印加維持パルス幅に比べてランプを発光幅の方が広い
場合があり得るが、EL素子のによる書き込みと消去を
比べた場合、書き込みの方が非常に敏感に行なわれるの
で、同じ時間以下の消去時間があってもほとんど書き込
みの方が優先するという特徴があるため、ランプの発光
がGND期間にかかっても、ほとんど消去効果はない。
S,もS3も“0”であるとき、すなわちS2,S4が
同時に“1”であるときにトリガを与えると、EL素子
両端が0電圧のときに光照射が行なわれ、分極が緩和さ
れて消去が行なわれる。充電パルスはトリガパルスのす
ぐあとに、トリガパルスと重ならないように与えてやる
。発光の繰り返し周波数の上限は、フラッシュランプの
定格と、この充電スイッチT(第7図)の充電スピード
‘こよる。実施例では、EL駆動周波数500HZ,V
s=200VVL=250Vc=lOAFMの巻数比8
0:1、フラッシュランプ発光回数40HZ、充電パル
ス中3仇hsであった。以上のように、第6図の回路で
EL素子を駆動しておき、第7図の回路でフラッシュラ
ンプを点灯させEL素子に光を照射することにより、E
L素子への光書込み、光消去が自由に行なえる。
FIG. 6 shows the overall circuit and sustaining pulse generation circuit, and FIG. 7 shows the flash lamp lighting circuit. The time chart is shown in FIG. In FIG. 6, Vs is a sustaining voltage power supply applied to the EL element, EL is the thin film EL element, T, - T4 are switching transistors, D, . . . 2 are diodes. VI in FIG. 7 is a power source for lighting the flash lamp. C is a capacitor for flash lamp lighting, M is mutual inductance for generating a high voltage trigger, T
takes the charging timing of capacitor C from the control circuit,
This is a switch transistor for charging C. This T can be a resistor if the lamp has a long light emission interval, but it is expressed by the following formula:
When emitting light at 0Hz or higher, rapid charging is required, so a transistor switch must be used. The control circuit provides a sustain pulse timing to be applied to both ends of the EL, and at the same time provides a flash lamp lighting timing trigger and a flash lamp capacitor charging pulse. The situation will be explained with reference to FIG. When the signals S, , S2, S3, and S4 are applied at the timing shown in FIG. 8, the voltage shown in the figure is applied to both ends of the EL element, and the EL element with memory enters the sustain pulse application state. 6th
The diodes D, D2 shown in the figure function to completely fix the potential across EL to GND when the transistors T2 and T4 are on. For example, signals S, .
After S4 is "1" and a voltage is applied to the EL element Vs, when the signal S, is set to "0" and the transistor T, is turned off, there is still charge left in the EL element (EL
element can be thought of as a kind of capacitor), then the signal S2
When becomes "1" and the transistor T2 is turned on, the electrode on the side of the transistor T, (or T2) of the EL element is connected to GND, but due to the accumulated charge, the electrode of the transistor T3 (or T4) of the EL element is connected to GND. The potential of the side electrode is G
Trying to be below ND. At that time, the current flows through the diode D2, and the transistor L (or T4) of the EL element flows through the diode D2.
) side is fixed at GND without becoming lower than GND.
Diode D similarly prevents the opposite electrode from going below GND. Even if the diodes D,, D2 are removed, the resistance R,
(or R2), a discharge loop is formed through the base collector of the transistor, but by passing through the resistor R, (or R2), the fixed state of both ends of the EL element is better than when connected to GND with only a diode. do not have. When performing optical writing, a trigger is applied in synchronization with the timing at which the signal S or S3 becomes "1", the lamp is turned on when a sustain pulse is applied, and optical writing is performed. At this time, the lamp emission width may be wider than the applied sustaining pulse width, but when comparing writing and erasing using an EL element, writing is performed more sensitively, so Even if there is an erasing time as shown below, writing is almost always given priority, so even if the lamp emit light during the GND period, there is almost no erasing effect.
If a trigger is applied when both S and S3 are "0", that is, when S2 and S4 are simultaneously "1", light irradiation is performed when the voltage across both ends of the EL element is 0, and the polarization is relaxed. Erasure is performed. The charging pulse is applied immediately after the trigger pulse so as not to overlap with the trigger pulse. The upper limit of the repetition frequency of light emission depends on the rating of the flash lamp and the charging speed of this charging switch T (FIG. 7). In the example, the EL drive frequency is 500Hz, V
s=200VVL=250Vc=lOAFM turns ratio 8
0:1, the number of times the flash lamp was emitted was 40Hz, and the charging pulse was 3Hz. As described above, by driving the EL element with the circuit shown in Fig. 6, and lighting the flash lamp with the circuit shown in Fig. 7 to irradiate the EL element with light, the E
Optical writing and erasing to the L element can be performed freely.

第7図のスイッチTを1回だけオンさせれば1回だけの
動作であるが、連続的に(数10HZ)にオンさせ、そ
の間のランプトリガを発生させれば、連続的なランプ発
光が得られ、光源をペンのようにハンディタイプにすれ
ば、手書き図形、文字等をEL素子に光書き込み、消去
ができる。
If the switch T in Fig. 7 is turned on only once, it will only operate once, but if it is turned on continuously (several tens of Hz) and a lamp trigger is generated during that time, continuous lamp emission will occur. If the light source is made into a handy type like a pen, handwritten figures, characters, etc. can be written and erased on the EL element.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の薄枕EL素子の断面構成図、第2図薄
膜EL素子の電圧−輝度特性図、第3図イは交流パルス
刃僻sと光照射のタイミングを説明する図、第3図口は
交流パルス列Psと光照射と発光輝度の関係図、第4図
は薄膜由L素子の光感度特性図、第5図はタングステン
ランプとキセノンランプの分光特性図、第6図は本発明
によるEL素子とキャノンランプの駆動回路図、第7図
はキセノンランプの駆動回路図、第8図は第6図の回路
の動作を説明するタイムチャートである。 ELは薄膜EL素子、Kはキセノンランプ、T、T,〜
T4はトランジスタ、Cはコンデンサである。第1図 第2図 第3図 第4図 第6図 第7図 第8図
FIG. 1 is a cross-sectional diagram of the thin-film EL device of the present invention, FIG. 2 is a voltage-luminance characteristic diagram of the thin-film EL device, FIG. Figure 3 shows the relationship between AC pulse train Ps, light irradiation, and luminance, Figure 4 shows the photosensitivity characteristics of the thin-film L element, Figure 5 shows the spectral characteristics of the tungsten lamp and xenon lamp, and Figure 6 shows the main picture. FIG. 7 is a driving circuit diagram of an EL element and a canon lamp according to the invention, FIG. 7 is a driving circuit diagram of a xenon lamp, and FIG. 8 is a time chart explaining the operation of the circuit of FIG. 6. EL is a thin film EL element, K is a xenon lamp, T, T, ~
T4 is a transistor, and C is a capacitor. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 6 Figure 7 Figure 8

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 印加電圧と発光輝度特性にヒステリシス現象をもつ
薄膜EL素子に、電圧上昇時の最小発光輝度と電圧下降
時の最大発光輝度との差が充分に大きい点の電圧値を持
つ交流パルス列を印加する手段と、 上記薄膜EL素子
にフラツシユランプを光源とする光を照射する手段と、
光書込み及び光消去に応じ、上記交流パルス列のパル
ス期間又はパルス休止期間に同期して上記フラツシユラ
ンプを選択点灯させる制御手段と、を備えてなることを
特徴とする薄膜EL素子の光駆動方式。 2 上記フラツシユランプはキセノンランプであること
を特徴とする前記特許請求の範囲第1項に記載した薄膜
EL素子の光駆動方式。
[Scope of Claims] 1. A thin film EL element having a hysteresis phenomenon in the applied voltage and luminance characteristics is provided with a voltage value at a point where the difference between the minimum luminance when the voltage increases and the maximum luminance when the voltage decreases is sufficiently large. means for applying an alternating current pulse train having an AC pulse train; and means for irradiating the thin film EL element with light from a flash lamp as a light source;
A control means for selectively lighting the flash lamp in synchronization with a pulse period or a pulse rest period of the AC pulse train in response to optical writing and optical erasing. . 2. The optical drive method for a thin film EL element as set forth in claim 1, wherein the flash lamp is a xenon lamp.
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