JPS6245463A - 鋳造機への給湯装置 - Google Patents

鋳造機への給湯装置

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JPS6245463A
JPS6245463A JP18373285A JP18373285A JPS6245463A JP S6245463 A JPS6245463 A JP S6245463A JP 18373285 A JP18373285 A JP 18373285A JP 18373285 A JP18373285 A JP 18373285A JP S6245463 A JPS6245463 A JP S6245463A
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JP
Japan
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hot water
molten metal
tank
storage tank
valve
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Pending
Application number
JP18373285A
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English (en)
Inventor
Toshiyuki Tsukamoto
塚本 敏之
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、特に溶融した金属を高品質に維持して連続杓
にかつ安全に鋳型に給湯する鋳造機への給湯装置に関す
るものである。
(従来の技術) 従来の技術として、特開昭58−157568号公報が
あった。
即ち第3図に示すように密閉された溶湯保持炉aの上方
に鋳型すを配置し、この鋳型すの湯口Cと溶湯保持炉a
の場内とを給湯管dにより連通させ、この状態でボンベ
eにより溶湯保持炉aの上部にアルゴンガスを圧入する
ことにより、溶湯保持炉a内の湯を大気から遮断した状
態で鋳型すに給湯するものがあった。
(発明が解決しようとする問題点) このものは、溶湯保持炉aが単独で密閉された構造とな
っているため、この溶湯保持炉a内の湯が消費した場合
には、該溶湯保持炉aの天板a−1を取外すか、あるい
は天板a−1に設けた注湯蓋を開くかしてこの部から湯
を補給する必要がある。
このため、溶湯保持炉aに湯を補給する際に、時間を要
するとともに危険を伴う欠点があった。
また、上記補給時には補給湯が大気に触れて酸化し易く
なるとともに、この酸化した不純物が補給時に溶湯保持
炉a内で撹拌され、品質が安定し難くなる欠点があった
本発明は上記欠点を解消した新規な給湯装置を得ること
を目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、上記目的を達成すめために以下の如く構成し
たものである。
即ち、材料を溶解する溶解炉と、溶解炉に接続されかつ
鋳込み材料を溶融状態に保持する貯湯槽と密閉した給湯
槽とを設け、貯湯槽内の湯面を給湯槽内の基準湯面に対
して少なくとも略同lノベルに設定し、貯湯槽と給湯槽
とを両者の湯面下にて弁を介して連通させ、給湯槽の湯
面下から鋳型の湯口に向かって延出する給湯管を設け、
前記弁の閉作動時に給湯槽内上部に気体を圧入する気体
供給装置を設ける構成にしたものである。
(作用) 本発明は上記構成にしたものであるから、弁を閉じた状
態で気体供給装置を作動すれば、給湯槽内の上部から気
体が流入して該給湯槽内の湯を加圧することになる。
これにより給湯槽内の湯が給湯管を経て鋳型内に流入し
て行くことになる。
この場合、上記鋳型内への湯の流入は、給湯槽内に収容
された湯の湯面下から行なわれることになり、大気から
遮断された状態で行なわれることになる。
また、弁を閉作動すると給湯槽内が貯湯槽内と連通状態
となり、貯湯槽内の湯が給湯槽内に流入し、補給される
ことになる。
この場合、上記給湯槽内への湯の流入は、貯湯槽の湯面
下から給湯槽の湯面下に向かって流入することになり、
大気から遮断された状態で行なわれることになる。
そして、上記貯湯槽への湯の補給は、溶解炉を稼働する
ことにより随時補給されることになる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を第1図に基づいて説明する。
1は鋳型8の直下に配置した給湯槽であり、セラミック
資材により断熱かつ密閉した湯室2を有する。
この湯室2の上部にはヒータ3を、また湯室2に収容し
た湯5内に温度センサ3aをそれぞれ取付け、温度セン
サ3aによりヒータ3を制御することにより、上記湯5
の凝固を防止する。
また給湯槽1の土壁には、給湯管4を垂下支持してその
下端4bを給湯槽1内に収容した湯50基準湯面5aよ
りも下方に位置させて開口し、その上端4aを鋳型8の
下部に開口形成した湯口8bに着脱可能に接続する。
上記給湯槽1および給湯管4は第2図に示すようにして
もよい。
即ち、給湯槽1′の上壁1bを本体1aに対し開閉可能
に載置し、給湯管4′を右方に向けて斜め上方に傾斜配
置するとともに、その下端4’ bを湯5′内に配置し
、その上端4’  aを給湯槽1′の右端上部から外方
に露出させ、鋳型8′の湯口8’  bの上方に位置さ
せるようにしてもよい。
そして、給湯槽1の上部に気体供給装置をなす圧縮ポン
プ6の吐出管6aを接続し、該圧縮ポンプ6の作動によ
り湯室2の上部に不活性ガスを圧入して湯5を加圧する
また、吐出管6aの中途を分岐してこの部に大気に開口
する排出管7を取付け、この排出管7に該排出管を開閉
する電磁弁7aを取付ける。
上記給湯槽1の左方に貯湯槽10を並列配置する。
この貯湯槽10は給湯槽1の湯室2よりも大容積の一次
湯室11を有し、その側壁はセラミック資材により形成
する。
また貯湯槽10の上部は蓋12により密閉状に閉塞し、
該上部に不活性ガスを充満させる。
そして、上記貯湯槽1oの下流側底部と前述した給湯槽
1の底部とを連通させる通湯路13を設け、貯湯槽10
側にこの通湯路13をシリンダ機構(図示省略)により
開閉する弁14を取付ける。
また、上記貯湯槽10には湯面検知針15を取付けると
ともに、貯湯槽10の上流端に溶解炉16を接続し、上
記湯面検知針15の検知信号に基づいて溶解炉16のバ
ーナをオン・オフ作動して地金溶解量を制御し、これに
より貯湯槽10内の湯量を一定に保持する。
また、上記−次湯室11は、複数個の堤壁10a〜1.
 Ocによりその上流側から下流側に向かって複数個の
処理室11 a・llb・llcを形成し、これらに脱
ガス用ガス発生器17・セラミック製のフィルタ18お
よび添加剤供給装置19をそれぞれ取付け、溶湯の清浄
化および微細化を図る。
ここで、−次湯室11内に収容した湯20の湯面20a
の高さは、給湯槽]側の基準湯面5a、つまり鋳型8に
供給する前の湯面高さと略同−になる如く設定しておく
また、弁14・圧縮ポンプ6および電磁弁7aは、以下
の如く回路構成しておく。
即ち、圧縮ポンプ6が作動する際には、弁14および″
Iii磁弁7磁製7a動させた状態で、所定時間、つま
り湯室2内の湯5が鋳型8のキャビティ8aに充満し、
かつ所定の力凸圧を生起する時間作動させる。
次いでキャビティ8aの湯が凝固した時点で電磁弁7;
1を所定時間開作動、つまり湯室2内の圧縮ガスが大気
に排出して該湯室2内が常圧になる時間開作動させる。
次いで弁14を所定時間開作動、つまり貯湯槽10内の
湯20が給?j!槽]−内に流入し、該給湯槽1内の湯
5が貯湯槽10内の湯20と同レベルになる時間開作動
させる。
(発明の効果) 以−ヒの説明から明らかな如く、本発明によれば、弁を
開作動するのみで給湯槽内に所定量の湯が大気に触れる
ことなく随時補給されることになる。
また弁を閉作動すれば給湯槽内が密閉され、この状態で
気体供給装置、つまり圧縮ポンプ6を作動すれば、給湯
槽内の湯がその底部から鋳型8に給湯されることになる
また、溶解炉16を稼働することにより、貯湯槽10に
湯を随時補給し、該貯湯槽10内の湯面20aが常時所
定値に維持されることになる。
従って本発明は給湯槽への湯の補給が迅速かつ安全に行
なえるとともに、給湯槽ならびに鋳型に給湯された湯は
不純物の混入が少ない高品質なものとなり、かつ連続的
に給湯することができる効果を奏する。
なお、本発明は貯湯槽側の湯面を給湯槽側の基準湯面よ
りも十分に高くし、弁の開作動時間を給湯槽側に設けた
レベルゲージにより制御するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す概略的構成図、第2図は
他の実施例を示す概略的要部構成図、第3図は従来例を
示す概略的構成図である。 1:給湯槽、2:湯室、3:ヒータ、3a:温度センサ
、4:給湯管、4a:上端、4b:下端、5:湯、5a
:基準湯面、6:圧縮ポンプ、(気体供給装置)、7:
排気管、7a:電磁弁8:鋳型、8a:キャビティ、8
b=湯口、10:貯湯槽、11ニ一次湯室、12:蓋、
13:通湯路、14:弁、15:湯面検知計、16:溶
解炉、17:脱ガス用ガス発生器、18:フィルタ、1
9:添加剤供給装置、20:湯、20a:湯面。 出願代理人   松 本  久 手続補正書(方式) 昭和60年12月9日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、材料を溶解する溶解炉と、溶解炉に接続されかつ鋳
    込み材料を溶融状態に保持する貯湯槽と密閉した給湯槽
    とを設け、貯湯槽内の湯面を給湯槽内の基準湯面に対し
    て少なくとも略同レベルに設定し、貯湯槽と給湯槽とを
    両者の湯面下にて弁を介して連通させ、給湯槽の湯面下
    から鋳型の湯口に向かって延出する給湯管を設け、前記
    弁の閉作動時に給湯槽内上部に気体を圧入する気体供給
    装置を設けたことを特徴とする鋳造機への給湯装置。
JP18373285A 1985-08-21 1985-08-21 鋳造機への給湯装置 Pending JPS6245463A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995001236A1 (en) * 1993-07-02 1995-01-12 Frank W. Schaefer, Inc. Low pressure casting process and apparatus
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JP2002153971A (ja) * 2000-11-22 2002-05-28 Mrk:Kk 溶解保持炉

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57142757A (en) * 1981-02-26 1982-09-03 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Pressure casting device

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