JPS6244996A - 磁場発生装置 - Google Patents
磁場発生装置Info
- Publication number
- JPS6244996A JPS6244996A JP60183681A JP18368185A JPS6244996A JP S6244996 A JPS6244996 A JP S6244996A JP 60183681 A JP60183681 A JP 60183681A JP 18368185 A JP18368185 A JP 18368185A JP S6244996 A JPS6244996 A JP S6244996A
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- Japan
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- magnetic field
- magnetic
- plasma
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は荷電粒子の製造と輸送に適合する磁場発生装置
に関する。
に関する。
(従来の技術)
プラズマを所定の空間内に閉じ込める技術として、複数
の磁極によってマルチカスプ磁場の壁を作り、この磁場
の壁によってプラズマを閉じ込める技術が知られtいる
。
の磁極によってマルチカスプ磁場の壁を作り、この磁場
の壁によってプラズマを閉じ込める技術が知られtいる
。
(発明が解決しようとする問題点)
上述したマルチカスプ磁場によってプラズマを閉じ込め
る技術を用いてプラズマを輸送する場合に以下の様な問
題が生じる。
る技術を用いてプラズマを輸送する場合に以下の様な問
題が生じる。
第6図は、従来の磁場発生装置を用いてのプラズマ輸送
装置の一例を示す側断面図、第7図および第8図はそれ
ぞれ第6図の■−■断面図および■−■断面図である。
装置の一例を示す側断面図、第7図および第8図はそれ
ぞれ第6図の■−■断面図および■−■断面図である。
この従来例においては、1周当り4つの磁極が交互に内
側に向っており、かつ軸方向にも磁極が交互になるよう
に複数個の磁石1a、lb、 ・・・1eが設けられ
ている。このように配された磁極によって形成される円
筒状空間の一方端Aから他方端Bヘプラズマの輸送が行
われるのである。プラズマを磁場発生装置内に閉じ送給
かつプラズマが磁石に(Φ1突してこれを加熱すること
を防止するためには、十分強い磁場を発生する必要があ
るが、このような磁場は中心付近のプラズマにまで影響
を及ぼずことになる。磁場は軸方向即ちプラズマを輸送
しようとする方向に直交して発生するのでこの磁場の影
響を受けているプラズマは輸送されなくなり、磁極によ
って形成される円筒断面に仕して実質的なコンダクタン
スはかなり小さいものとなっている。本例のように周当
り1ヒ較的少数個の磁極により閉じ込め磁場を形成しよ
うとずろと、中心付近にまで特に強い磁場が漏えいし、
プラズマの輸送のコンダクタンスはさらに小さなものと
なる。
側に向っており、かつ軸方向にも磁極が交互になるよう
に複数個の磁石1a、lb、 ・・・1eが設けられ
ている。このように配された磁極によって形成される円
筒状空間の一方端Aから他方端Bヘプラズマの輸送が行
われるのである。プラズマを磁場発生装置内に閉じ送給
かつプラズマが磁石に(Φ1突してこれを加熱すること
を防止するためには、十分強い磁場を発生する必要があ
るが、このような磁場は中心付近のプラズマにまで影響
を及ぼずことになる。磁場は軸方向即ちプラズマを輸送
しようとする方向に直交して発生するのでこの磁場の影
響を受けているプラズマは輸送されなくなり、磁極によ
って形成される円筒断面に仕して実質的なコンダクタン
スはかなり小さいものとなっている。本例のように周当
り1ヒ較的少数個の磁極により閉じ込め磁場を形成しよ
うとずろと、中心付近にまで特に強い磁場が漏えいし、
プラズマの輸送のコンダクタンスはさらに小さなものと
なる。
本発明の目的は、プラズマ等の荷電粒子をスムーズに効
率的に輸送ずろことのできる磁場発生装置を提供するこ
とにある。
率的に輸送ずろことのできる磁場発生装置を提供するこ
とにある。
(問題点を解決するための手段)
」ユ記目的は、複数の磁極が、極性を交互にしてかつ間
隔を有してらせん上に位置している磁場発生装置を用い
ることにより達成する。
隔を有してらせん上に位置している磁場発生装置を用い
ることにより達成する。
(作 用)
本発明の磁場発生装置においては、荷電粒子の進行方向
に直交する磁場が発生しないので、たとえ中心付近にま
で強い磁場が存在しても荷電粒子は輸送される。
に直交する磁場が発生しないので、たとえ中心付近にま
で強い磁場が存在しても荷電粒子は輸送される。
(発明の効果)
本発明の磁場発生装置を用いるとプラズマ等の荷電粒子
を高いコンダクタンスでスムーズに輸送 。
を高いコンダクタンスでスムーズに輸送 。
することができる。また、中心付近にまで強い磁力が及
ぶ強力な磁石を持いることができるので荷電粒子の閉じ
込めを十分に行うことができる。また、本発明の磁場発
生装置を電子サイクロトロン共鳴方式のプラズマ発生装
置の共鳴磁場発生装置として使用した場合も、発生した
プラズマを効率よく外部へ放出することが可能となる。
ぶ強力な磁石を持いることができるので荷電粒子の閉じ
込めを十分に行うことができる。また、本発明の磁場発
生装置を電子サイクロトロン共鳴方式のプラズマ発生装
置の共鳴磁場発生装置として使用した場合も、発生した
プラズマを効率よく外部へ放出することが可能となる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面を用いてδち(明する。
第1図は本発明の第1実施例を示す概略図である。
複数の磁石1a、lb、 ・・・、1f・・・がらせ
ん」二に間隔を有して配置されている。各磁石の中心方
向側の磁極の極性は、隣接する磁石間で交!Lになって
いる。軸方向に隣接する磁石1a、Ie、liは一直線
上に並んでいる。このように配置された磁石によっては
軸方向に直交する磁場は形成されない。従って、本実施
例のように周当り比較的少数個の磁石しか用いられない
場合であって、中心付近まで漏えい磁場の影響が強い場
合であっても、荷電粒子は磁場の軸方向成分により輸送
されるので、高いコンダクタンスで荷電粒子を輸送する
ことが可能となる。
ん」二に間隔を有して配置されている。各磁石の中心方
向側の磁極の極性は、隣接する磁石間で交!Lになって
いる。軸方向に隣接する磁石1a、Ie、liは一直線
上に並んでいる。このように配置された磁石によっては
軸方向に直交する磁場は形成されない。従って、本実施
例のように周当り比較的少数個の磁石しか用いられない
場合であって、中心付近まで漏えい磁場の影響が強い場
合であっても、荷電粒子は磁場の軸方向成分により輸送
されるので、高いコンダクタンスで荷電粒子を輸送する
ことが可能となる。
第2図は、本発明の第2実施例を示す概略図である。本
実施例においては、隣接するらせんピッチ上の磁極が中
心軸に沿って一直線に並んでおらず、所定間隔づつ一定
方向にずれて配置されている。従って、形成される磁場
配位も進行方向に沿って所定の角度づつ回転した状態で
位置する。ある断面において、マルチカスプ磁場によっ
て保持されるプラズマはゆがんだ形となるが、軸方向へ
流出するにつれてゆがみの効果が加算され、他端Bから
取り出されるプラズマの断面形状は円形となる。
実施例においては、隣接するらせんピッチ上の磁極が中
心軸に沿って一直線に並んでおらず、所定間隔づつ一定
方向にずれて配置されている。従って、形成される磁場
配位も進行方向に沿って所定の角度づつ回転した状態で
位置する。ある断面において、マルチカスプ磁場によっ
て保持されるプラズマはゆがんだ形となるが、軸方向へ
流出するにつれてゆがみの効果が加算され、他端Bから
取り出されるプラズマの断面形状は円形となる。
第3図は、本発明の第3実施例を示す概略図である。本
実施例においては、隣接するらせんピッチ−Lの磁極が
中心軸に沿って一直線に並んでおり、かつ軸方向で隣接
する磁極の極性が逆であるので、隣接するピッチ」−に
位置する磁極間に軸方向に沿ってより効果的にプラズマ
を閉じ込めることができる。
実施例においては、隣接するらせんピッチ−Lの磁極が
中心軸に沿って一直線に並んでおり、かつ軸方向で隣接
する磁極の極性が逆であるので、隣接するピッチ」−に
位置する磁極間に軸方向に沿ってより効果的にプラズマ
を閉じ込めることができる。
第4図は本発明の第4実施例を示す概略図である。本実
施例においては複数の磁石la、lb・・・・、1f、
・・・が、可撓性材料からなる円筒状の支持体10具体
的にはベロー円筒に付着されている。各磁石の中心方向
側の磁極はベロー円筒10上に引かれるらせん上に間隔
を有して位置しており、かつその極性は隣接する磁石間
で交互になっている。従って、円筒状の支持体10を曲
げることにより、円筒の一端Aに生成、もしくは導入さ
れた荷電粒子は所望する任意の方向に安定した状態で輸
送できる。
施例においては複数の磁石la、lb・・・・、1f、
・・・が、可撓性材料からなる円筒状の支持体10具体
的にはベロー円筒に付着されている。各磁石の中心方向
側の磁極はベロー円筒10上に引かれるらせん上に間隔
を有して位置しており、かつその極性は隣接する磁石間
で交互になっている。従って、円筒状の支持体10を曲
げることにより、円筒の一端Aに生成、もしくは導入さ
れた荷電粒子は所望する任意の方向に安定した状態で輸
送できる。
第5図は本発明の磁場発生装置を適用したイオン注入装
置6の部分概略図である。本発明の磁場発生装置4はイ
オン源5を包囲するように設置されている。従って、フ
ィラメント6と電極7とによって発生されたプラズマは
確実にイオン源5内に保持されるとともに、イオン引出
電極8によって下流側へ効率よく輸送hり出されろ。
置6の部分概略図である。本発明の磁場発生装置4はイ
オン源5を包囲するように設置されている。従って、フ
ィラメント6と電極7とによって発生されたプラズマは
確実にイオン源5内に保持されるとともに、イオン引出
電極8によって下流側へ効率よく輸送hり出されろ。
なお、上記各実施例においては、磁極が等間隔で並んで
いたが、必ずしも等間隔にする必要はなく所望に応じて
間隔を変化することができる。複数の磁極が個別の永久
磁石の各磁極であったが、本発明の複数の磁極を円筒状
硬磁性材料の内壁を部分的に磁化することによって形成
することもできる。この場合本発明の磁場発生装置を半
円状断面を有する2つの別体の永久磁石材料を組み合わ
せることにより構成するようにしてもよい。このように
すると、外部から本発明の磁場発生装置を容易に設ける
ことができる。
いたが、必ずしも等間隔にする必要はなく所望に応じて
間隔を変化することができる。複数の磁極が個別の永久
磁石の各磁極であったが、本発明の複数の磁極を円筒状
硬磁性材料の内壁を部分的に磁化することによって形成
することもできる。この場合本発明の磁場発生装置を半
円状断面を有する2つの別体の永久磁石材料を組み合わ
せることにより構成するようにしてもよい。このように
すると、外部から本発明の磁場発生装置を容易に設ける
ことができる。
第1図は本発明の第1実施例の概略図、第2図は本発明
の第2実施例の概略図、第3図は本発明の第3実施例の
概略図、第4図は本発明の第4実施例の概略図、第5図
は本発明を使用するイオン注入装置の概略図、 第6図は従来の磁場発生装置の細断図、第7図および第
8図はそれぞれ第6図の■−■断面図および■−■断面
図である。 la、lb、 ・・・1z・・・・・・磁石、4・・
・・・・本発明の磁場発生装置、5・・・・・イオン源
、8・・・・・・イオン引出電極。 第1図 第2図 第3図 第4図
の第2実施例の概略図、第3図は本発明の第3実施例の
概略図、第4図は本発明の第4実施例の概略図、第5図
は本発明を使用するイオン注入装置の概略図、 第6図は従来の磁場発生装置の細断図、第7図および第
8図はそれぞれ第6図の■−■断面図および■−■断面
図である。 la、lb、 ・・・1z・・・・・・磁石、4・・
・・・・本発明の磁場発生装置、5・・・・・イオン源
、8・・・・・・イオン引出電極。 第1図 第2図 第3図 第4図
Claims (4)
- (1)複数の磁極が、極性を交互にしてかつ間隔を有し
てらせん上に位置している磁場発生装置。 - (2)前記複数の磁極が個別の永久磁石の磁極であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の磁場発
生装置。 - (3)前記永久磁石が可撓性の支持体によって支持され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第(2)項記載
の磁場発生装置。 - (4)前記複数の磁極が円筒状硬磁性材料の内壁に分離
して設けられた磁極であることを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の磁場発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60183681A JPH0654718B2 (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 磁場発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60183681A JPH0654718B2 (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 磁場発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6244996A true JPS6244996A (ja) | 1987-02-26 |
JPH0654718B2 JPH0654718B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=16140061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60183681A Expired - Lifetime JPH0654718B2 (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 | 磁場発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0654718B2 (ja) |
-
1985
- 1985-08-21 JP JP60183681A patent/JPH0654718B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0654718B2 (ja) | 1994-07-20 |
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