JPS6244729Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6244729Y2 JPS6244729Y2 JP1979010022U JP1002279U JPS6244729Y2 JP S6244729 Y2 JPS6244729 Y2 JP S6244729Y2 JP 1979010022 U JP1979010022 U JP 1979010022U JP 1002279 U JP1002279 U JP 1002279U JP S6244729 Y2 JPS6244729 Y2 JP S6244729Y2
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- Japan
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- cylinder
- water
- shell
- deck plate
- plate
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 17
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 241000287462 Phalacrocorax carbo Species 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 210000003949 semicircular duct Anatomy 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
従来公知の旋回羽根型気水分離装置は、第1〜
2図に示すように、旋回羽根02を内蔵する内筒
01と、該内筒01の外側に同心的に配設されデ
ツキプレート03が被冠された外筒05とをシエ
ル筒08内に同心的に配設してなる。
2図に示すように、旋回羽根02を内蔵する内筒
01と、該内筒01の外側に同心的に配設されデ
ツキプレート03が被冠された外筒05とをシエ
ル筒08内に同心的に配設してなる。
このような構造によつて、内筒01内を、矢印
にて示すように、上昇する気水混合物は旋回羽根
02を通過することにより回転が与えられるの
で、気水混合物中の比重の比較的大である水分は
多少の気体を巻込みながら遠心力により内筒1の
外周に寄せ集められ、実線矢印にて示すように内
筒01の上端とデツキプレート03との間の間隙
から外筒05内に向かつて押し出される。そこで
大半の水分は、内筒01と外筒05との間の環状
空間を落下し、残部の水分とこれに巻き込まれた
気体は、矢印にて示すように、外筒05の上端に
設けられた切欠き06を通つて外筒05とシエル
筒08との間の環状空間中へ放出され、こゝで重
力分離により、気体と水とは分離し、水はシエル
筒08の下部へ落下し、気体はデツキプレート0
3とシエル筒08との間の環状間隙07から上方
へ抜ける。
にて示すように、上昇する気水混合物は旋回羽根
02を通過することにより回転が与えられるの
で、気水混合物中の比重の比較的大である水分は
多少の気体を巻込みながら遠心力により内筒1の
外周に寄せ集められ、実線矢印にて示すように内
筒01の上端とデツキプレート03との間の間隙
から外筒05内に向かつて押し出される。そこで
大半の水分は、内筒01と外筒05との間の環状
空間を落下し、残部の水分とこれに巻き込まれた
気体は、矢印にて示すように、外筒05の上端に
設けられた切欠き06を通つて外筒05とシエル
筒08との間の環状空間中へ放出され、こゝで重
力分離により、気体と水とは分離し、水はシエル
筒08の下部へ落下し、気体はデツキプレート0
3とシエル筒08との間の環状間隙07から上方
へ抜ける。
一方デツキプレート03の中央に設けられた開
孔04を通つて気体に伴われて上昇する一部の水
は、デツキプレート03上で重力分離し、デツキ
プレート03上に落下したのち、デツキプレート
03とシエル筒08との間の環状間隙07からシ
エル筒底に落下する。
孔04を通つて気体に伴われて上昇する一部の水
は、デツキプレート03上で重力分離し、デツキ
プレート03上に落下したのち、デツキプレート
03とシエル筒08との間の環状間隙07からシ
エル筒底に落下する。
したがつて、このような気水分離器のデツキプ
レート03とシエル筒08との間の環状間隙07
には、落下する水と上昇する気体のカウンターフ
ローが生ずることになる。このカウンターフロー
のため、上昇する気体によつて落下すべき水が再
飛散するとともに外筒05とシエル筒08との間
の環状空間の圧力は次第に上昇するから内筒01
の上端の間隙から分離される水量は減少し、デツ
キプレート03上に吹き上げられる水量は増加す
るので、気水分離作用は減少し、その分離能力は
比較的狭範囲の流量で限界に達して了う。
レート03とシエル筒08との間の環状間隙07
には、落下する水と上昇する気体のカウンターフ
ローが生ずることになる。このカウンターフロー
のため、上昇する気体によつて落下すべき水が再
飛散するとともに外筒05とシエル筒08との間
の環状空間の圧力は次第に上昇するから内筒01
の上端の間隙から分離される水量は減少し、デツ
キプレート03上に吹き上げられる水量は増加す
るので、気水分離作用は減少し、その分離能力は
比較的狭範囲の流量で限界に達して了う。
本考案はこのような事情に鑑み提案されたもの
で、広範囲の流量、特に高流量域において高分離
性能を有する気水分離器を提供することを目的と
するもので、シエル筒内に配設され旋回羽根を有
する内筒と、該内筒と同心的に配設された外筒
と、該外筒に被冠されたデツキプレートとを具え
上記外筒の上端と上記デツキプレートとの間に切
欠きを設けてなる旋回羽根型気水分離器におい
て、外筒とシエル筒との間の環状空間を半径方向
の仕切板により2室に縦区分し、上記切欠きを含
まない一方の室には下端が水面下に浸漬するとゝ
もに上端がデツキプレートに固着される弧状ダク
ト板を設けるとゝもに、上記切欠きを含む他方の
室を区画形成するデツキプレート上に上記シエル
筒との間に適宜間隙を存して弧状堰板を設けたこ
とを特徴とする。
で、広範囲の流量、特に高流量域において高分離
性能を有する気水分離器を提供することを目的と
するもので、シエル筒内に配設され旋回羽根を有
する内筒と、該内筒と同心的に配設された外筒
と、該外筒に被冠されたデツキプレートとを具え
上記外筒の上端と上記デツキプレートとの間に切
欠きを設けてなる旋回羽根型気水分離器におい
て、外筒とシエル筒との間の環状空間を半径方向
の仕切板により2室に縦区分し、上記切欠きを含
まない一方の室には下端が水面下に浸漬するとゝ
もに上端がデツキプレートに固着される弧状ダク
ト板を設けるとゝもに、上記切欠きを含む他方の
室を区画形成するデツキプレート上に上記シエル
筒との間に適宜間隙を存して弧状堰板を設けたこ
とを特徴とする。
本考案の一実施例を図面について説明すると、
第3図はその縦断面図、第4図は第3図の−
に沿つた平面図、第5図は第1図及び第3図の気
水分離器によるキヤリオーバ量と内筒内を上昇す
る気体流速との関係を示す比較線図である。
第3図はその縦断面図、第4図は第3図の−
に沿つた平面図、第5図は第1図及び第3図の気
水分離器によるキヤリオーバ量と内筒内を上昇す
る気体流速との関係を示す比較線図である。
上図において、1は旋回羽根2を内蔵する内
筒、3は内筒1の外側に適宜間隙を存して同心的
に配設された外筒5の上端に被冠されるとゝもに
中心の開口4を具えたデツキプレート、6は外筒
5の上端とデツキプレート3との間に開口する切
欠き、7はデツキプレート3の外周とシエル筒8
との間の環状間隙、9は上端がデツキプレート3
の右半部に固着されるとゝもに下端が水面11下
に浸漬する半円筒状のダクト仕切板、12はダク
ト仕切板9の平行縦縁端とシエル筒8との間隙を
半径方向に仕切ることによりダクト仕切板9とシ
エル筒8との間に半環状空間を形成する半径方向
仕切板、10はデツキプレート3の左半部の外周
上に突設された半円状堰板である。
筒、3は内筒1の外側に適宜間隙を存して同心的
に配設された外筒5の上端に被冠されるとゝもに
中心の開口4を具えたデツキプレート、6は外筒
5の上端とデツキプレート3との間に開口する切
欠き、7はデツキプレート3の外周とシエル筒8
との間の環状間隙、9は上端がデツキプレート3
の右半部に固着されるとゝもに下端が水面11下
に浸漬する半円筒状のダクト仕切板、12はダク
ト仕切板9の平行縦縁端とシエル筒8との間隙を
半径方向に仕切ることによりダクト仕切板9とシ
エル筒8との間に半環状空間を形成する半径方向
仕切板、10はデツキプレート3の左半部の外周
上に突設された半円状堰板である。
このような装置において、内筒1内を矢印にて
示すように、上昇する気水混合物は、旋回羽根2
を通過することにより回転が与えられるので気水
混合物中の比重の比較的大である水分は多少の気
体を巻き込みながら遠心力により内筒1の外周に
寄せ集められ、実線矢印にて示すように内筒1の
上端とデツキプレート3との間の間隙から外筒5
内に向かつて押し出される。そこで大半の水分
は、内筒1と外筒5との間の環状空間を落下し、
残部の水分とこれに巻き込まれた気体は矢印にて
示すように外筒5の上端に設けられた切欠き6を
通つて外筒5とシエル筒8との間の環状空間中へ
放出され、こゝで重力分離により、気体と水とは
分離し、水はシエル筒8の下部へ落下し、気体は
デツキプレート3とシエル筒8との間の間隙から
上方へ抜ける。一方デツキプレートの中央開孔4
を通つて気体に伴われて上昇する一部の水は、デ
ツキプレート3上で重力分離し、デツキプレート
3上に落下したのち、ダクト仕切板9とシエル筒
8との間の半環状空間を通つてシエル筒8の底に
落下し、気体は半円状堰板10とシエル筒8との
間の半環状空間を通つて上昇する。
示すように、上昇する気水混合物は、旋回羽根2
を通過することにより回転が与えられるので気水
混合物中の比重の比較的大である水分は多少の気
体を巻き込みながら遠心力により内筒1の外周に
寄せ集められ、実線矢印にて示すように内筒1の
上端とデツキプレート3との間の間隙から外筒5
内に向かつて押し出される。そこで大半の水分
は、内筒1と外筒5との間の環状空間を落下し、
残部の水分とこれに巻き込まれた気体は矢印にて
示すように外筒5の上端に設けられた切欠き6を
通つて外筒5とシエル筒8との間の環状空間中へ
放出され、こゝで重力分離により、気体と水とは
分離し、水はシエル筒8の下部へ落下し、気体は
デツキプレート3とシエル筒8との間の間隙から
上方へ抜ける。一方デツキプレートの中央開孔4
を通つて気体に伴われて上昇する一部の水は、デ
ツキプレート3上で重力分離し、デツキプレート
3上に落下したのち、ダクト仕切板9とシエル筒
8との間の半環状空間を通つてシエル筒8の底に
落下し、気体は半円状堰板10とシエル筒8との
間の半環状空間を通つて上昇する。
このように、落下する水と上昇する気体はそれ
ぞれ別々の通路を通るのであるから、互いに衝突
することがなく、水及び気体は極めてスムースに
流れることができる。
ぞれ別々の通路を通るのであるから、互いに衝突
することがなく、水及び気体は極めてスムースに
流れることができる。
更に、水がダクト仕切板9により区画形成され
た半環状ダクト空間内を充満して流れるようにな
ると、サイフオン効果により、更に多量の水を落
下さすことができるようになる。
た半環状ダクト空間内を充満して流れるようにな
ると、サイフオン効果により、更に多量の水を落
下さすことができるようになる。
叙上のように、本考案気水分離器では水と気体
はカウンターフローを生起することなく流れるこ
とができ、落下すべき水の再飛散によるキヤリオ
ーバー増加の問題もなく、気体量は増加しても外
筒5とシエル筒8との間の環状空間の圧力上昇は
僅少であるため気水分離性能は低下しない。
はカウンターフローを生起することなく流れるこ
とができ、落下すべき水の再飛散によるキヤリオ
ーバー増加の問題もなく、気体量は増加しても外
筒5とシエル筒8との間の環状空間の圧力上昇は
僅少であるため気水分離性能は低下しない。
上記実施例では、外筒5とシエル筒8との間の
環状空間を2室に縦割りしたが、2室以上に縦割
りすることもできる。
環状空間を2室に縦割りしたが、2室以上に縦割
りすることもできる。
また、本考案はダクト仕切板9、半円筒状仕切
板12、およびシエル筒8を一体にしたドレンダ
クトを複数設ける場合についても適用される。
板12、およびシエル筒8を一体にしたドレンダ
クトを複数設ける場合についても適用される。
本実施例による作用効果を公知のそれと比較す
るために、本実施例においてデツキプレート3と
シエル筒8との間の環状間隙7の面積を内筒1の
断面積の50%にとり、ダクト仕切板9により区画
形成された半環状ダクト空間Aと半円状堰板10
とシエル筒8との間の半円状間隙Bとの面積比
A/Bを2/3に設定してモデルテストを行い、
シエル筒8の先端から気体に伴われて放出される
水量すなわちキヤリオーバ量Cφを第1図に示す
公知の気水分離器のそれと比較すると、第5図に
示す通り、本考案装置により、キヤリオーバ量は
極めて顕著に減少していることが分かる。
るために、本実施例においてデツキプレート3と
シエル筒8との間の環状間隙7の面積を内筒1の
断面積の50%にとり、ダクト仕切板9により区画
形成された半環状ダクト空間Aと半円状堰板10
とシエル筒8との間の半円状間隙Bとの面積比
A/Bを2/3に設定してモデルテストを行い、
シエル筒8の先端から気体に伴われて放出される
水量すなわちキヤリオーバ量Cφを第1図に示す
公知の気水分離器のそれと比較すると、第5図に
示す通り、本考案装置により、キヤリオーバ量は
極めて顕著に減少していることが分かる。
ただし、Cφ…キヤリオーバ量%すなわち
Cφ=WCφ/WG×100%
WG…気体供給量 Kg/s
WCφ…シエル筒から放出される水量Kg/s
v…内筒1を中昇する気体の流速m/s
叙上の実施例を通して述べた通り、本考案によ
れば、シエル筒内に配設され旋回羽根を有する内
筒と、該内筒と同心的に配設された外筒と、該外
筒に被冠されたデツキプレートとを具え上記外筒
の上端と上記デツキプレートとの間に切欠きを設
けてなる旋回羽根型気水分離器において、外筒と
シエル筒との間の環状空間を半径方向の仕切板に
より2室に縦区分し、上記切欠きを含まない一方
の室には下端が水面下に浸漬するとゝもに上端が
デツキプレートに固着される弧状ダクト板を設け
るとゝもに、上記切欠きを含む他方の室を区画形
成するデツキプレート上に上記シエル筒との間に
適宜間隙を存して弧状堰板を設けたことにより、
水と気体とのカウンターローの生起することを防
止し、広範囲の流量にわたつて気水分離性能の高
い気水分離装置を得ることができるから、本考案
は産業上極めて有益である。
れば、シエル筒内に配設され旋回羽根を有する内
筒と、該内筒と同心的に配設された外筒と、該外
筒に被冠されたデツキプレートとを具え上記外筒
の上端と上記デツキプレートとの間に切欠きを設
けてなる旋回羽根型気水分離器において、外筒と
シエル筒との間の環状空間を半径方向の仕切板に
より2室に縦区分し、上記切欠きを含まない一方
の室には下端が水面下に浸漬するとゝもに上端が
デツキプレートに固着される弧状ダクト板を設け
るとゝもに、上記切欠きを含む他方の室を区画形
成するデツキプレート上に上記シエル筒との間に
適宜間隙を存して弧状堰板を設けたことにより、
水と気体とのカウンターローの生起することを防
止し、広範囲の流量にわたつて気水分離性能の高
い気水分離装置を得ることができるから、本考案
は産業上極めて有益である。
第1図は公知の旋回式気水分離器の縦断面図、
第2図は第1図の−に沿つた平面図、第3図
は本考案の一実施例を示す縦断面図、第4図は第
3図の−に沿つた平面図、第5図は第1図及
び第3図の気水分離器によるキヤリオーバ量と内
筒内の気体流速との関係を示す比較線図である。 1……内筒、2……旋回羽根、3……デツキプ
レート、4……開口、5……外筒、6……切欠
き、7……環状間隙、8……シエル筒、9……ダ
クト仕切板、10……半円状堰板、11……水
面、12……半径方向仕切板。
第2図は第1図の−に沿つた平面図、第3図
は本考案の一実施例を示す縦断面図、第4図は第
3図の−に沿つた平面図、第5図は第1図及
び第3図の気水分離器によるキヤリオーバ量と内
筒内の気体流速との関係を示す比較線図である。 1……内筒、2……旋回羽根、3……デツキプ
レート、4……開口、5……外筒、6……切欠
き、7……環状間隙、8……シエル筒、9……ダ
クト仕切板、10……半円状堰板、11……水
面、12……半径方向仕切板。
Claims (1)
- シエル筒内に配設され旋回羽根を有する内筒
と、該内筒と同心的に配設された外筒と、該外筒
に被冠されたデツキプレートとを具え上記外筒の
上端と上記デツキプレートとの間に切欠きを設け
てなる旋回羽根型気水分離器において、外筒とシ
エル筒との間の環状空間を半径方向の仕切板によ
り2室に縦区分し、上記切欠きを含まない一方の
室には下端が水面下に浸漬するとゝもに上端がデ
ツキプレートに固着される弧状ダクト板を設ける
とゝもに、上記切欠きを含む他方の室を区画形成
するデツキプレート上に上記シエル筒との間に適
宜間隙を存して弧状堰板を設けたことを特徴とす
る気水分離器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1979010022U JPS6244729Y2 (ja) | 1979-01-31 | 1979-01-31 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1979010022U JPS6244729Y2 (ja) | 1979-01-31 | 1979-01-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55111527U JPS55111527U (ja) | 1980-08-05 |
JPS6244729Y2 true JPS6244729Y2 (ja) | 1987-11-27 |
Family
ID=28821850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1979010022U Expired JPS6244729Y2 (ja) | 1979-01-31 | 1979-01-31 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6244729Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5562908B2 (ja) * | 2011-06-21 | 2014-07-30 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 気水分離器及びそれを備えた沸騰水型原子炉 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5518102Y2 (ja) * | 1976-02-17 | 1980-04-25 |
-
1979
- 1979-01-31 JP JP1979010022U patent/JPS6244729Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55111527U (ja) | 1980-08-05 |
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