JPS6244606A - ホログラム原器のセッティング方法及びそのための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 童栗上且且朋分立 本発明は、ホログラム原器を用いてレンズやミラー等の
光学素子、特に非球面光学素子の面形状を精密に測定す
るためのホログラフィック干渉計に関するもので、さら
に詳しくはホログラフィック干渉計におけるホログラム
原器のセツティング方法及びそのための装置に関するも
のである。

ｌ米挟五 非球面光学素子の面形状を測定する方法として、基準と
なる゛非球面からの反射または透過波面と参照光波面と
の干渉により作成されたホログラム原器、または基準非
球面の光学設計値から電子計算機でホログラムパターン
を計算し電子ビーム描画法等で作成したいわゆる“計算
機ホログラム”をホログラム原器として利用し、被検非
球面光学素子からの反射または透過波面の前記ホログラ
ム原器による回折光と参照光とを干渉させ、その干渉縞
の量や形状から被検非球面光学素子の基準非球面からの
誤差を精密に測定するホログラフィック干渉計が知られ
ている。

また、干渉計としては、例えば、第２２図に示すフィゾ
ー型干渉計が知られている。すなわち、光源（レーザ）
ＬＳからの光はコリメーターレンズＣで平行光束とされ
る。その後、結像レンズＬ１と発散レンズＬ２との間に
傾設されたハーフミラ−からなるビームスプリッタＢＳ
で反射された光束は、その内の一部が、発散レンズＬ２
で発散された後参照球面Ｒで反射され、入射光（１１）
と同一の光路を通ってビームスプリッタＢＳ、ホログラ
ム原器Ｈ１結像レンズＬ１を介して０次の参照光となっ
て空間フィルターＳＦの開口を通過する。

一方、参照球面Ｒを透過し、被検光学素子（非球面凹面
鏡）Ｔで反射された光すなわち物体光は、逆進してビー
ムスプリッタＢＳを透過する。ビームスプリッタＢＳを
透過してホログラム原器で回１　　　　よ、ゎ４い。□
、よゆｌ、Ｉ７□７いヶー、、７カ７゜され、一方ホロ
グラム原器で回折された例えば−次の回折光は空間フィ
ルターＳＦの開口を通過し、上述の０次参照光と干渉ス
クリーンまたはフィルム上で干渉縞を形成する。

、Ｂが解°　しよ゛とする５　占 上述のホログラフィック干渉計において、被検物を精度
よく測定するには、ホログラム原器を、その作成の基準
となった基準配置位置に精度よく再配置することが前提
となる。このホログラム原器の配置誤差は直接にホログ
ラフィック干渉計の測定誤差、測定精度の低下に繋がる
。

従来、このホログラム原器のセツティング調整としては
、被検物及びホログラム原器を所定のホルダーに保持し
た後、生じた干渉縞を観察しながら、この干渉縞を最少
にするよう両者の位置を微調整する方法がとられていた
。この従来法は、そのセツティング作業が繁雑で長時間
を要する。またこの方法を利用するには、そもそも被検
物自体の製作精度が良いことを要求されるが、被検物が
精度よく製作されているか否かを高精度に測定する方法
として現在のところ水口グラフィック干渉法しかないた
め、高精度な被検物を得ることば困難であった。さらに
、上記従来法では、どの程度の精度で製作されているの
か未知の被検物を基準にして測定原器であるホログラム
原器の位置出しを行うという本末転倒な方法であった。

衾里■亘眞 本発明は係る従来の欠点に鑑みてなされたもので・その
目的は、ホログラフィ・ツク干渉計におけるホログラム
原器の新しいセツティング方法及びそのための装置を提
供することにある。

本発明の他の目的は、ホログラム原器のセツティングに
被検物を利用することのないホログラム原器のセツティ
ング方法とそのための装置を提供することにある。

本発明のさらに他の目的はホログラム原器のセツティン
グが簡単で、短時間に行うことができる新しいセツティ
ング方法とそのための装置を提供することにある。

丈班ｑ橿底 上記目的を達成するための本発明に係るホログラム原器
のセツティング方法は、ホログラフィック干渉計のコリ
メーターレンズの光軸と、参照レンズの光軸が一致する
ように調節する第１段階と、球面波発生用光学面を、そ
の光軸が前記参照レンズの光軸と一致し、かつその曲率
中心が前記参照レンズの焦点と一致するように配置する
第２段階と、非球面波発生用光学面を前記球面波発生用
光学面と光軸方向に所定距離隔てて配置する第３段階と
、前記非球面波発生用光学面からの非球面波と、参照波
のいずれか一方のホログラム原器による回折波面と、他
方の前記ホログラム原器による非回折波面との干渉縞と
が零となるように前記ホログラム原器を配置する第４段
階とから成ることを特徴とする。

また上記目的を達成するための本発明に係るホログラム
原器セツティング装置の構成の特徴は、ホログラフィッ
ク干渉計のコリメーターレンズの光軸と、参照レンズの
光軸を一致するように調整するための参照レンズ位置決
め手段と、光軸が前記参照レンズの該光軸と一致し、か
つそれの曲率中心が前記参照レンズの焦点と一致するよ
うに配置された球面波発生用光学面と、前記球面波発生
用光学面と光軸方向に沿って所定距離隔てて配置された
非球面波発生用光学面と、前記非球面波発生用光学面か
らの非球面波と参照光波のいずれか一方のホログラム原
器による回折波面と、他方の前記ホログラム原器による
非回折波面との干渉縞を観察するための観察光学系と、
前記ホログラム原器を保持するためのホログラム原器ホ
ルダーとから構成されたことにある。

光里■四果 本発明によれば、従来のように被検物をホログラム原器
セツティングに利用しないため、高精度に位置出しをす
ることができ、かつその作業も簡単かつ容易であり、ま
たそのためのセツティング装置の構成も簡単である。

１゜ 大流■ 以下本発明に関するホログラフィック干渉計の実施例を
詳述するつ 紅を体煎友ネ盪底 第１図に本発明に関するホログラフィック干渉計の光学
構成の全体図を示す。光源であるレーザ１０１からの光
は、ミラー１０２ａ、１０２ｂにより光路を変換された
後、集光レンズ１０３により集光される。この集光点近
傍にはピンホール１０４ａを有するピンホールレチクル
ｌｉ　１０４が配置されている。このピンホール１０４
ａを通過した発散光はピンホール１０４ａを２次光源と
するごとく作用する。なお、ミラー１０２ａと１０２ｂ
の間には１／４波長板１０５が配設されている。

コリメータレンズ１０６が、その焦点がピンホール１０
４ａに位置するように配設されている。

ピンホールＩＱ４ａを二次光源としてピンホール１０４
ａから射出された光束は、コリメータレンズ１０６によ
り平行光束とされる。コリメータレンズ１０６の後方に
は参照平面板１０７が配置されている。この参照平面板
１０７は前側平面１０７ａが装置光軸（コリメータ光軸
）ＯＬに対し垂直になるよう配置されている。また、そ
の後側平面１０７ｂは前側平面１０７ａに対し微小角度
傾斜しており・前側平面１０７ａでの反射光と後側平面
１０７ｂでの反射光との互いの干渉光が測定に影響を与
えないようになっている。

被検物Ｔが例えば非球面凹面鏡のような凹面物体である
場合、参照平面板１０７の後方には、参照レンズ１０９
が装置鏡筒１０８に取付けられて配置される。参照平面
板１０７を透過した平行光束は集束光束となり、点Ｐで
一度点収束した後、再び発散光となって被検物例えば非
球面凹面鏡Ｔに入射する。

被検物Ｔから反射された物体光と、参照平面板１０７の
前側平面１０７ａから反射された参照光とは、ピンホー
ルレチクル板１０４とコリメータレンズ１０６との間に
そのハーフミラ−面１１０ａを光軸Ｏ１に対し傾設した
プリズム型ビームスプリンタ１１０に入射する。物体光
と参照先はともにハーフミラ−面１１０ａで反射され、
後述するホログラム原器ホルダー２００に支持されたホ
ログラム原器３００に入射する。

レーザ１０１．ミラー１０２ａ、１０２ｂ。

１／４波長板１０５．ピンホールレチクル１０４゜ズー
ムスプリンタ１１０．コリメータレンズ１０６゜参照平
面板１０７．参照レンズ１０９．被検物Ｔ及びホログラ
ム原器ホルダー２００は１つの共通光学ベンチ１００上
に設置される。

ホログラム原器３００を透過した光は、結像レンズ１１
１．ハーフミラ−１１２を介して空間フィルター１１３
に結像される。この空間フィルター１１３は、参照光と
物体光の内、ホログラム原器３００で回折された一方の
光と、ホログラム原器３００で回折されなかった他方の
光のみを選択的に取り出すためのものである。より具体
的に述べるならば、第２２図に示す従来のフィゾー型干
渉計のように、この空間フィルター１１３は、例えば参
照平面板１０７からの参照光でホログラム原器３００に
より回折されなかった０次参照光と、被検物Ｔからの物
体光でホログラム原器３００で回折された一次物体光の
みを選択的に取り出し、参照光の回折光や物体光の０次
及び２次以上の高次回折光はカフ）するように作用する
。

空間フィルター１１３で選択された物体光と参照光は、
ズームレンズ１１４．ハーフミラ−１１５及び結像レン
ズ１１６を介してＴＶカメラ１１７の撮像面１１７ａ上
に参照光と物体光の干渉パターンを形成する。ＴＶカメ
ラ１１７の盪影像はモニターテレビ１１８とパーソナル
コンピュータで構成される干渉パターン解析装置１１９
へ送られ。る。なお、ハーフミラ−１１５を透過した参
照光と物体光は、即時現像型カメラ１２０のフィルム１
２０ａ上に撮像面１１７ａ上に形成されると同様の干渉
パターンを形成しこれをフィルム１２０ａに記録させる
。

結像レンズ１１１を通った光の一部は、ハーフ）　　　
　９つ−１，２ｏ□、ヤア□、お一つあ。

て配置されたレチクル板１２１上に結像される。

レチクル板１２１上の像は措影レンズ１２２を介してＴ
Ｖカメラ１２３で撮像され、切換回路１２４を介してモ
ニター１１８に写し出される。これらレチクル板１２１
．撮影レンズ１２２．ＴＶカメラ１２３．モニター１１
８は、被検物Ｔを測定光路中にセットするためのアライ
メント光学系１２５を形成する。

結像レンズ１１１，１１６．ハーフミラ−１１２゜１１
５、　空間フィルター１１３．ズームレンズ１１４、撮
影レンズ１２２．ＴＶカメラ１１７゜１２３及びカメラ
１２０は、光学ベンチ１３０上に載置される。この光学
ベンチ１３０は、後述するオフアクシス角調整のため、
コリメータレンズ１０７と参照レンズ１０９の合成光学
系の射出瞳ＥＰと共役な点ＬＣを中心に公知のマイクロ
送り機構１３１の駆動により旋回するアーム１３１に固
設されている。なお、被検物が平面物体の場合は参照レ
ンズ１０９は不要であり、このときは旋回中心ＬＣはコ
リメータレンズ１０７の射出瞳中心と共役な位置にする
。

以上述べたように、本ホログラフィック干渉計の型式は
フィゾー型であるから、光学要素数をトワイマン・グリ
ーン型やマンハツエンダー型よりも大幅に低減できる。

また本干渉計は、従来のフィゾー型干渉計と異なり、そ
のビームスプリフタをコリメータレンズとピンホール１
０４ａの間の発散光束中に配置したため、コリメータレ
ンズによる平行光束中にビームスプリンタを設ける従来
のものに比してそのハーフミラ−面の面積を１７４程度
に小さくできる。

さらに、このハーフミラ−面の狭小化によりビームスプ
リッタをプリズム型で構成でき、後述するように、ホロ
グラムパターン描画のための演算情報、描画情報の減少
化を実現できる。また、ビームスプリッタが小型になっ
たため、その製作精度を著しく高めることができ、また
その製作コストも低減できる。

さらにまた、ホログラム原器もこのビームスプリンタに
よる収束反射光束内に配置する構成としたため、小型化
でき、コスト低減かつ高精密描画を可能にしている。こ
れにより、大口径の被検物や非球面度の大きい非球面被
検物をも高精度に測定できるホログラフィック干渉計が
実現できた。

Ｂ、ホログラム原器 第２図はホログラム原器の構成を示す平面図である。ホ
ログラム原器３００は中央に計算機ホログラムよりなる
ホログラムパターン部３０１を有する。従来の干渉計は
参照光と物体光の分離合成にミラー型のビームスプリッ
タを利用していた。

このミラー型ビームスプリッタの場合、ミラー表面とミ
ラー裏面（ハーフミラ−面）が平行に形成゛されている
とそれぞれの面で反射した光が互いに干渉して測定に悪
影響を与えるため、従来のミラー型ビームスプリンタは
ミラー表面とミラー裏面を平行にせず微小角傾斜させて
いた。このため光軸に対する対称性がくずれるため、従
来たとえオンアクシス型のホログラム原器であっても、
そのホログラムパターンは、全象限について計算して描
画データを得なければならなかった。しかし、本ホログ
ラフィック干渉計では、ビームスプリッタ１１０は前述
したようにプリズム型ビームスブリッタであるから、光
軸に対する対称性が保存されており・オンアクシス型ホ
ログラム原器のホログラムパターンは同心円パターンと
なりかつ点対称となる・このため、そのパターン計算及
び描画データの演算は、第４図に示すように、（ｘ、ｙ
）の第１象限についてのみ行い、他の（−ｘ、ｙ）、（
−ｘ、−ｙ）、（Ｘ、−ｙ）の第２、第３、第４象限に
ついては第１象限のデータを単純に座標変換すればよく
、演算経費、演算時間の短縮と、描画データの低減をす
ることができる。逆に、従来と同程度の経費と時間をホ
ログラムパターンの演算と描画データの作成に費すなら
ば、それらデータはより高精度なものとなりうる。

ホログラムパターン部３０１の周囲には、ホログラムパ
ターンを電子ビームのスキャンニングで描画する行程で
同時に描画された十字型の歪検査パターン３０２が形成
されている。この歪検査パ□　　　　　　ターンは予め
作成されている基準パターンと照合され、相互の位置ず
れ量がらホログラムパターンの歪量を検査できるように
なっている。

また、歪検査パターンの外側２が所には白黒比検査パタ
ーン３０３が形成されている。この白黒比検査パターン
は、例えば第３図に示すような黒部３０４と白部３０５
を同面積で交互に平面的に配列してなる市松模様のパタ
ーンが利用される。

この白黒比検査パターン３０３は、ホログラムパターン
３０１を電子ビーム描画する行程で同時に描画されるた
め、この白黒比検査パターン３０３の白黒比をデンシト
メーターで測定すれば、ホログラムパターン自体の白黒
比を間接的に知ることができる。

ホログラム原器３００の四隅には、このホログラム原器
３００をホログラム原器ホルダー２００に取付けるとき
の位置合せ用の十字線型の位置合せマーク３０６が形成
されている。図中下側の二つの位置合せマークの下方に
はＬ字型の上下判別マーク３０７が形成されている。

Ｃ，ホログラム原器ホルダー 第５図ないし第７図はホログラム原器ホルダー２００を
示す図である。光学ベンチ１００に載置された軸受２０
１，２０２にはシャフト２０３が光軸０２（第１図参照
）方向に平行に摺動可能に支持されている。シャフト２
０３にはビス２０４゜２０４によりＺ軸方向（光軸０２
方向）移動ステージ２０５が固着されている。軸受２０
１にはシリンダー２０６が取付けられ、その中にバネ２
０７が嵌挿されている。一方軸受２０２にはＸ軸送りネ
ジ２０８が螺合されている。このＸ軸送りネジ２０８は
鋼球２０９を介してバネ２０７と協働してＺ軸方向移動
ステージ２０５を挟持し、その送りによりステージ２０
５をＺ軸方向にそって前後させる。

Ｚ軸方向移動ステージ２０５のステージ面２０５ａには
鋼球２１０を介してＸ−Ｙ方向移動ステージ２１１が載
置されている。このステージ２１１の裏面には、第６図
に示すように、ビス２１２が植設されており、Ｚ軸方向
移動ステージ２０５に形成された開口２１３の後部に渡
された棒２１４との間にバネ２１５が掛けられている。

このバネ２１５の引張力によりｘ−ｙ方向移動ステージ
２１１はＺ軸方向移動ステージ２０５のステージ面２０
５ａ方向に引き付けられ、移動面の安定が図られる。

またＺ軸方向移動ステージ２０５には、第５図に示すよ
うに、２つのＹ輸送りネジ２１６．２１７と１つのＸ軸
送りネジ２１８とが取付けられている。Ｘ−Ｙ方向移動
ステージ２１１の側面はベアリング２１９を介してガイ
ド２２０を有しており、これらガイド２２０は鋼球２２
１を介して送りネジ２１６，２１７，２１８により押圧
されている。

Ｘ−Ｙ方向移動ステージ２１１は、さらにＸ軸通リネジ
２１８の取付位置と対向側部に切欠部２２２を有してい
る。切欠部２２２の側面とＺ軸方向移動ステージ２０５
の起立片２２４との間には弾圧体２２３が挿着されてい
る。

弾圧体２２３は、第６図に示すように、シリンダ２２５
と、そのシリンダ内に挿入されたピストン２２６と、こ
のピストン２２６に常時押圧力を与えるためにシリンダ
２２５内に嵌挿されたバネ２２７とから構成される装置 同様に、ステージ２１１は切欠部２２Ｂ、２２９がＹ輸
送リネジ２１６，２１７に対向して形成されており、ス
テージ２０５の起立片２３０，２３１とこれら切欠部の
側面との間に弾圧体２３２゜２３３を介在させている。

弾圧体２３２，２３３の構成は前記弾圧体２２３と同様
である。

上述のホログラム原器ホルダーの構成において、送りネ
ジ２１６．２１７の同方向、同量の送りによって、ステ
ージ２１１は、第１０Ｂ図に示すように、移動量Ｙをう
る。また、送りネジ２１８の送りによって、ステージ２
１１は、第１０Ａ図に示すように移動量Ｘを得る。さら
に、送りネジ２１６．２１８を固定し、送りネジ２１７
のみを送ることによって、第１０Ｃ図に示すように、ス
テージ２１１は回転角θの回動がなされる。

Ｘ−Ｙ方向移動ステージ２１１は、その中央に略矩形の
開口部２３５を有し、左上隅と右下隅にｊ　　　ヨうｔ
、ＩＯ２３６，２３７カ、つ、あわ７５．６゜。ゎら円
形開口２３６．２３７はＺ軸方向移動ステージ２０５に
形成された開口２３８と対応している。

開口２３８には、ホロクラム原器３００上の位置合せマ
ーク３０４を観察するための顕微鏡用対物レンズ２４０
が挿着されている。

またステージ２１１の開口部２３５の周辺には円形の溝
２４１が形成されており、この溝には図示なき真空ポン
プのノズル２４２がパイプ２４３を介して連結されてい
る。さらにステージ２１１の外側面にはガイド片２４４
が固着されている。

これによりホログラム原器３００はガイド片にそってス
テージ２１１上に載置され真空ポンプで溝２４１内の空
気を吸収することによりステージ２１１上に大気圧で密
着される。

シャフト２０３の先端及びステージ２０５に植設された
ポール２４５の先端にはアーム２４６゜２４７が取付け
られており゛、そのアーム２４６゜２４７の先端には、
発光ダイオード２４８と熱線吸収フィルター２４９とが
それぞれ収納されており、ステージ２１１上に載置され
たホログラム原器の位置合せマーク３０４の照明に利用
される。

第８図は、上述の構成をもつホログラム原器ホルダー２
００に取付けられたホログラム原器アライメント用光学
系２５０を模式的に示す斜視図である。アライメント用
光学系２５０は、上述した発光ダイオード２４８．熱線
吸収フィルター２４９゜対物レンズ２４０．ミラー２５
１及びビームスプリッタ２５２からなる第１光路２５３
と、発光ダイオード２４８．熱線吸収フィルター２４９
．対物レンズ２４０．ミラー２５４及びビームスプリン
タ２５２からなる第２光路２５５と、第１光路２５３と
第２光路２５５のビームスプリンタ２５２で合成された
接眼光路２５６とから構成されている。

この接眼光路２５６は図示しない公知の移動手段で光軸
０．と垂直な平面（ｘ−ｙ平面）内で移動するレチクル
板２５７，２５８と接眼レンズ２５９とを有し、レチク
ル板２５７，２５８には第９図に示すような円形指標２
６０，２６１が形成されている。

以上述べたように、本ホログラム原器ホルダーによれば
、従来のようにＸ方向移動ステージとＹ方向移動ステー
ジ及びθ回転用ステージの三重ステージ構造にすること
なく、これらＸ、Ｙ、θに関する移動を１つのステージ
において行うことができる。またそのための構成も極め
て簡素で、かつ高精度の移動制御及び位置出しができる
利点を有する。

Ｄ、オフアクシス−の測　装置 干渉計による測定法には、通常オンアクシス型の測定法
とオフアクシス型の測定法がある。

オンアクシス型は被検物からの物体光と参照平面からの
参照光が同軸な測定型式を言い、測定に使用するホログ
ラム原器の空間周波数を低くできるため、非球面度の大
きな被検物も測定できるメリットを持つ。しかし反面、
ホログラム原器による０次から高次までの回折光が、そ
の焦点距離は異なるけれどもすべて光軸上に重畳され、
例えば−次回折光を取り出すためにその焦点位置に空間
フィルターを配置しても、そのフィルター内を０次や２
次以上の高次回折光の一部もこの空間フィルターを通過
する。そのため、光軸を含む中心部が測定不可能部とな
る欠点がある。

一方、オフアクシス型は、上記オンアクシス型のような
測定不可能部は生じないが、オンアクシス型に比してホ
ログラム原器の空間周波数が高くなるため、ホログラム
原器の製作とアライメント上の制約から、例えば非球面
度の小さな非球面被検物しか測定できない。

さらにオフアクシス角は、被検物の種類や非球面度の量
により異なるため、ホログラム原器を作成するときは予
め最適なオフアクシス角を決めて作成する。そこで、本
実施例のホログラフィック干渉計は、オンアクシス及び
オフアクシスの両型式の測定が可能でかつオフアクシス
角を可変にした干渉計として構成されている。

第１１図は、オンアクシス測定とオフアクシス測定を模
式的に示す光学配置図である。オンアクシス測定の場合
は、参照平面板１０７はコリメー゛　　　　　　ターレ
ンズ１０６の光軸０１に垂直に配位される。

物体光と参照光の干渉パターンを観察するための観察光
学系すなわち空間フィルター１１３．ズームレンズ１１
４．結像レンズ１１６及び撮像管１１７は、光軸０１と
垂直に交わる光軸０２上に配列される。

物体光及び参照光のそれぞれのホログラム原器３００に
よる回折光のうちの１次回折光の焦点位　　−置には、
空間フィルター１１３が配置されており、物体光と参照
光それぞれの１次回折光どうしの干渉縞を撮像管で受像
しあるいは写真撮影することになる。

他方、オフアクシス測定の場合は、破線で示す、ように
、参照平面１０’７を角度α回転させる（この角度αを
オフアクシス角という）。観察光学系は旋回中心ＬＣを
中心に光学ベンチ１３０とともに角度β旋回される。こ
こで旋回角βは（ここでｆはコリメーターレンズの焦点
距離）として定められる。

これにより、物体光のホログラム原器３００による１次
回折光と参照光のＯ次回折光のみが空間フィルター１１
３’　　（オフアクシス時の空間フィルター１１３のこ
と）を通過し、両方の干渉縞を観察、撮影できるよう°
に構成されている。

オフアクシス角αは参照平面からの反射光（参照光）の
うちビームスプリンタ１１０のハーフミラ−面１１０ａ
を透過し、ピンホールレチクル１０４上に出来る像Ｓの
結像位置から知ることができる。すなわち、結像位置と
光軸Ｏ８とのずれ量は微小角のオフアクシス角αに比例
する。

第１２図はピンホールレチクル１０４の構造を示す平面
図である。レチクル１０４の一端にはピンホール１０４
ａが形成され、そこから他端側へ長手方向にそってスケ
ール４０１が形成されている。スケール４０１はオフア
クシス角αに対応するスポットＳの光軸０１（ピンホー
ル１０４ａの中心）からのずれ量に応じて目盛付けされ
、それら目盛の下方にオフアクシス角の目盛数字４０２
が印字しである。

第１３図は、オフアクシス角αをセットするときに利用
するオフアクシス角調整用顕微鏡４１０の光学配置を示
す図である。顕微鏡４１０は対物レンズ４１１を有し、
レチクル１０４上のスケール４０１及びオフアクシス角
の目盛数字４０２からの光を平行光にし、ミラー４１２
で反射したのち結像レンズで絞り４１４上に結像する。

接眼レンズ４１５を介してスケール像とオフアクシス角
の目盛数字像とを観察する。

第１４図はオンアクシス用調整顕微鏡４２０の光学配置
を示している。前述のオフアクシス角調整用顕微鏡４１
０との構成上の相異は、ミラー４１２がハーフミラ−４
２１に変更され、かつ対物レンズ４１１がなく、干渉計
の集光レンズ１０３が結像レンズ４１３と協働して結像
作用をする点である。

ピンホールレチクル１０４のスケール４０１の走り方向
を参照平面板１０７の回転方向と平行にしたことにより
、スポットＳがスケール４０１から上下方向にずれて投
影された場合は、参照平面板１０７０面倒れや、光軸０
１回わりの回転が発生していると判別できるから、これ
らのチェックもできる。

プ （測定光学系のオンアクシス型配列） ａ−１＝　　オンアクシス用調整顕微鏡４２０を第１図
に２点鎖線で示すように、コリメーターレンズ１０６の
光軸０１上にセットする。

ａ−２＝　　顕微鏡４２０のハーフミラ−４２１を透過
し集光レンズ１０３でピンホール１０４ａ上に集光され
た光束の参照平面板１０７による反射スポット像Ｓが再
びピンホール １０４ａ上に結像されたかどうかを接眼レンズ４１５で
観察する。

スポットＳがピンホール１０４ａと一致したときのみス
ポット光は接眼レンズ４１５で観察される。接眼レンズ
４１５を通して’　　　　　　：）−、；Ｈ、ｙ　）　
Ｓ力＜ｗｔヶ、−ようａ：　＃　ｕａ　ｖｍ＋つ１０７
を調整する。スボッｌ−３が観察されたとき参照平面板
１０７は光軸０１と垂直になり、干渉計はオンアクシス
型配列となる。

（調整用レンズのセツティング） ａ−３：　　切換スイッチ１２４を切り換えてアライイ
メント光学系１２５のＴＶカメラ１２３からの映像がモ
ニターテレビ１１８に写し出されるようにセットする。

モニターテレビ１１８には、参照平面板１０７からのピ
ンホール１０４ａと共役なスポット像がレチクル板１２
１の十字線の交点と合致している状況が写し出される。

ａ−４：　　干渉計の装置鏡筒１０８に参照レンズ１０
９を有する参照レンズホルダー１０９ａをを図示せぬ公
知゛の保持手段で取付ける。

ａ　−５：　　調整用ミラー５０１を有するホルダ−５
０００基準面５０２が、参照レンズホルダー１０９ａの
基準面１０９ｂ　（第１５Ａ図参照）に当接するように
、ホルダー５００を取付はネジ５０３で参照レンズホル
ダー１０９ａに取付ける。

ａ−６：　　光学ベンチ１００上にオートコリメーター
５１０をｕａ置し、第１５Ｂ図に示すよう□　に、その
十字線ターゲット５１１がレチクル５１２の丸指示５１
２ａと一致するよう、オートコリメーター５１０を調整
用ミラー５０１に正対させる。その後、このオートコリ
メーター５１０が動かないように光学ベンチｌＯＯ上に
固定する。

ａ−７：　　ｆ、ＴｉＱ整用ミラー５０１をホルダー５
００ごと参照レンズホルダー１０９ａから取りはずす。

ａ−８：　　公知の図示なき５軸ホルダー（ｘ、ｙ、２
、φ＾、φ、の５軸；φえ、φ６は横方向及び縦方向の
傾斜方向を示す）に保持された調整用レンズ５２０を、
参照レンズ１０９とオートコリメーター５１０の間に配
置する。このとき、調整用レンズ５２０は、第１５Ａ図
に示すように、調整用レンズ５２０の球面波５２０ａを
発生するための球面５２１の曲率中心Ｑ、が参照レンズ
１０９の焦点Ｆと一致し、かつ調整用レンズの平面５２
２がオートコリメーターの光軸Ｏ３と垂直になるように
配置される。

この調整用レンズ５２０のセツティングは、モニタテレ
ビ１１８に写し出される参照平面板１０７からの参照光
と、調整用レンズ５２０の球面５２１からの物体光（球
面波）との干渉縞を一色状態にすることにより粗な位置
出しを行い、続いて、オートコリメーターの接眼視察像
によりターゲツト像５′１１とレチクル像５１２ａとを
一致させることにより精密位置出しを行う。

（型用ホログラム原器のセツティング）ａ−９：　　＃
Ａ整用レンズ５２０の非球面波５２３ａを発生するため
の非°球面５２３が前述のセツティング完了位置に位置
するとき、この非球面５２３からの物体光と参照平面板
１０７からの参照光とによる干渉で発生した干渉パター
ンから成る調整用ホログラム原器、またはそのような干
渉パターンを計算機で演算により求め、その演算結果に
基づいて電子ビーム描画法で作成した計算機ホログラム
から成る調整用ホログラム原器を、前述したホログラム
原器ホルダー２００のＸ−Ｙ方向移動用ステージ２１１
上に真空吸着させる。

ａ−１０：切換スイッチ１２４を切り換えて、干渉縞観
察光学系のＴＶカメラ１１７の映像がモニタテレビ１１
８に映し出されるようにする。

ａ−１１：送りネジ２０８，２１６，２１７及び２１８
を調整して、調整用レンズ５２０の非球面５２３からの
物体光（非球面波）の調整用ホログラム原器による例え
ば１次回折光と、参照平面板１０７からの参照光の例え
ばＯ次回折光との空間フィルター１１３における干渉縞
が一色状態になるようにす゛　　　　　　　　　　る。

これにより調整用ホログラム原器がＸ、ｙ、ｚ及びθ方
向に関して調整されて位置出しが完了した。

（測定用ホログラム原器のセツティング）ａ−１２：図
示しないレチクル移動ノブを調整して、上記ステップ（
ａ＝１１）で位置出しされた調整用ホログラム原器の位
置合せマーク３０６に、第９図に示す接眼レンズ２５９
の観察視野例のように、レチクル板２５７゜２５８の円
形指標２６０，２６１を合致させる。

ａ−１３：念のため、オートコリメーター５１０を覗い
てターゲツト像５１１とレチクル指標５１２ａとの合致
しているか否か、すなわち調整用レンズ５２０が位置出
しされた状態を正しく保っているか否かを再確認する。

正しく位置出しされていればステップ （ａ−９）から（ａ−１２）のセツティングは正しく行
なわれたと判定し、この後はオートコリメーター５１０
と調整用レンズ５２０は不要なので取りはずす。

ａ−１４：　１！整用ホログラム原器をステージ２１１
から取りはずし、その代りに測定用水ログラム原器３０
０をステージ２１１上に載置し、真空吸着する。

ａ−１５：　ホログラム原器ホルダーの接眼レンズ２５
９を覗きながら、前記ステップ（ａ　−１２）で位置出
しされたレチクル２５７．２５８の円形指標２６０，２
６１とステップ（ａ−１４）で１ｌｉｉ＆された測定用
ホログラム原器３００の位置合せマーク３０６とが合致
するように送りネジ２１６，２１７゜２１８を二周整し
、ステージ２１１こ゛とホログラム原器を移動させ位置
出しする。

（被検物のセツティング） ａ−１６：被検物Ｔを公知の６軸ホルダー（ｘ、ｙ、２
、φ１、φ８、θの６軸：θは光軸口わりの回転）にセ
ットする。

ａ−１７：切換スイッチ１２４を切り換えてアライメン
ト光学系１２５のテレビカメラ１２３からの映像がモニ
タテレビ１１８に写し出されるようにする。モニタテレ
ビ１１８の画面上のレチクル板１２１の十字線像に被検
面からの一次回折スポット光（通常０次回折光より明る
い）が合致されかつ最小のスポットとなるように、被検
物Ｔを保持するホルダーを調整する。

ａ−１８：次に、切換スイッチ１２４を切り換え、干渉
縞観察光学系のテレビカメラ１１７の映像をモニタテレ
ビ１１８に送るようにする。これによりモニタテレビ１
１８に干渉縞を映し出し、ホルダーを微調整して干渉縞
の方向及びピッチが計測に適するようにする。

ｂ）　オフアクシス測定型式の場合のセットアンプ オフアクシス測定型式の場合は、上述のオンアクシス測
定の場合に、さらに参照平面板１０７の傾斜調整作業が
追加されるだけである。この参照平面板１０７の傾斜作
業は、前述のオンアクシスのセットアツプステップのス
テップ（ａ−１５）とステップ（ａ−１６）の間、すな
わち測定用ホログラム原器のセソティング完了後に行わ
れる。この参照平面板の傾斜作業は以下のステップで実
行される。

ｂ−１：　　オフアクシス調整用顕微鏡４１０を、第１
図に２点鎖線で示すようにピンホールレチクル１０４の
スケール４０１の前方で所望のオフアクシス角の目盛数
字に対応した位置付近に配置する。次に、接眼レンズ４
１５を覗きながら所望のオフアクシス角の目盛線、例え
ば２．５”の目盛線が視野中央にくるように顕微鏡の位
置出しをする。

ｂ−２：　　参照平面板１０７を傾けて、それによる反
射スポットＳが所望の目盛線（例えば２．５°の目盛線
）の交点と一致するようにする。参照平面板１０７の傾
斜調整が終了したら顕微鏡４１０を取りはずす。

ｂ−３：　　切換スイッチ１２４を切り換え、アライメ
ント光学系１２５のテレビカメラ１２３１　　　　　　
　　　、）映像が工、ヶ５．．ｗｔｔｓ、、：映、出さ
れるようにする。そしてこのモニタテレビ１１８上に映
し出されたレチクル１２１の十字線の交点上に参照平面
板１０７からの反射スポット像が合致するように、マイ
クロ機構１３０を操作して光学ヘンナ１３０を旋回中心
ＬＤを中心に回転させる。

尖亙孤立炎展 （１１参照平面板１０７の代りに、参照レンズ１０９の
最後面を利用してもよい。この場合、オフアクシス測定
を実行するには、この参照レンズを傾斜させるか又は偏
心させるかすればよい。

（２）オフアクシス角のチェックのためのピンホールレ
チクル１０４のスケール４０１の代りに、第１６図に示
すように、ラインセンサー６０１を利用し、スポットＳ
を直接受光し、その受光素子位置からオフアクシス角を
検出してオフアクシス角を調整するようにしてもよい。

（３）　　ホログラム原器３００のセツティングのため
の位置合せマーク３０６及びアライメント光学系２５０
の変形例は多数考えられるが、そのいくつかを以下に節
単に述べる。

（３−１）第１７図に示す例は、位置合せマーク３０６
の対物レンズ２４０による像を直接エリアセンサー６０
２で受像し、その位置を素子番地情報として記憶し、測
定用ホログラム原器の位置合せマークが同一素子番地に
位置するように調整する。

（３−２）第１８図に示す例は、ホログラム原器３００
の位置合せマークとして中抜き円形マーク６０６を利用
し、アライメント光学系２５０のレチクル板２５７，２
５８に、この円形マーク６０６とネガ−ポジの関係にあ
る黒丸マーク６０７を配し、その後に受光素子６０８を
配置する構成としている。

これによりホログラム原器３００の円形マーク６０６と
レチクル２５７，２５８の黒丸マーク６０７を合致させ
、受光素子６０８からの出力がゼロとなるように調整用
ホログラム原器をセツティング後、レチクル２５７．２
５８を移動させる。その後の測定用ホログラム原器のセ
ツティングは、同様に受光素子６０８からの出力がゼロ
になるように測定用ホログラム原器を調整する。

（３−３）第１９Ａ図は、ホログラム原器３００の位置
合せマーク３０６の代りに、細かい第１の同心円マーク
６０９を設け、またこの第１の同心円マーク６０９と同
一形状の第２の同心円マーク６１０を、例えばＺ軸方向
移動ステージ２０５に対物レンズ２４０の前方でＸ−Ｙ
方向移動ステージ２１１の極近傍に、対物レンズ２４０
の光軸と垂直な平面内で移動可能に設置した構成を示す
。

この第２同心円マーク６１０を有する基準板６０８は、
両マーク６０９．６１０により生ずるモアレ縞６１１　
（第１９Ｂ図参照）が消失するよう・に移動させられる
。このときの基準板６０８の調整位置を基準として、測
定用ホログラム原器の第１の同心円マークと基準板の第
２の同心円マークとのモアレ縞が現われないように測定
用ホログラム原器を位置出しする。

（３−４）第２０図に示す例は、ホログラム原器３００
の位置合せマークの代りに、それをフレネルレンズ６２
０で構成する。すなわち、光源からの光を４分割ディテ
クタ６２１で受光し、各分割素子面からの出力が等しく
なる、すなわちディテクタ６２１の中心とフレネルレン
ズ６２０の光軸とが一致するように、ディテクタ６２１
を移動させ、その移動位置を基準位置として、測定用ホ
ログラム原器のセツティングをする。

なお、フレ名ルレンズ６２０に非点収差をもたせてお（
とディテクタ６２１の各分割素子面からの出力差により
Ｚ軸すなわち光軸方向のホログラム原器のずれも調整で
きる。

（４）調整用ホログラム原器のセツティングにおいて、
球面５２１と非球面５２３とを有する調整用レンズ５２
０を利用する代りに、第１　　　　　　　　２１　Ａ図
、第２１Ｂ図に示すように、球面５２１のみを有する調
整用レンズ６５０を利用する。

すなわち、まず、前述のステップ（ａ−３）からステッ
プ（ａ　−８）を実行して、球面５２１の曲率中心Ｑ、
と参照レンズ１０９の焦点Ｆとを一致させ、かつ平面５
２２がコリメーター光軸０．と垂直になるように調整用
レンズ６５０をセツティングする。次に、この調整レン
ズ６５０を第２１Ｂ図に示すように予め定めた距離りだ
け後退（または前進）させる。これにより球面５２２か
らの反射波面は完全な球面波でなく、収差を有する、換
言すれば非球面波となって射出される。調整用ホログラ
ム原器を、この非球面波と参照平面板からの参照光とに
よる干渉パターンとして作成しておけば、第２１Ｂ図の
ように調整用レンズ６５０を移動させた後、前述のステ
ップ（ａ−９）ないしステップ（ａ−１１）をその調整
用ホログラム原器を使用して実行することにより、その
調整用ホログラム原器を正しくセツティングでき、ひい
てはステップ（ａ−１２）ないしステップ（ａ−１５）
により測定用ホログラム原器を正しくセツティングする
ことができる。

（５）第２図及び第４図に基づいて詳述したホログラム
原器３００のホログラムパターン３０１は振幅型のホロ
グラムパターンであるが、本発明はこれに限定されるも
のでな（位相型のホログラムパターンを利用してもよい
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るホログラフィック干渉計の全体を
示す光学配置図、第２図はホログラム原器の構成を示す
平面図、第３図はホログラム原器に施されている白黒比
検査パターンの構成を示す図、第４図はホログラムパタ
ーンの一例をその第１象現について示した図、第５図は
ホログラム原器ホルダーを示す正面図、第６図は第５図
のｖｒ−■面断面図、第７図は第５図の■−■視断面断
面図８図はホログラム原器ホルダーのアライメント光学
系を示す斜視光学配置図、第９図はホログラム原器ホル
ダーのアライメント光学系の接眼視野の一例を示す図、
第１０Ａ図ないし第１０Ｃ図、はホログラム原器ホルダ
ーの作用を示す模式図、第１１図はオンアクシス測定と
オフアクシス測定の光学配置関係を示す部分図、第１２
図はピンホールレチクルの一例を示す図、第１３図はオ
フアクシス調整用顕微鏡の構成を示す光学配置図、第１
４図はオンアクシス調整用顕微鏡の構成を示す光学配置
図、第１５Ａ図は本発明のホログラフィク干渉計のセツ
ティング調整を説明するために参照レンズ、調整用ミラ
ー、調整用レンズ及びオートコリメーター〇四者の配置
関係を示す図、第１５Ｂ図はオートコリメーターの接眼
観察視野の一例を示す図、第１６６図はピンホールレチ
クルの変形例を示す光学配置図、第１７図ないし第２０
図はそれぞれホログラム原器の位置合せマーク及びアラ
イメント光学系の変形例を示す図、第２１Ａ図及び第２
１Ｂ図は調整用ホログラム原器の他のセツティング方法
を示す図、第２２図は従来のフィゾー型干渉計の光学配
置図である。 １０１・・・・・・レーザー １０４・・・・・・ピンホールレチクル１０６・・・・
・・コリメーターレンズ１０７・・・・・・参照平面板 １０９・・・・・・参照レンズ Ｔ・・・・・・被検物 １１０・・・・・・ビームスプリッタ １１３・・・・・・空間フィルター １１７．１２３・・・・・・テレビカメラ２００・・・
・・・ホログラム原器ホルダー２０５・・・・・・Ｚ軸
方向移動ステージ２１１・・・・・・ｘ−ｙ方向移動ス
テージ２０８．２１６．２’１７，２１８・・・・・・
送りネジ２２３．２３２，２３３・・・・・・弾性体２
１５・・・・・・スプリング ２４０・・・・・・対物レンズ ３００・・・・・・ホログラム原器 ３０１・・・・・・ホログラムパターン１　　　　　　
３０２・・・・・・歪検査パターン３０６・・・・・・
位置合せマーク ３０３・・・・・・白黒比検査パターン４１０・・・・
・・オフアクシス調整用顕微鏡４２０・・・・・・オン
アクシス調整用顕微鏡５０１・・・・・・調整用ミラー ５２０．６５０・・・・・・調整用レンズ５１０・・・
・・・オートコリメーター第２図 ３０７　　　　　　　　　　　　　　　　　　刃７第３
図 第４図 （ゞ 第５図 第１２図 第１３図　　　　　　第１４図 ４１Ｚ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４２
１　　　　１０３第２０図 手続補正書 ２９発明の名称　　　ホログラム原器のセツティング方
法及びそのための装置 ３、補正をする者 事件との関係　　出願人 名　称　　東京光学機械株式会社 ４、代理人 ５、補正命令の日付　　自　　発 （１）　　発明の名称を「ホログラム原器のセツティン
グ方法及びそのための装置」に訂正する。 （２、特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （３）明細書第６頁第５行ないし第７行の“ホログラフ
ィック・・・・・・・・・干渉計における”を削除する
。 （４）同書第９頁第７行ないし第１０行の“ホログラフ
ィック干渉計・・・・・・・・・他の目的は、゛を削除
する。 （５）同書第９頁第２０行ないし第１０頁第１行の“ホ
ログラフィック干渉計の”を削除する。 （６）同書第１０頁第１６行の“ホログラフィック干渉
計の”を削除する。 （７）同書第１２頁第１行の“関する”の次に「ホログ
ラム原器のセツティング装置を含む」を加入する。 （８）同書第１２頁第５行の“関する”を「に係る上記
ホログラム原器のセツティング装置を含む」に訂正する
。 （９）同書第４５頁第９行の“係る”の次に「ホログラ
ム原器のセツティング装置を含む」を特徴する 特許請求の範囲 （１１コリメーターレンズの光軸と、参照レンズの光軸
が一致するように調節する第１段階と、球面波発生用光
学面を、その先軸が前記参照レンズの光軸と一致し、か
つその曲率中心が前記参照レンズの焦点と一致するよう
に配置する第２段階と、 非球面波発生用光学面を前記球面波発生用光学面と光軸
方向に所定距離隔てて配置する第３段階と、 前記非球面波発生用光学面からの非球面波と、参照波の
いずれか一方のホログラム原器による回折波面と、他方
の前記ホログラム原器による非回折波面との干渉縞とが
零となるように前記ホログラム原器を配置する第４段階
と から成るホログラム原器のセツティング方法。 （２）前記球面波発生用光学面と前記非球面波発生用光
学面が、１つの光学部材により形成されており、前記第
２段階と前記第３段階が同時に実行されることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のホログラム原器のセツ
ティング方法。 （３）前記非球面波発生用光学面が、前記球面波発生用
光学面を前記光軸に沿って前記所定距離だけ移動させる
ことにより得られることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のホログラム原器のセツティング方法。 （４）　　コリメーターレンズの光軸と、参照レンズの
光軸を一致するように調整するための参照レンズ位置決
め手段と、 光軸が前記参照レンズの該光軸と一致し、かつそれの曲
率中心が前記参照レンズの焦点と一致するように配置さ
れた球面波発生用光学面と、前記球面波発生用光学面と
光軸方向に沿って所定距離隔てて配置された非球面波発
生用光学面と、 前記非球面波発生用光学面からの非球面波と参照光波の
いずれか一方のホログラム原器による回折波面と、他方
の前記ホログラム原器による非回折波面との干渉縞を観
察するための観察光学系と、前記ホログラム原器を保持
するためのホログラム原器ホルダーと から構成されたことを特徴とするホログラム原器セツテ
ィング装置。 （５）前記球面波発生用光学面と前記非球面波発生用光
学面が、それぞれ１つの調整用レンズの光学面として形
成されたことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の
ホログラム原器セツティング装置。 （６）　　前記非球面波発生用光学面が、前記球面波発
生用光学面を前記所定距離だけ前記光軸に沿って移動す
ることによって得られるように、前記球面波発生用光学
面が兼用されていることを特徴とする特許請求の範囲第
４項記載のホログラム原器セツティング装置。 （７）前記調整用レンズが、前記球面波発生光学面の光
軸と垂直な平面を、さらに形成されており、該平面を前
記参照レンズの光軸と垂直に配置す１　　　　　　　る
ためのオートコリメーターを有していることを特徴とす
る特許請求の範囲第５項記載のホログラム原器セツティ
ング装置。 （８）前記参照レンズ位置決め手段が、前記参照レンズ
を保持する参照レンズ用ホルダーに形成された基準当接
面と、装置筐体に形成され、前記基準当接面が当接され
前記参照レンズの位置決め基準となる基準面とから構成
されたことを特徴とする特許請求の範囲第４項ないし第
７項いずれかに記載のホログラム原器セツティング装置
。 （９）前記参照レンズ用ホルダーが、前記オートコリメ
ーターの光軸を前記参照レンズの光軸と平行にするため
、オートコリメーターを位置決めするための調整用反射
部材を着脱自在に包含していることを特徴とする特許請
求の範囲第８項記載のホログラム原器セツティング装置
。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）ホログラフィック干渉計のコリメーターレンズの
   光軸と、参照レンズの光軸が一致するように調節する第
   １段階と、 球面波発生用光学面を、その光軸が前記参照レンズの光
   軸と一致し、かつその曲率中心が前記参照レンズの焦点
   と一致するように配置する第２段階と、 非球面波発生用光学面を前記球面波発生用光学面と光軸
   方向に所定距離隔てて配置する第３段階と、 前記非球面波発生用光学面からの非球面波と、参照波の
   いずれか一方のホログラム原器による回折波面と、他方
   の前記ホログラム原器による非回折波面との干渉縞とが
   零となるように前記ホログラム原器を配置する第４段階
   と から成るホログラフィック干渉計におけるホログラム原
   器のセッティング方法。
2. （２）前記球面波発生用光学面と前記非球面波発生用光
   学面が、１つの光学部材により形成されており、前記第
   ２段階と前記第３段階が同時に実行されることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載のホログラフィック干渉
   計におけるホログラム原器のセッティング方法。
3. （３）前記非球面波発生用光学面が、前記球面波発生用
   光学面を前記光軸に沿って前記所定距離だけ移動させる
   ことにより得られることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載のホログラフィック干渉計におけるホログラム
   原器のセッティング方法。
4. （４）ホログラフィック干渉計のコリメーターレンズの
   光軸と、参照レンズの光軸を一致するように調整するた
   めの参照レンズ位置決め手段と、光軸が前記参照レンズ
   の該光軸と一致し、かつそれの曲率中心が前記参照レン
   ズの焦点と一致するように配置された球面波発生用光学
   面と、前記球面波発生用光学面と光軸方向に沿って所定
   距離隔てて配置された非球面波発生用光学面と、 前記非球面波発生用光学面からの非球面波と参照光波の
   いずれか一方のホログラム原器による回折波面と、他方
   の前記ホログラム原器による非回折波面との干渉縞を観
   察するための観察光学系と、前記ホログラム原器を保持
   するためのホログラム原器ホルダーと から構成されたことを特徴とするホログラフィック干渉
   計用ホログラム原器セッティング装置。
5. （５）前記球面波発生用光学面と前記非球面波発生用光
   学面が、それぞれ１つの調整用レンズの光学面として形
   成されたことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の
   ホログラフィック干渉計用ホログラム原器セッティング
   装置。
6. （６）前記非球面波発生用光学面が、前記球面波発生用
   光学面を前記所定距離だけ前記光軸に沿って移動するこ
   とによって得られるように、前記球面波発生用光学面が
   兼用されていることを特徴とする特許請求の範囲第４項
   記載のホログラフィック干渉計用ホログラム原器セッテ
   ィング装置。
7. （７）前記調整用レンズが、前記球面波発生光学面の光
   軸と垂直な平面を、さらに形成されており、該平面を前
   記参照レンズの光軸と垂直に配置するためのオートコリ
   メーターを有していることを特徴とする特許請求の範囲
   第５項記載のホログラフィック干渉計用ホログラム原器
   セッティング装置。
8. （８）前記参照レンズ位置決め手段が、前記参照レンズ
   を保持する参照レンズ用ホルダーに形成された基準当接
   面と、装置筐体に形成され、前記基準当接面が当接され
   前記参照レンズの位置決め基準となる基準面とから構成
   されたことを特徴とする特許請求の範囲第４項ないし第
   ７項いずれかに記載のホログラフィック干渉計用ホログ
   ラム原器セッティング装置。
9. （９）前記参照レンズ用ホルダーが、前記オートコリメ
   ーターの光軸を前記参照レンズの光軸と平行にするため
   、オートコリメーターを位置決めするための調整用反射
   部材を着脱自在に包含していることを特徴とする特許請
   求の範囲第８項記載のホログラフィック干渉計用ホログ
   ラム原器セッティング装置。