JPS6242356B2 - - Google Patents

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JPS6242356B2
JPS6242356B2 JP53006939A JP693978A JPS6242356B2 JP S6242356 B2 JPS6242356 B2 JP S6242356B2 JP 53006939 A JP53006939 A JP 53006939A JP 693978 A JP693978 A JP 693978A JP S6242356 B2 JPS6242356 B2 JP S6242356B2
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JP
Japan
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digit
line
transistor
lines
digit line
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Application number
JP53006939A
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Japanese (ja)
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JPS54100233A (en
Inventor
Tadahide Takada
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS54100233A publication Critical patent/JPS54100233A/en
Publication of JPS6242356B2 publication Critical patent/JPS6242356B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4099Dummy cell treatment; Reference voltage generators

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集積化メモリに関し、特に、ダミーセ
ル用の中間電位発生回路を特別に必要としないよ
うにした集積化メモリに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an integrated memory, and particularly to an integrated memory that does not require a special intermediate potential generation circuit for dummy cells.

なお、以下の説明は説明の便宜上すべてnチヤ
ネルMOSトランジスタで行なうが、本発明はp
チヤンネルMOSトランジスタでも、又、他のど
のような型式のトランジスタでも、本質的に同様
にして適用し得るものである。
Although the following explanation will be made using n-channel MOS transistors for convenience of explanation, the present invention is based on p-channel MOS transistors.
Channel MOS transistors or any other type of transistor can be applied in essentially the same way.

従来の集積化メモリの一例を第1図に示す。1
はXデコーダ、2はYデコーダ、3,4はデイジ
ツト線、5,6はメモリセル、9,10はダミー
セルである。トランジスタT1,T2,T3,T
4,T5、によつてセンス・アンプが構成されて
いる。第2図は、第1図の主要節点及びクロツク
線の波形を示したものである。
An example of a conventional integrated memory is shown in FIG. 1
2 is an X decoder, 2 is a Y decoder, 3 and 4 are digit lines, 5 and 6 are memory cells, and 9 and 10 are dummy cells. Transistors T1, T2, T3, T
4 and T5 constitute a sense amplifier. FIG. 2 shows the waveforms of the main nodes and clock lines in FIG. 1.

以下、第2図の波形を参照しながら第1図の従
来例を説明する。第1図のような従来の集積化メ
モリでは、時刻t1にクロツク信号φ1が高レベ
ルから低レベルに落ちるまでは、各デイジツト線
3及びに4並び節点N1及びN2が一定電圧Vp
に保たれる。同時に、ダミーセル9及び10の節
点N3及びN4は高低2値のメモリ信号の中間の
電圧Voに保たれる。時刻t2に、Xデコーダ1
によつて多数のアドレス線の中から例えばアドレ
ス線7が選択され高レベル状態になると、メモリ
セル5の情報がデイジツト線3に読み出される。
他方、ダミーアドレス線12がレベル状態にな
り、デイジツト線4にはダミーセル10から中間
電位が読み出される。逆にアドレス線8が選択さ
れると、メモリセル6の情報がデイジツト線4に
読み出され、同時に、デイジツト線3にはダミー
セル9から中間電位が読み出される。この結果、
節点N1とN2にはメモリセル容量Csとデイジ
ツト線容量CBとの容量分割で決まる微少な電位
差が生じる。時刻t3にクロツク信号φ2を高レ
ベルにするとセンス・アンプが活性化し、節点N
1とN2の電位差が増幅され、時刻t4にクロツ
ク信号φ3を高レベルにしてデイジツト線の高レ
ベル側の電位を最大にまで上げると増幅が完了す
る。その後、Yデコーダ2によつて選択された入
出力ゲート13を導通させると、一つのデイジツ
ト線の信号が出力されメモリセル情報の読み出し
が終了する。書き込みは、入出力ゲート13を通
してデイジツト線及びメモリセルに情報を書き込
むことで行う。
The conventional example shown in FIG. 1 will be described below with reference to the waveforms shown in FIG. In the conventional integrated memory shown in FIG. 1, each digit line 3 and 4 and nodes N1 and N2 are at a constant voltage Vp until the clock signal φ1 falls from a high level to a low level at time t1.
is maintained. At the same time, the nodes N3 and N4 of the dummy cells 9 and 10 are maintained at a voltage Vo between the high and low binary memory signals. At time t2, X decoder 1
When, for example, address line 7 is selected from a large number of address lines by , and becomes a high level state, information in memory cell 5 is read out to digit line 3.
On the other hand, the dummy address line 12 goes into a level state, and the intermediate potential is read out from the dummy cell 10 onto the digit line 4. Conversely, when address line 8 is selected, the information in memory cell 6 is read out to digit line 4, and at the same time, the intermediate potential from dummy cell 9 is read out to digit line 3. As a result,
A minute potential difference is generated between the nodes N1 and N2, which is determined by the capacitance division between the memory cell capacitance Cs and the digit line capacitance C B. When the clock signal φ2 is set to high level at time t3, the sense amplifier is activated and the node N
The potential difference between N1 and N2 is amplified, and the amplification is completed when the clock signal φ3 is set to high level at time t4 to raise the potential on the high level side of the digit line to the maximum. Thereafter, when the input/output gate 13 selected by the Y decoder 2 is made conductive, the signal of one digit line is output and the reading of the memory cell information is completed. Writing is performed by writing information into the digit line and memory cell through the input/output gate 13.

第1図に示したような集積化メモリでは、ダミ
ーセルの中間電圧Voを得るための、定電圧発生
回路を用意しなければならない欠点があり、かつ
また電源電圧あるいはトランジスタの閾値電圧の
変動があると中間電圧Voの値が変わつてしまい
本来の動作に悪影響を与える欠点があつた。
The integrated memory shown in Figure 1 has the disadvantage that a constant voltage generation circuit must be prepared to obtain the intermediate voltage Vo of the dummy cell, and there is also variation in the power supply voltage or the threshold voltage of the transistor. This has the disadvantage that the value of the intermediate voltage Vo changes, which adversely affects the original operation.

本発明の目的は、ダミーセル用の中間電圧発生
回路を特別に用意する必要をなくし、自動的に中
間電圧をダミーセルに書き込むことのできるよう
にした集積化メモリを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an integrated memory that can automatically write an intermediate voltage to a dummy cell without the need to specially prepare an intermediate voltage generation circuit for the dummy cell.

本発明による集積化メモリは、マトリツクス状
に配置されたメモリセルと、メモリセルの選択ゲ
ート・トランジスタを列方向に接続する複数本の
アドレス線と、メモリセルのデイジツト端子を行
方向に接続する複数本の2分された一対のデイジ
ツト線と、前記複数本のアドレス線の一つを選択
するXデコーダと、前記複数本のデイジツト線の
一つを選択するYデコーダと、前記複数本の一対
のデイジツト線にそれぞれ接続する複数個のセン
ス・アンプと、ドレインを前記一対のデイジツト
線の一方に、ソースを他方のデイジツト線に、ゲ
ートを第1のクロツク線に、それぞれ接続した第
1のトランジスタと、ドレインをデイジツト線
に、ゲートを第2のクロツク線に、ソースをスト
レージ容量に、それぞれ接続する第2のトランジ
スタと、ドレインをデイジツト線に、ゲードをダ
ミーアドレス線に、ソースを前記ストレージ容量
及び第2のトランジスタのソースに、それぞれ接
続した第3のトランジスタと、前記一対のデイジ
ツト線のそれぞれに接続する前記第2及び第3の
トランジスタ並びにストレージ容量から成るダミ
ーセルとを備え、前期デイジツト線のプリチヤー
ジ期間中に前記第1及び第2のトランジスタを導
通させる手段と、メモリセル情報の読出し時には
読出しメモリセルに接続するデイジツト線と対を
成すデイジツト線に接続するダミーセルの第3の
トランジスタを導通させる手段とを備えたことを
特徴とする集積化メモリである。
The integrated memory according to the present invention includes memory cells arranged in a matrix, a plurality of address lines connecting select gate transistors of the memory cells in the column direction, and a plurality of address lines connecting the digit terminals of the memory cells in the row direction. A pair of digit lines divided into two halves of the book, an X decoder that selects one of the plurality of address lines, a Y decoder that selects one of the plurality of digit lines, and a a plurality of sense amplifiers respectively connected to the digit lines; a first transistor having a drain connected to one of the pair of digit lines, a source to the other digit line, and a gate to the first clock line; , a second transistor whose drain is connected to the digit line, whose gate is connected to the second clock line, and whose source is connected to the storage capacitor; the drain is connected to the digit line, the gate is connected to the dummy address line, and the source is connected to the storage capacitor and the source. A third transistor connected to the source of the second transistor, and a dummy cell formed of the second and third transistors and a storage capacitor connected to each of the pair of digit lines; means for making the first and second transistors conductive during the period, and means for making conductive a third transistor of a dummy cell connected to a digit line that is paired with a digit line connected to the read memory cell when reading memory cell information; An integrated memory characterized by comprising:

本発明の集積化メモリは、センス・アンプの活
性化に伴なつて高低2値レベルに分れたデイジツ
ト線を第1のトランジスタT1によつてリセツト
時に短絡し、デイジツト線の電位を高低2値の中
間レベルにし、この電位をダミーセルに蓄えるこ
とによつて自動的に中間電位を作り出すと同時に
デイジツト線のプリチヤージレベルもこの中間電
位とするため、デイジツト線プリチヤージ用トラ
ンジスタ及びプリチヤージ電圧源を必要としない
点を有する。又、アクテイブ時には、メモリセル
から読み出される高低2値レベルに対して常に中
間電位がダミーセルから読み出されるために、余
分な定電圧発生回路を必要とせず、又、電源電圧
及び閾値電圧の変動による中間電位の変動がなく
なる利点がある。
The integrated memory of the present invention short-circuits the digit line divided into high and low binary levels with the activation of the sense amplifier at the time of reset by the first transistor T1, so that the potential of the digit line is divided into two high and low levels. In order to automatically create an intermediate potential by storing this potential in a dummy cell and at the same time setting the precharge level of the digit line to this intermediate potential, a digit line precharge transistor and a precharge voltage source are required. It has a point that it does not. In addition, when active, the intermediate potential is always read from the dummy cell for the high and low binary levels read from the memory cell, so there is no need for an extra constant voltage generation circuit, and the intermediate potential due to fluctuations in the power supply voltage and threshold voltage This has the advantage of eliminating fluctuations in potential.

以下、図面を参照して本発明の典型的な実施の
一例について詳細に説明する。第3図は本発明の
一実施例である。第3図にはXデコーダ31、Y
デコーダ32をメモリマトリツクスからなる集積
化メモリのうちの一本のデイジツト線及びセン
ス・アンプ部を抜き出して示してある。第3図の
例では、ゲートにクロツク信号線φ31が接続し
ているトランジスタTR1は、左右に分割された
デイジツト線33及び34並びに節点N31及び
N32をそれぞれ結合する。両デイジツト線33
及び34にはそれぞれメモリセル35及び36が
接続し、それぞれアドレス線37及び38によつ
てメモリ情報の出し入れを行なう。又、両デイジ
ツト線にはダミーセル39及び40が接続してい
る。ダミーセル39は、ゲートにクロツク信号線
φ32が接続しデイジツト線33と節点N33を
結合するトランジスタTR2と、ゲートにダミー
アドレス線41が接続しデイジツト線33と節点
N33を結合するトランジスタTR3及び節点N
33に作られたダミー容量CRから成る。同様
に、ダミーセル40は、ゲートにクロツク信号線
φ32が接続しデイジツト線34と節点N34を
結合するトランジスタTR4と、ゲートにダミー
アドレス線42が接続しデイジツト線34と節点
N34を結合するトランジスタTR5及び節点N
34に作られたダミー容量CRから成る。トラン
ジスタTR6及びTR7は、ドレインがそれぞれ節
点N31及びN32に接続し、ソースはゲートに
クロツク信号線φ33が接続したトランジスタ
TR8を介して接地されている。ゲートにクロツ
ク信号線φ34を接続したトランジスタTR9及
びTR10は、直流電源VDDと節点N31及びN
32をそれぞれ接続する。トランジスタTR11
及びTR12は、メモリセルから読み出されたデ
イジツト線の情報を外部に伝えたり外部から情報
をデイジツト線に書き込むための入出力ゲート用
トランジスタである。
Hereinafter, an example of a typical implementation of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 3 shows an embodiment of the present invention. FIG. 3 shows an X decoder 31, a Y decoder 31,
The decoder 32 is shown with one digit line and sense amplifier section extracted from an integrated memory consisting of a memory matrix. In the example of FIG. 3, the transistor TR1, whose gate is connected to the clock signal line φ31, couples the left and right divided digit lines 33 and 34 and the nodes N31 and N32, respectively. Both digital lines 33
and 34 are connected to memory cells 35 and 36, respectively, and memory information is input and output through address lines 37 and 38, respectively. Further, dummy cells 39 and 40 are connected to both digit lines. The dummy cell 39 includes a transistor TR2 whose gate is connected to the clock signal line φ32 and which couples the digit line 33 and the node N33, and a transistor TR3 whose gate is connected to the dummy address line 41 and which couples the digit line 33 and the node N33, and the node N.
It consists of a dummy capacitor C R made at 33. Similarly, the dummy cell 40 includes a transistor TR4 whose gate is connected to the clock signal line φ32 and which couples the digit line 34 and the node N34, and a transistor TR5 whose gate is connected to the dummy address line 42 and which couples the digit line 34 and the node N34. Node N
It consists of a dummy capacitor C R made at 34 mm. Transistors TR6 and TR7 are transistors whose drains are connected to nodes N31 and N32, respectively, and whose sources and gates are connected to clock signal line φ33.
Grounded via TR8. Transistors TR9 and TR10, whose gates are connected to clock signal line φ34, are connected to DC power supply VDD and nodes N31 and N
32 respectively. Transistor TR11
and TR12 are input/output gate transistors for transmitting information on the digit line read from the memory cell to the outside, and for writing information from the outside onto the digit line.

第3図の回路動作を第4図に示す動作波形を用
いて説明すると次のようになる。本発明の集積化
メモリの特徴はリセツト時の中間電位の作り方に
あるので、リセツト時から述べる。
The circuit operation of FIG. 3 will be explained using the operation waveforms shown in FIG. 4 as follows. Since the feature of the integrated memory of the present invention lies in how to create an intermediate potential at the time of reset, we will start from the time of reset.

時刻t31にクロツク信号φ31を低レベルか
ら高レベルにすると、デイジツト線33と34と
が短絡し、高低2値レベルに分かれていた両デイ
ジツト線の電位は中間電位になり、これがデイジ
ツト線のプリチヤージ電位となる。時刻t32に
クロツク信号φ32を高レベルにすると、ダミー
セル39及び40の節点N33及びN34にデイ
ジツト線と等しい中間電位が蓄えられる。ここで
は仮にクロツク信号φ31とφ32は別のクロツ
クとして扱つているが、まつたく等しい信号とし
て使つても何ら本発明の回路動作に支障を与えな
い。さて次に、メモリ動作のアクチブ時には、時
刻t33にクロツク信号φ31及びφ32が低レ
ベルになり、時刻t34にアドレス線が高レベル
になる。例えば、アドレス線37が高レベルにな
る場合にはダミーアドレス線42も高レベルにな
り、デイジツト線33にはメモリセル35からメ
モリ信号が読み出されデイジツト線34にはダミ
ーセルから中間電位が読み出されるのであるが、
デイジツト線のプリチヤージ電位も中間電位であ
るので実質的にはデイジツト線4の電位は変動し
ない。他方、デイジツト線33の電位にはメモリ
セル35のメモリ信号の高低レベルに応じてデイ
ジツト線の寄生容量CBとメモリセル容量CSの容
量分割で決まる電位変化がおこり、節点N31と
N32との間に微少な電位差が生じる。そこで、
時刻t35にクロツク信号φ33を高レベルにし
てセンス・アンプを活性化すると、節点N31及
びN32並びにデイジツト線33及び34の電位
差が増幅され、時刻t36にクロツクφ34を高
レベルにしてデイジツト線の高レベル側の電位を
最大にまで高レベルにすることによつて、増幅が
完了する。その後、デイジツト線選択アドレス線
43を高レベルにして入出力トランジスタT11
及びT12を導通させ、メモリ信号を外部に伝え
るとともにメモリセルに増幅された信号を再書き
込みして、メモリセルの読み出しが終了する。メ
モリセルへの書き込みは、入出力トランジスタ
TR11及びTR12を介して信号をデイジツト線
及びメモリセルに入力することで行われる。
When the clock signal φ31 is changed from a low level to a high level at time t31, the digit lines 33 and 34 are short-circuited, and the potential of both digit lines, which were divided into high and low binary levels, becomes an intermediate potential, and this becomes the precharge potential of the digit line. becomes. When clock signal φ32 is set to high level at time t32, an intermediate potential equal to that of the digit line is stored at nodes N33 and N34 of dummy cells 39 and 40. Here, the clock signals φ31 and φ32 are treated as different clocks, but there is no problem in the circuit operation of the present invention even if they are used as equal signals. Next, when the memory operation is active, the clock signals φ31 and φ32 go low at time t33, and the address line goes high at time t34. For example, when the address line 37 becomes high level, the dummy address line 42 also becomes high level, a memory signal is read from the memory cell 35 to the digit line 33, and an intermediate potential is read from the dummy cell to the digit line 34. However,
Since the precharge potential of the digit line 4 is also at an intermediate potential, the potential of the digit line 4 does not substantially change. On the other hand, the potential of the digit line 33 changes depending on the high/low level of the memory signal of the memory cell 35, which is determined by the capacitance division between the parasitic capacitance C B of the digit line and the memory cell capacitance C S , and the potential changes between the nodes N31 and N32 occur. A slight potential difference occurs between them. Therefore,
When clock signal φ33 is set to high level at time t35 to activate the sense amplifier, the potential difference between nodes N31 and N32 and digit lines 33 and 34 is amplified, and at time t36, clock signal φ34 is set to high level and the digit line is set to high level. Amplification is completed by raising the side potential to a maximum high level. After that, the digit line selection address line 43 is set to high level, and the input/output transistor T11 is
and T12 are made conductive, the memory signal is transmitted to the outside, and the amplified signal is rewritten into the memory cell, thereby completing the reading of the memory cell. Writing to memory cells is performed using input/output transistors.
This is done by inputting a signal to the digit line and memory cell via TR11 and TR12.

アドレス線38が選択される場合にはダミーア
ドレス線41が選択され、デイジツト線34にメ
モリ信号が、又デイジツト線33にダミー信号が
読み出され、その後は前記とまつたく同様に動作
する。ただ、ここで注意しなければならないこと
は、ダミーセル39及び40の節点N33及びN
34の各全寄生容量(CRを含めて)がメモリセ
ル容量CSに等しくなるように、CRを選ぶ必要が
ある点である。こうすることによつて、センス・
アンプ活性化時においてデイジツト線3と4の容
量が等しくなり、誤動作がおこりにくくなる。
When the address line 38 is selected, the dummy address line 41 is selected, a memory signal is read out to the digit line 34, a dummy signal is read out to the digit line 33, and the operation thereafter is exactly the same as described above. However, what must be noted here is that nodes N33 and N of dummy cells 39 and 40
The point is that C R must be selected so that each of the 34 total parasitic capacitances (including C R ) is equal to the memory cell capacitance C S . By doing this, the sense
When the amplifier is activated, the capacitances of digit lines 3 and 4 become equal, making it difficult for malfunctions to occur.

以上の回路動作からもわかるように、本発明の
集積化メモリは、単に高低2値レベルに分れたデ
イジツト線の電位を短絡することによつて中間電
位をつくりそれをダミーセルに蓄えるだけであつ
て、中間電位発生回路を特別に必要としない利点
がある。更にデイジツト線のプリチヤージレベル
も中間電位であるので、デイジツト線プリチヤー
ジ用に特別に直流電圧源やトランジスタを必要と
しない利点もある。
As can be seen from the above circuit operation, the integrated memory of the present invention simply shorts the potentials of the digit lines divided into high and low levels to create an intermediate potential and stores it in the dummy cell. Therefore, there is an advantage that no special intermediate potential generation circuit is required. Furthermore, since the precharge level of the digit line is also at an intermediate potential, there is an advantage that no special DC voltage source or transistor is required for precharging the digit line.

従つて、例えば電源電圧VDDを大幅に変更し
て用いたとしても、常にダミーセルはメモリセル
の高低2値レベルの中間の電位が蓄えられ、電源
電圧あるいはトランジスタの閾値電圧によつて中
間電位が真の中間電位から変動することがない利
点がある。
Therefore, for example, even if the power supply voltage VDD is changed significantly, the dummy cell always stores a potential intermediate between the high and low binary levels of the memory cell, and the intermediate potential is determined by the power supply voltage or the threshold voltage of the transistor. This has the advantage of not varying from the intermediate potential of .

なお前記実施例では第3図に示すようにデイジ
ツト線33,34に電荷を供給するトランジスタ
をTR9,10で構成したが、これに限る必要は
なく、例えば特開昭52−123849号公報に示された
ような構成をとつてもよい。
In the above embodiment, as shown in FIG. 3, the transistors supplying charges to the digit lines 33 and 34 were constructed of TRs 9 and 10, but there is no need to limit the transistors to this. It is also possible to adopt a configuration similar to that shown in the following.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の集積化メモリの一例を示す図で
ある、第2図は第1図の回路の動作波形図であ
る。両図中、φ1,φ2,φ3、はクロツク信号
を、N1,N2は節点を、T1,T2,T3,T
4,T5はトランジスタを、1はXデコーダを、
2はYデコーダ、3,4はデイジツト線を、5,
6はメモリセルを、7,8はアドレス線を、9,
10はダミーセルを、11,12はダミーアドレ
ス線を、13は入出力ゲートを、それぞれ示す。 第3図は本発明の一実施例を示したものであ
り、第4図は第3図の回路の動作波形図である。
両図中、φ31,φ32,φ33,φ34はクロ
ツク信号を、N31,N32,N33,N34は
節点を、TR1,TR2,TR3,TR4,TR5,
TR6,TR7,TR8,TR9,TR10,TR1
1,TR12はトランジスタを、31はXデコー
ダを、32はYデコーダを、33,34はデイジ
ツト線を、35,36にメモリセルを、37,3
8はアドレス線を、39,40はダミーセルを、
41,42にダミーアドレス線を、それぞれ示
す。
FIG. 1 is a diagram showing an example of a conventional integrated memory, and FIG. 2 is an operational waveform diagram of the circuit shown in FIG. 1. In both figures, φ1, φ2, φ3 are clock signals, N1, N2 are nodes, T1, T2, T3, T
4, T5 is a transistor, 1 is an X decoder,
2 is a Y decoder, 3 and 4 are digit lines, 5,
6 is a memory cell, 7 and 8 are address lines, 9,
10 is a dummy cell, 11 and 12 are dummy address lines, and 13 is an input/output gate. FIG. 3 shows an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an operating waveform diagram of the circuit shown in FIG.
In both figures, φ31, φ32, φ33, φ34 are clock signals, N31, N32, N33, N34 are nodes, TR1, TR2, TR3, TR4, TR5,
TR6, TR7, TR8, TR9, TR10, TR1
1, TR12 is a transistor, 31 is an X decoder, 32 is a Y decoder, 33, 34 is a digit line, 35, 36 is a memory cell, 37, 3
8 is the address line, 39 and 40 are the dummy cells,
Dummy address lines are shown at 41 and 42, respectively.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 マトリツクス状に配置されたメモリセルと、
メモリセルの選択ゲート・トランジスタを列方向
に接続する複数本のアドレス線とメモリセルのデ
イジツト端子を行方向に接続する複数本の2分さ
れた一対のデイジツト線と、前記複数本のアドレ
ス線の一つを選択するXデコーダと、前記複数本
のデイジツト線の一つを選択するYデコーダと、
前記複数本の一対のデイジツト線にそれぞれ接続
する複数個のセンス・アンプと、ドレインを前記
一対のデイジツト線の一方に、ソースを他方のデ
イジツト線に、ゲートを第1のクロツク線に、そ
れぞれ接続した第1のトランジスタと、ドレイン
をデイジツト線にゲートを第2のクロツク線に、
ソースをストレージ容量に、それぞれ接続する第
2のトランジスタと、ドレインをデイジツト線
に、ゲートをダミーアドレス線に、ソースを前記
ストレージ容量及び第2のトランジスタのソース
に、それぞれ接続した第3のトランジスタと、前
記一対のデイジツト線のそれぞれに接続する前記
第2及び第3のトランジスタ並びにストレージ容
量から成るダミーセルと前記一対のデイジツト線
にそれぞれ電荷を供給するトランジスタとを備
え、前のメモリセル情報の読み出し後のリセツト
時に前記第1及び第2のトランジスタを導通させ
る手段と、メモリセル情報の読出し時には、読出
しメモリセルに接続するデイジツト線と対を成す
デイジツト線に接続するダミーセルの第3のトラ
ンジスタを導通させる手段及び前記一対のデイジ
ツト線にそれぞれ電荷を供給するトランジスタを
用いて高電位レベル側のデイジツト線の電位を中
間電位よりも高い電位レベルに上げる手段とを備
えたことを特徴とする集積化メモリ。
1 Memory cells arranged in a matrix,
A plurality of address lines connecting the selection gate transistors of the memory cells in the column direction, a plurality of pairs of digit lines divided into two that connect the digit terminals of the memory cells in the row direction, and a plurality of digit lines connecting the plurality of address lines. an X decoder that selects one of the digit lines; a Y decoder that selects one of the plurality of digit lines;
a plurality of sense amplifiers each connected to the plurality of pairs of digit lines; a drain connected to one of the pair of digit lines; a source connected to the other digit line; and a gate connected to the first clock line. a first transistor with a drain connected to a digit line and a gate connected to a second clock line,
a second transistor having a source connected to a storage capacitor, respectively; a third transistor having a drain connected to a digit line, a gate to a dummy address line, and a source connected to the storage capacitor and the source of the second transistor, respectively; , a dummy cell comprising the second and third transistors and a storage capacitor connected to each of the pair of digit lines, and a transistor supplying charge to each of the pair of digit lines, and after reading the previous memory cell information. means for rendering the first and second transistors conductive when resetting the memory cell; and rendering conductive a third transistor of a dummy cell connected to a digit line paired with a digit line connected to the read memory cell when reading memory cell information; and means for increasing the potential of the digit line on the high potential level side to a potential level higher than the intermediate potential by using transistors for supplying charge to each of the pair of digit lines.
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