JPS6242316A - 磁気デイスク媒体 - Google Patents

磁気デイスク媒体

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Publication number
JPS6242316A
JPS6242316A JP18110085A JP18110085A JPS6242316A JP S6242316 A JPS6242316 A JP S6242316A JP 18110085 A JP18110085 A JP 18110085A JP 18110085 A JP18110085 A JP 18110085A JP S6242316 A JPS6242316 A JP S6242316A
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JP
Japan
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film
lubricant
magnetic disk
langmuir
lubricating
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JP18110085A
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Inventor
Mitsunori Hoshino
星野 光則
Bunichi Yoshimura
吉村 文一
Yoshihiro Kimachi
木町 良弘
Akira Terada
寺田 章
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、長期に亘って信頼性が高い潤滑膜を有する磁
気ディスク媒体に関する。
〈従来の技術〉 従来、磁気ディスク媒体表面への潤滑膜形成法としては
、連続薄膜媒体の場合、s io2などの無機酸化物薄
膜上にスピンコード法、浸漬法、ワイプ法などで液体潤
滑剤あるいは固体潤滑剤の稀釈液をコートした後溶媒を
除去して潤滑剤のみを残存させる方法が広く用いられて
いる。しかし、これらの方法によると、第11図(a)
 、 (b)に示すように、潤滑剤分子02が無機酸化
膜01表面にほぼ平行にコートされている(第11図(
a))か、あるいは潤滑剤分子02が無機酸化膜01表
面に対してランダムに積み重なっている(第11図(b
)”)かであυ、潤滑剤分子の末端は、潤滑剤膜中のく
り返し単位の分子鎖中にうめ込まれた状態でランダムに
存在する形態となっておシ、潤滑剤分子02には規則的
な配向が全く見られない。また、@12図(a) 、 
(t))に示すように、潤滑剤分子02の高分子鎖の片
末端あるいは両末端にカルボン酸などの官能基をつけて
下地の無機酸化膜への吸着を強める方法があるが、この
方法によっても、第12図(a) 、 Cb)に示すよ
うに潤滑剤分子02は、その片端あるいは両端が下地の
無機酸化膜01へ配向しているが、高分子鎖のシーケン
スが全くランダムである。
〈発明が解決しようとする問題点〉 このように、ランダムな配向をした潤滑膜のI8渭性能
は、液体状態の潤滑剤と全く同じものであシ、高い潤滑
性能が期待できなかった。また、液体状態であるため、
磁気へッドスライ〆と磁気ディスクとの吸着の原因にも
なってしまい、さらにこの吸着を防止するために潤滑膜
を極力薄くしようとするので、長期間に亘って口滑性能
を維持できない欠点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、潤滑性能に優れ、長期に
亘って信頼性の高い潤滑膜を有する磁気ディスク媒体を
提供することを目的とする。
く問題点を解決するための手段〉 前記目的を達成する本発明の構成は、磁性膜の表面に無
機化合物膜が形成された磁気ディスク媒体において、潤
滑剤により形成された凝縮膜状態にあるラングミュア・
ブロジェット膜を有するとともに前記無機化合物膜と化
学結合により固定されている潤滑膜を有することを特徴
とする。
上述のように構成された磁気ディスク媒体の潤滑膜にお
いて、潤滑剤分子は、稠密で規則的な配向をしていると
ともに固体化されている。すなわち、第1図に示すよう
に潤滑剤分子2は、無機化合物膜1上に垂直にかつ高密
度に配向しているとともに化学結合により無機化合物膜
1に固定されている。
本発明に用いられる潤滑剤としては、ノー−フルオロポ
リエーテル、オイル状のポリツメチルシロキサンなどシ
リコーンオイル等のくシ返し単位を有する重合体であっ
てその末端の少なくとも一方にカル?キシル基、カルメ
ン酸無水物、水酸基などの反応性の極性基を有するもの
がある。例えば、Krytox 157 FS(デュポ
ン■製)、Fomblin Z DIACID 。
Fomblin Z DOL(Monteflous■
!M)、末端アルコールポリツメチルシロキサン、カル
ボキシル変性ポリツメチルシロキサン(チッソ■製)な
どが市販されている。
第2図には、炭票数が15から22の直鎖状脂肪酸が凝
縮膜状態にあるラング・ミュアプロソエット膜(以下、
LB膜という)ft示す。このLB膜は、表面圧−面積
曲線による表面圧が20℃で25dyne−信 以上あ
シ、凝縮膜状態(5olid condenat)にあ
る。
このような潤滑剤で形成されたLB膜は、直接、前記無
機化合物膜上に化学結合により固定することもできるし
、アミノシラン化合物、エポキシシラン化合物のような
シランカップリング剤などの媒介化合物膜を介して固定
することもできる。
ここで、磁性膜上に形成される前記無機化合物膜として
は、シリコン酸化膜(主成分5to2 )  が最も広
範凹に使用されるが、その他、チタン、アルミニワム、
ゾルコニウム、マクネシクム、タングステン、ビスマス
の酸化物、炭化物、置化物、ホワ素化物、あるいはこれ
らの混付物が挙げられる。
よって、このような無機化合物膜に潤滑剤のLB膜を化
学結合により匣接固定する場合には、潤滑剤の極性基と
化学結合する反応基(例えばアミノ基、エポキシ基など
)を形成する必要がある。例えば、第3図に示すように
、表面にアミノ基を有するポリ珪酸(主成分5i02 
)や第4図に示すように光面にエポキシ基を有するポリ
珪酸を用いれはよい。これらのポリ珪酸は、LB膜とな
った前記潤滑剤の末端の極性基(カルボンキシル基、酸
無水物基、水酸基など)と化学結合(共有結合あるいは
イオン結合)することによりこのLB膜を?Bi固に固
定することができる。
また、上記潤滑剤のLB膜を上記媒介化合物を介して固
定する場合、媒介化合物の膜は、LB臆としてもよいし
、LBiとしなくても↓い。芒らに、媒介化合物をLB
腓とする場合には、潤滑剤と媒介化合物とを予め反応さ
せたもの’tLB膜とすることもできるし、媒介化合物
と潤滑剤をそれぞれ別々にLBIIとすることもできる
ここで、媒介化合物となるアミノシラン化合物としては
、N−β−アミノ−エチル−γ−7ミノプロビルトリメ
トキシシラン、N−β−アミノエチル−r〜アミノグロ
ピルメチルソメトキシ7ラン、N−β−アミノエチル−
γ−アミノプロピルツメチルメトキシシラン、r−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、r−アミノプロビルメ
チルジェトキシシラン、r−アミノプロピルツメチルエ
トキシシラン等が挙げられる。このようなアミノシラン
化金物は、上記無機化合物膜のシラノール基などと脱水
縮合反応するとともに上記潤滑剤のカルボキシル基と酸
塩基反応する。
また、媒介化合物となるエポキシシラン化金物は、次の
一般式で嵌される。
E p  S 1 (OR) a −n(CH3)n ここでnはOまたは1 該エポキシシラン化合物の具体例として例えば次の化合
物が挙げられる。脂肪族エポキシシラン化合物としては
一般式においてn=Qの例としてr−グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシラン、r−グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン
が挙げられる。一般式において、n=1のものとしては
、r−グリシドキシプロビルーメチルソメトキシシラン
、r−グリシドキシプロピル・メチルノエトキ7シラン
、β−グリシドキシエチルメチルソメトキシシラン、β
−ダリシドキシエチルメチルノエトキシシランなどがあ
る。四に脂環式エポキシシラン化合物としては、一般式
においてn=0の例として、β−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラ
ン、  r −(3,4−エポキシシクロヘキシル)プ
ロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)プロピルトリエトキシシランなどがあり
、一般式n=1の例としては、β−(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルソメトキシメチルシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルソエトキシ
メチルシラン、r−(3,4−工2キシシクロヘキシル
)グロビルソメトキシメチルシラン、r−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)フロピルソエトキシメチルシラ
ンなどが挙ケられるが、これらに限定されるものでない
。このようなアミノシラン化合物は、上記無機化合物膜
のシラノール基などと脱水縮合反応するとともに上記潤
滑剤のカルボキシル基と開環・付加反応する。また、こ
の開環・付加反応は、トリエチルアミン、トリエチルア
ミンなどの塩基触媒により促進される。
以下、図面を参照しながら上記潤滑剤のLB膜の形成方
法の一例を説明する。ここでは、酸無水物基末端潤滑剤
のLB膜を形成してアミン基あるいはエポキシ基を有す
るポリ珪酸膜付磁気ディスク上に固定する例を述べる。
まず、カルメン酸末端潤清剤のLB膜をラングミュア・
プロソエット装置により作製する。水面上にあるこのL
B膜の上方から樹脂板を当ててゆつく逆水中に沈めるよ
うにすることにより樹脂板上に該LB膜を吸着させる。
その後、該LB膜を不活性ガス中でクロルギ酸エチルを
用いて処理することにより、末端のカル2ン酸を酸無水
物化することができる。
この酸無水物化されたLB膜をラングミュア・プロソエ
ット装置内のアルコール液面上にひろげる。この状態を
第5図に示す。ここで、AU空気、Bはアルコール、a
はAとBの界面、5はラングミュア拳プロジェット装置
のスライダを示す。また、アルコール液面a上にひろげ
たLBB10下方には、アミン基あるいはエポキシ基を
有するポリ珪酸膜付磁気ディスク3を水平に設置してお
く。ここで、装置下部に設けられたコツクロを調節しな
がらアルコールを抜くことにより液面を下げることによ
ICLBi5を磁気ディスク4の表面に均一に広げる。
次いで、この磁気ディスク3を不活性ガス中で乾燥して
アルコールを除去し、その後100℃前後で約60分間
加熱することにより、磁気ディスク3のポリ珪酸とLB
膜との間に化学結合を形成することによう、LB膜を強
固に固定する。
このように形成されたLB膜は、その配向状態を表す第
1図に示すように、潤滑剤分子2は、平面的に最密な状
態で潤滑膜を形成しているとともに、その極性基を表す
黒丸部分が無機化合物膜2と化学結合しており、潤滑膜
は無機化合物膜に強固に固定されている。
従って、このような潤滑膜は、原料の液体状態とは異な
り、固体状態になっており、加速条件下でも長期間に亘
シ劣化・変質がない。
また、磁気へラドスライダとの@着現象もなく、コンタ
クト・スタート・ストラグ(C8S)耐性も非常に浸れ
ている。さらに、摩擦係数も長期に亘って一定でかつ小
さく、ま之膜厚の減少もない。
く実 施 例〉 以下、本発明の実施例を示す。
実施例1 第6図(a) 、 (b)は、本実施例の説明図である
ここで、Aは空気、Bは水/アルコール混合is、sは
パーフルオロテトラヒドロフラン。
aはAとBの界面、bはBとSの界面である。
第6図(a)i、、z−フルオロテトラヒドロフランに
溶解された潤滑剤である片末端にカルボキシル基を有す
るノ9−フルオロポリエーテル7と、水/アルコール混
合溶媒中のN−β−7ミノエチルーr−アミノグロビル
トリメトキシシランの加水分解物8とが反応する直前の
配向状態を示す。ここで両化合物間の酸塩基反応により
、イオン結合が形成される。
そこで、界面すにそってラングミュア・ブロジェットW
fRのスライダを移動させることにより、第6図(b)
に示すように凝縮膜状態にあるLB膜を作製する。
次に、この界面すに存在するLB膜を破損しないように
溶媒A、Bを清浄な新しい溶媒と静かに置換した後、ポ
リ珪酸(Sin2)膜が形成されている磁気ディスクを
水平に保ったまま、上記LB膜が形成されている液中に
沈める。このようにして、磁気ディスクのポリ珪酸膜表
面に潤滑剤及びアミノシラン化合物よりなるLB膜を均
一な膜厚を保ったまま付着させる。このLB膜の付着し
た磁気デイスりを液中より取出して水/アルコール混合
溶媒およびテトラヒドロフランを乾燥させた後、100
〜IF)0℃で1時間加熱し、上記LB模膜中シラノー
ル基とyI?り珪酸膜のシラノール基との間に脱水縮合
反応を進行させてシロキサン結合を形成することにより
上記LB膜を強固に固定する。このようにして磁気ディ
スク上に本実施例にかかる潤滑膜が形成される。
上記潤滑剤である・ぞ−フルオロポリエーテル力ル?キ
シレートの代シにポリソメチルシロキサン力ルゲキシレ
ート、ホリフェニルシロキサン力ルゼキシレート、ポリ
メチルフェニルシロキサン力ルデキシレートをも同様に
用いることができる。
このようにして作製した磁気ディスク上の潤滑膜は、潤
滑剤がLB膜となっているので、従来の潤滑膜とは違っ
て潤滑剤分子が磁気ディスク面に垂直に配向してお匂、
かつ潤滑剤分子が結晶状態の凝縮膜であり二次元的に最
密な分子の充填状態となる。この潤滑膜について、磁気
ディスクと磁気ヘッド(Mn −Znフェライト製、ワ
インチェスタタイプ、テーパ5−フラット形、荷重6y
重)間の摩擦係数(動摩擦、静摩擦共)を測定した結果
、20℃のクリーンルーム内で0.20以下であった。
第7図に60℃における本実施例にかかる潤滑膜の膜厚
及び摩擦係数と稼動時間との関係を示す。同図に示すよ
うに、本実施例にかかる潤滑膜においては、5年間以上
の磁気ディスクの稼動においても摩擦係数及び潤滑膜の
厚さの変動がなかった。また、コンタクトスタートスド
ッグ(C8S)試験においても、 C8810万回後も
潤滑剤分子のヘッドスライダへの転移が全くなく、傷や
摩耗粉も全く認められなかった。さらに、記録・再生特
性の劣化も、C8S試験前後及び60℃、5年間の試験
前後において全くなかった。
また、本実施の潤滑膜を有する磁気ディスク媒体は、5
年間に4って磁気ディスク全面でヘッドの吸着が起らな
かった。
このように本実施例にかかる磁気ディスク媒体は、優れ
た潤滑性、耐拳耗法を有しており、長期間にわたる加速
した劣化条件下においても、安定した信頼性の旙い稼動
を実施することができる。
実施例2 第8図(a) 、 (b)は、本実施例の説明図である
ここで、Aは空気、Bはアルコール、Sはフッ素溶媒で
ある。
第6図(a)はアルコール相中のr−アミノグロビルト
リメトキシシランの加水分解物9とフッ素溶媒相中の7
9−フルオロポリエーテルの混合無水物10との反応直
前の配向の状態を示す。ここで、両化合物は、炭酸ガス
及び工て、ラングミュア・ブロジェット装置のスライダ
を移動させて膜の面積を小さくしてゆくと、表面圧が2
0 dyn*ey+−2以上の凝縮膜状態のLB膜が得
られる。このLB膜の配向状態を第8図(b)に示す。
次K、こJ)Li2痕を実施例1と同様にしてs io
、  膜が形成されている薄膜磁気ディスク上にのせ、
加熱することによυシロキサン結合を形成して該LB膜
を強固に磁気ディスク表面に固定する。
なお、上記パーフルオロボリエーテルノ6L合無水物の
代夛にポリツメチルシロキサン、ポリフェニルシロキサ
ン、ポリメチルフェニルシロキサンなどの混合無水物?
用いても、本実施例と同様な性能の潤I′冴膜を作製す
ることができる。
上述したような本実施例にかかる?ll1l滑膜は、荷
重6.51重のアルチック製ウインチェヌタタイプのテ
ーパフラットスライダを用いて検討した結果、lX擦係
数(動摩擦、静摩擦共)0.18以下であシ、60℃、
5年間以上し゛こ亘って変動なくこの値を維持していた
。また。
ヘッドの磁気ディスクへの吸着は、室温〜60℃の温度
範囲で40〜80%の相対湿度下でも全く起らなかった
。さらに%C85IO万回後においても、本実施例にか
かる13 M膜のヘッドへの付着や、ヘッド及び磁気テ
ィスフ上の賑耗痕及び摩耗粉も全く昭められず、またC
3S10万回前後の記録・沓午特性の劣化も認められな
かった。
このように、本実施例にがかる潤滑膜は、従来技術にか
かる潤滑膜に比べ、高+iNQで信頼性の高いものであ
る。
実施例3 第9図(a) 、 (b)は、本実施例の説明図でちる
ここで、Aは空気、Bは水/アルコールの混合溶媒、S
はフッ素化溶媒である。
第9図(a)はB中のr−グリシドオキシプロピルトリ
メトキシシランの加水分解物11とB中の/J−フルオ
ロポリニーデルカルボン酸7とが界面bt−はさんで向
き合い配向している状態を示す。ここで、両化合物はB
中に存在するトリエチルアミンのよつな3級アミンの触
媒作用により、50〜60℃で短時間で容易に、エポキ
シ基の開環φ水素付加反応がおこり、パーフルオロポリ
エーテル7のヒドロキシエステルが生成する。その後、
界面すにそってラングミュア・プロソエット装置のスラ
イダ全移動することによυ、第9図(b)に示すように
パーフルオロポリエーテルのヒドロキシエステルが凝縮
膜状態にあるLBliを作製する。
次に、このLB膜を実施例1と同様にしてAJ203が
形成されている磁気ディスク上にのせて化学結合により
強固に固定し、本実施例にかかる磁気ディスク媒体を作
製する。
このようにして形成された潤滑膜を実施例1と同様なヘ
ッドスライダを用いて検討した結果、30°C170俤
相対湿度下での摩擦係数(動摩擦、静摩擦共)は、0.
17で一定であシ、10年間に亘って変化しなかった。
また、60°Cにおける潤滑膜膜厚や摩擦係数は、5年
以上変化がなかった。さらに、C8S試験においてC8
5IO万回後も、潤滑膜のヘッドスライダへの転移が全
く発生せず、またヘッドや磁気ディスク上に摩耗痕や摩
耗粉が全く発生しなかった。また、ヘッドの吸着は、相
対湿度85チ下でも起らず、長期に亘って安定な起動・
停止ができた。10万回のC8S前後の記録・再生特性
の劣化も全く認められなかった。
このような浸れた特性は、上記エポキシシラ/として、
エポキ7シクロヘキシルエテルトリメトキシ7ラン、エ
ポキシシクロヘキシルエチルメテルソメトキシシラン、
r−グリシドオキシプロビルメチルジメトキシシランヲ
、マタ上記パーフルオロポリエーテルの代 ヨシにポリ
ツメチルシロキサン、ポリフェニルシロキサン、ポリメ
チルフェニルシロキサンのカル〆キシレートを用いても
同様に得ることができる。
実施例4 第10図(a) 、 (b)は、本実施例の説明図であ
る。ここで、Aは空気、Bは水/アルコールの混合溶媒
、Sはフッ素化溶媒である。本実施例は実施例3の・ン
ーフルオロポリエーf /l/のカルボン酸の代)にパ
ーフルオロポリエーテルハイドロオギサイド12t−用
いたものであり、第10図(a)は、これら両化合物の
反応前の配向状態を示す。なお、LB膜の作製及び磁気
ディスク上への同定は実施例1と同様に行った。第10
図(b)は界面すにそって形成されたLB膜の配向状匹
と示す。
このようにして得られた磁気ディスク上の潤滑膜のvf
性は、実施例3と同様に優れたものであった。
晒施例5 水面上に形成した炭素数15から22の脂肪酸の凝縮膜
状態にあるLB膜を、5io2  膜上にエポキシシラ
ンの単分子〜数分千鳥の薄膜上に均一に被棟した。その
後、約100 ’Cに加熱して、エポキシ基の開環反応
によって上記LBiを磁気ディスク上のs io2  
膜に化学結合で固定する。
このようにして得られた磁気ディスクの特性は、実施例
2と同様優れていた。
〈発明の効果〉 以上、実施例とともに具体的に説明したように本発明に
かかる磁気ディスク媒体の潤滑膜は、ラングミュア・プ
ロゾェット法により作製した凝縮膜状態にある稠密状態
であるとともに下層の無機化合物膜と化学結合により固
定されているので、下記のように優れた特性を示す。
長期間0.2以下でかつ一定の摩擦係数(#I摩際、静
摩擦共)であり、60℃で5年間以上に亘って膜厚変動
や膜厚減少が無い。また、潤滑剤のヘッドへの移着かな
く、ヘッドの磁気ディスクへの吸着全完全に防止するこ
とができる。さらに、10万回μ上のC8S試験に合格
し、潤滑膜やヘッドの摩耗が全く無い。
【図面の簡単な説明】
第1図は凝縮膜状態にある潤滑剤分子のLB膜の配向状
態を示す説明図、第2図は炭素数15〜22の脂肪酸の
凝f8膜状態のLB膜の配向状態を示す説明図、第3図
はアミノ基を持つポリ珪酸膜の配向状態を示す説明図、
第4図はエポキシ基を持つポリ珪酸の配向状態を示す説
明図、第5図は、ラングミュア・プロソエット装置の一
例を示す説明図、第6図(a) 、 (b)は本発明の
実施例にかかる潤滑膜形成化合物の配向状態全示す説明
図、第7図は実施例にかかる潤滑膜の膜厚及び摩擦係数
と磁気ディスクの稼動時間との関係を示すグラフ、第8
図(a) 、 (b)、第9図(a) 、 (b)、j
iX10図(a) 、 (b)は他の実施例にかかる潤
滑膜形成化合物の配向状態を示す説明図、第11図、第
12図は従来技術にかかる潤滑膜中の潤滑剤分子の配向
状態を示す説明図である。 [ス  面  中、 lは無機化合物膜、 2は4力滑剤分子。 3は磁気ディスク、 4はLB嗅、 5はスライダ、 Aは空気、 Bは水/アルコール混合溶媒あるいはアルコール、 Sはフッ素化溶媒、 aはAとBの界面、 bはBとSの界面である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)磁性膜の表面に無機化合物膜が形成された磁気ディ
    スク媒体において、潤滑剤により形成された凝縮膜状態
    にあるラングミュア・ブロジェット膜を有するとともに
    前記無機化合物膜と化学結合により固定されている潤滑
    膜を有することを特徴とする磁気ディスク媒体。 2)前記潤滑膜が、分子鎖の少なくともどちらか一方の
    末端に化学反応性の極性基を有する潤滑剤のラングミュ
    ア・ブロジェット膜と、前記潤滑剤と化学結合している
    とともに前記無機化合物膜とも化学結合している媒介化
    合物からなる膜とからなる特許請求の範囲第1項記載の
    磁気ディスク媒体。 3)前記潤滑膜が、分子鎖の少なくともどちらか一方の
    末端に化学反応性の極性基を有する潤滑剤のラングミュ
    ア・ブロジェット膜と、前記潤滑剤と化学結合している
    とともに前記無機化合物膜とも化学結合している媒介化
    合物のラングミュア・ブロジェット膜とからなる特許請
    求の範囲第1項記載の磁気ディスク媒体。 4)前記潤滑剤がカルボン酸末端パーフルオロポリエー
    テル、酸無水物末端パーフルオロポリエーテル、水酸基
    末端パーフルオロポリエーテルの中のいずれか1つであ
    る特許請求の範囲第1項、第2項あるいは第3項記載の
    磁気ディスク媒体。 5)前記媒介化合物が、分子鎖中にアルコキシ基と、ア
    ミノ基あるいはエポキシ基とを有するシリコン化合物で
    ある特許請求の範囲第2項、第3項あるいは第4項記載
    の磁気ディスク媒体。 6)前記潤滑剤の凝縮膜状態にあるラングミュア・ブロ
    ジェット膜をラングミュア・ブロジェット法を用いて作
    製した特許請求の範囲第1項〜第5項のいずれか1項に
    記載の磁気ディスク媒体。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5075001A (ja) * 1973-11-02 1975-06-20
JPS5945636A (ja) * 1982-09-03 1984-03-14 Fujitsu Ltd 磁気記録媒体の表面潤滑膜の形成方法
JPS6038726A (ja) * 1983-08-10 1985-02-28 Alps Electric Co Ltd 磁気記録媒体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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