JPS6240687A - 磁気バブルメモリ素子 - Google Patents
磁気バブルメモリ素子Info
- Publication number
- JPS6240687A JPS6240687A JP60180411A JP18041185A JPS6240687A JP S6240687 A JPS6240687 A JP S6240687A JP 60180411 A JP60180411 A JP 60180411A JP 18041185 A JP18041185 A JP 18041185A JP S6240687 A JPS6240687 A JP S6240687A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bubble
- pattern
- soft magnetic
- thin film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔1既 要]
バブル転送路パターンに軟磁性Y!v膜を用いた磁気バ
ブルメモリ素子であって、その軟Iff性薄膜パターン
の上に5iOz膜を積層することにより、導体パターン
の結晶に与えるストレスを増大させる軟磁性薄膜の収縮
歪を5iOz膜の有する膨張歪により緩和することによ
り、バブル結晶に与える歪を戚少し、バブル転送路のマ
ージン劣化を防止可能とする。
ブルメモリ素子であって、その軟Iff性薄膜パターン
の上に5iOz膜を積層することにより、導体パターン
の結晶に与えるストレスを増大させる軟磁性薄膜の収縮
歪を5iOz膜の有する膨張歪により緩和することによ
り、バブル結晶に与える歪を戚少し、バブル転送路のマ
ージン劣化を防止可能とする。
本発明は電子計算装置等の記憶装置として用いられる4
i気バブルメモリに関するものである。
i気バブルメモリに関するものである。
磁気バブルメモリ素子は、例えばガドリニウム・ガリウ
ム・ガーネット単結晶等の非磁性基板の上に液相エピタ
キシャル成長法により磁性ガーネットの薄膜を形成し、
その上にパーマロイ等の軟磁性薄膜を用いたハーフディ
スク型又は非対称シェブロン型等のパターンを行列させ
たバブル転送路を形成したものであり、バブル発生器に
より情報に従って発生させたバブルを転送路に導き、そ
のパターンにバブルがある場合を1″、ない場合を“0
”として情報を記憶するようになっている。
ム・ガーネット単結晶等の非磁性基板の上に液相エピタ
キシャル成長法により磁性ガーネットの薄膜を形成し、
その上にパーマロイ等の軟磁性薄膜を用いたハーフディ
スク型又は非対称シェブロン型等のパターンを行列させ
たバブル転送路を形成したものであり、バブル発生器に
より情報に従って発生させたバブルを転送路に導き、そ
のパターンにバブルがある場合を1″、ない場合を“0
”として情報を記憶するようになっている。
このようなルfl気バブルメモリ素子において、最近の
情報量の増加、装置の小型化などの要求により高密度化
が進められている。この高密度化に伴なうバブル径の微
小化により、バブル制御用導体パターンと交差する軟磁
性薄膜のバブル転送路は、そのマージンが劣化し、素子
全体の特性を決定する1頃向にある。
情報量の増加、装置の小型化などの要求により高密度化
が進められている。この高密度化に伴なうバブル径の微
小化により、バブル制御用導体パターンと交差する軟磁
性薄膜のバブル転送路は、そのマージンが劣化し、素子
全体の特性を決定する1頃向にある。
第3図は従来のレプリケートゲートを示す図であり、a
は平面図、bは層構成を示す断面図である。同図におい
て、■はメジャーライン、2はマイナーループ、3は導
体パターン、4はバブル結晶、5は5i(hのスペーサ
、6,6′は樹脂絶縁膜、7は軟磁性薄膜パターンであ
る。このレプリケートゲートでは導体パターン3と交叉
する軟磁性薄膜パターン7にはマイナーループ2より大
きい拡大周期パターンを採用し、バブル駆動力を増して
マージン劣化を抑えている。
は平面図、bは層構成を示す断面図である。同図におい
て、■はメジャーライン、2はマイナーループ、3は導
体パターン、4はバブル結晶、5は5i(hのスペーサ
、6,6′は樹脂絶縁膜、7は軟磁性薄膜パターンであ
る。このレプリケートゲートでは導体パターン3と交叉
する軟磁性薄膜パターン7にはマイナーループ2より大
きい拡大周期パターンを採用し、バブル駆動力を増して
マージン劣化を抑えている。
しかしバブル径が1μmあるいはそれ以下になると交叉
部での扉体パターンストレスによりマージンが大きく劣
化し、軟磁性薄膜パターンの拡大だけでは十分にマージ
ン劣化を抑えることができない。
部での扉体パターンストレスによりマージンが大きく劣
化し、軟磁性薄膜パターンの拡大だけでは十分にマージ
ン劣化を抑えることができない。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、簡易
な構成で導体パターンと軟磁性薄膜パターンの交叉部で
のマージン劣化を抑えた磁気バブルメモリ素子を提供す
ることを目的とするものである。
な構成で導体パターンと軟磁性薄膜パターンの交叉部で
のマージン劣化を抑えた磁気バブルメモリ素子を提供す
ることを目的とするものである。
このため本発明においては、バブル転送路及び機能ゲー
ト類に軟磁性薄膜パターンを用いた磁気バブルメモリ素
子において、軟磁性薄膜パターン14上にSiO2膜1
5を積層し、該軟磁性薄膜パターン14がバブル結晶1
0に与える圧縮歪を、SiO□膜15がバブル結晶10
に与える引張り歪によって打消すようにしたことを特徴
としている。
ト類に軟磁性薄膜パターンを用いた磁気バブルメモリ素
子において、軟磁性薄膜パターン14上にSiO2膜1
5を積層し、該軟磁性薄膜パターン14がバブル結晶1
0に与える圧縮歪を、SiO□膜15がバブル結晶10
に与える引張り歪によって打消すようにしたことを特徴
としている。
軟磁性薄膜パターンがバブル結晶に与える圧縮歪を、該
軟磁性薄膜パターン上に形成したSiO□膜がバブル結
晶に与える引張り歪によって打消すことにより動作マー
ジンの劣化防出が可能となる。
軟磁性薄膜パターン上に形成したSiO□膜がバブル結
晶に与える引張り歪によって打消すことにより動作マー
ジンの劣化防出が可能となる。
第1図は本発明の実施例を示す断面図である。
同図においてIOはバブル結晶、11はSiO□等のス
ペーサ、12は導体パターン、13.13’は樹脂絶縁
膜、14は軟磁性薄膜パターン、15はSiO□膜であ
る。
ペーサ、12は導体パターン、13.13’は樹脂絶縁
膜、14は軟磁性薄膜パターン、15はSiO□膜であ
る。
本実施例は図に示すようにm膜パターン12と交差する
軟磁性薄膜パターン14の上にそれと同じ形状のSin
g膜15全15したものである。
軟磁性薄膜パターン14の上にそれと同じ形状のSin
g膜15全15したものである。
このように構成された本実施例は軟磁性)W膜パターン
14がバブル結晶lOに与える圧縮歪を、SiO□膜1
5がバブル結晶に与える引張り歪によって打消すことに
よりバブル結晶の歪を減少し、従来に比し動作マージン
の向上が得られる。
14がバブル結晶lOに与える圧縮歪を、SiO□膜1
5がバブル結晶に与える引張り歪によって打消すことに
よりバブル結晶の歪を減少し、従来に比し動作マージン
の向上が得られる。
第2図は本実施例の動作マージンを従来例と比較して示
した図である。同図は14μm周朋のパーマロイパター
ン16が導体パターン17と交差する場合であり、縦軸
にバイアス磁界H3を、横軸に駆動磁界H8をとり曲線
Aで本実施例(SiO□膜の厚さ5000人)を、曲線
Bで従来例(Si0g膜なし)をそれぞれ示した。図よ
り本実施例は従来例に比し優れていることがわかる。
した図である。同図は14μm周朋のパーマロイパター
ン16が導体パターン17と交差する場合であり、縦軸
にバイアス磁界H3を、横軸に駆動磁界H8をとり曲線
Aで本実施例(SiO□膜の厚さ5000人)を、曲線
Bで従来例(Si0g膜なし)をそれぞれ示した。図よ
り本実施例は従来例に比し優れていることがわかる。
以上述べてきたように、本発明によれば極めて簡易な構
成で動作マージンの向上が得られ、実用的には極めて有
用である。
成で動作マージンの向上が得られ、実用的には極めて有
用である。
第1図は本発明の実施例を示す断面図、第2図は本発明
の効果を従来例と比較して示した図、 第3図は従来のレプリケートゲートを示す図である。 第1図において、 IOはバブル結晶、 11はスペーサ、 12は導体パターン、 13.13’は樹脂絶縁膜、 14は軟磁性薄膜パターン、 15はSiO□膜である。
の効果を従来例と比較して示した図、 第3図は従来のレプリケートゲートを示す図である。 第1図において、 IOはバブル結晶、 11はスペーサ、 12は導体パターン、 13.13’は樹脂絶縁膜、 14は軟磁性薄膜パターン、 15はSiO□膜である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、バブル転送路及び機能ゲート類に軟磁性薄膜パター
ンを用いた磁気バブルメモリ素子において、 軟磁性薄膜パターン(14)上にSiO_2膜(15)
を積層し、該軟磁性薄膜パターン(14)がバブル結晶
(10)に与える圧縮歪を、SiO_2膜(15)がバ
ブル結晶(10)に与える引張り歪によって打消すよう
にしたことを特徴とする磁気バブルメモリ素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60180411A JPS6240687A (ja) | 1985-08-19 | 1985-08-19 | 磁気バブルメモリ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60180411A JPS6240687A (ja) | 1985-08-19 | 1985-08-19 | 磁気バブルメモリ素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6240687A true JPS6240687A (ja) | 1987-02-21 |
Family
ID=16082779
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60180411A Pending JPS6240687A (ja) | 1985-08-19 | 1985-08-19 | 磁気バブルメモリ素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6240687A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5580004A (en) * | 1993-02-26 | 1996-12-03 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Self-propelled crushing machine |
US5797548A (en) * | 1993-10-25 | 1998-08-25 | Komatsu Ltd. | Self-propelled crushing machine |
-
1985
- 1985-08-19 JP JP60180411A patent/JPS6240687A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5580004A (en) * | 1993-02-26 | 1996-12-03 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Self-propelled crushing machine |
US5797548A (en) * | 1993-10-25 | 1998-08-25 | Komatsu Ltd. | Self-propelled crushing machine |
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