JPS623918Y2 - - Google Patents

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JPS623918Y2
JPS623918Y2 JP5367583U JP5367583U JPS623918Y2 JP S623918 Y2 JPS623918 Y2 JP S623918Y2 JP 5367583 U JP5367583 U JP 5367583U JP 5367583 U JP5367583 U JP 5367583U JP S623918 Y2 JPS623918 Y2 JP S623918Y2
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JP
Japan
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induction heating
frequency induction
heating coil
container
support plate
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JP5367583U
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JPS59158293U (ja
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Publication of JPS623918Y2 publication Critical patent/JPS623918Y2/ja
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  • General Induction Heating (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は高周波電力の誘導によつて、るつぼ内
の融液を加熱する下部の加熱用高周波誘導加熱コ
イルの内側にるつぼが入れられている容器が中心
で回転し、その上縁端とわずかの間隙をおいて、
容器の中心の位置に貫通する孔を有する支持板を
設け、また下部の保温用高周波誘導加熱コイル内
にアフターヒータが取り付けられている保温筒を
支持板の上に固定し、保温筒の周辺の一部に観察
窓を設け、且つ加熱用と保温用の高周波誘導加熱
コイルとを支持板を貫通させて結合する高周波誘
導加熱装置である。
結晶融液から単結晶を育成するチヨクラルスキ
ー法に使用されている高周波誘導加熱装置では、
内側にるつぼを内設する容器の外周に高周波誘導
加熱コイルを設け、容器を駆動機構で回転させて
いる。この容器はるつぼが内設されているほか、
上方は保温筒となり、内側にアフターヒータを内
設し、保温筒およびアフターヒータの周辺の一部
にるつぼ内の融液または結晶の育成状況が観察で
きるように観察窓が設けられている。しかしアフ
ターヒータ、保温筒はるつぼ、容器と一体となつ
ているので、容器の回転のために観察窓も、とも
に回転するので、観察窓から融液、結晶の状況を
十分に観察できない。したがつて単結晶の育成の
作業性が低下する。
従来はこれらの高周波誘導加熱装置の結晶の育
成が観察窓から目視できるように、高周波誘導加
熱コイルの直径を大きくし、加熱コイルの内側と
容器の外側との間に耐熱性の台を設け、この台に
リング状の耐熱板を介してアフターヒータ、保温
筒を固定し設けている。したがつて容器のみが回
転し、保温筒は回転しない構造がとられている。
しかしこの種の構造においては加熱コイルの内径
を容器外径に比べてかなり大きいので、加熱コイ
ルと容器間のリング状の間隙内に台を設けなけれ
ばならず、るつぼ、容器を円滑に回転させるため
に、台、リング状耐熱板などの工作精度が要求さ
れ、組立工数が増加する欠点があり、また容器と
加熱コイルとの間が離れ加熱効率が低下する欠点
がある。
本考案は従来のかかる欠点を除き、アフターヒ
ータ、保温筒などを支持板上に固定支持させ、下
部の高周波誘導加熱コイルを支持板を通して保温
筒外周に設けることによつて融液結晶を観察窓よ
り十分目視できるとともに、構造も簡単で組立容
易な効率のよい高周波誘導加熱装置を得るにあ
る。
本考案の高周波誘導加熱装置の加熱コイル部分
は第1図に示すように管内に冷却水が循環し、熱
伝導性および導電性のよいパイプよりなる高周波
誘導加熱コイル1が螺旋状に設けられ、高い周波
数の電力が供給される。加熱コイルは中間の水平
な支持板5によつて2領域に分けられ、領域2は
加熱コイル1の間隔が密で、領域3は加熱コイル
間隔が阻となり、領域2と領域3との間は支持板
5に貫設されるパイプ孔6内を鉛直方向に連続し
て接続され、連結部4を形成する。また支持板5
の中央部分にコイルの巻内径より小さい内径の貫
通する孔5′が設けられ、支持具16によつて水
平に支持される。
いま第2図に示すように支持板5の貫通する孔
5′に中心を揃えてアフターヒータ13および保
温筒14を固着する。また支持板5の下方に孔
5′と中心を一致させ、内側にるつぼ9を内設す
る容器8の上縁端を支持板5との間にわずかな間
隙をおいて設け、容器8の底には回転駆動機構に
よつて駆動される回転駆動軸7が固着される。容
器8は加熱コイル1の領域2の中で回転し、保温
筒14は加熱コイル1の領域3の中に固定され、
支持台5との境界近くに観察用の窓12が貫設さ
れ、外部からるつぼ9内を目視することができ
る。また支持台5は容器8の上縁端とわずかな間
隙を保つように支持具16によつて支持される。
いまるつぼ9内に単結晶融液10を入れ加熱コ
イル1に高周波電力を加えて加熱し、保温筒14
の方向より融液10内に種子結晶体11が先端に
取りつけられた引き上げ軸15を上に引き上げる
ことによつて単結晶の育成が行なわれる。このと
きるつぼ9および容器8は回転するけれど、アフ
ターヒータ13および保温筒14は支持台5に固
定されているので、観察窓12から融液10の状
況および結晶育成の状態を十分に観察することが
できる。また支持板5を加熱コイル1の外で支持
するので装置の組立作業も容易で、支持具16お
よび支持台5の寸法も従来の構造に比べて精度は
要せず、加熱コイル1はるつぼ9、容器8との間
に近接し設けられるので誘導加熱の効果も大き
い。
以上に述べたように本考案によればアフターヒ
ータ13、保温筒14を簡単な構造で支持組立が
でき、観察窓12かな単結晶の育成状況が観察で
き、加熱効率がよく、生産性の高い高周波誘導加
熱装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図aおよびbは夫々本考案の高周波誘導加
熱装置の一実施例を示す高周波誘導加熱コイルの
正面図および横断面図、第2図は本考案を単結晶
育成炉に適用した縦断面図を示す。 なお、図において、1:加熱コイル、5:支持
板、5′:孔、6:パイプ貫通孔、8:容器、
9:るつぼ、10:融液、11:種子結晶、1
2:観察窓、13:アフターヒータ、14:保温
筒。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 上部と下部に、連結した高周波誘導加熱コイル
    を有し、下部の高周波誘導加熱コイルには、これ
    に内設し、前記コイルの中心軸で回転する円筒状
    るつぼに外接する容器の上縁端に近接し、また前
    記中心軸の位置に貫通孔を設けた支持板上には、
    上部の高周波誘導加熱コイルに内設し、周辺の一
    部に観察窓を設けたアフターヒータを内側面に配
    設する保温筒を固定するとともに、前記下部の高
    周波誘導加熱コイルと、前記上部の高周波誘導加
    熱コイルとを前記支持板を介して結合してなる高
    周波誘導加熱装置。
JP5367583U 1983-04-11 1983-04-11 高周波誘導加熱装置 Granted JPS59158293U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5367583U JPS59158293U (ja) 1983-04-11 1983-04-11 高周波誘導加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP5367583U JPS59158293U (ja) 1983-04-11 1983-04-11 高周波誘導加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS59158293U JPS59158293U (ja) 1984-10-24
JPS623918Y2 true JPS623918Y2 (ja) 1987-01-28

Family

ID=30184019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5367583U Granted JPS59158293U (ja) 1983-04-11 1983-04-11 高周波誘導加熱装置

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JP2018193277A (ja) * 2017-05-18 2018-12-06 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置

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Publication number Publication date
JPS59158293U (ja) 1984-10-24

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