JPS6034026Y2 - 高周波誘導加熱装置 - Google Patents
高周波誘導加熱装置Info
- Publication number
- JPS6034026Y2 JPS6034026Y2 JP20230382U JP20230382U JPS6034026Y2 JP S6034026 Y2 JPS6034026 Y2 JP S6034026Y2 JP 20230382 U JP20230382 U JP 20230382U JP 20230382 U JP20230382 U JP 20230382U JP S6034026 Y2 JPS6034026 Y2 JP S6034026Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- induction heating
- frequency induction
- crucible
- container
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 25
- 230000006698 induction Effects 0.000 title claims description 18
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- General Induction Heating (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は高周波誘導加熱装置に関し、例えばチョクラル
スキー法による単結晶の育成に使用されるこの種装置に
関する。
スキー法による単結晶の育成に使用されるこの種装置に
関する。
チョクラルスキー法による単結晶の育成に使用される高
周波誘導加熱装置では、融液をつくるるつぼが回転する
ように設けられる。
周波誘導加熱装置では、融液をつくるるつぼが回転する
ように設けられる。
すなわち高周波誘導加熱コイル内において回転駆動機構
により駆動される容器にるつぼが内設され、この容器の
上方にはアフタヒータや保温筒が設けられている。
により駆動される容器にるつぼが内設され、この容器の
上方にはアフタヒータや保温筒が設けられている。
ところでアフタヒータやこれを収納している保温筒には
窓が設けられて結晶及び融液を観察できるようにされて
いる。
窓が設けられて結晶及び融液を観察できるようにされて
いる。
しかしアフタヒータ、保温筒は、るつぼを収容している
容器と一体に回転するため、観察を十分行なうことがで
きず、単結晶を育成するうえでの作業性を低下させる原
因となる。
容器と一体に回転するため、観察を十分行なうことがで
きず、単結晶を育成するうえでの作業性を低下させる原
因となる。
このような欠点を解消するため、従来は誘導加熱コイル
の径を大きくして、このコイルとるつぼを収容している
容器との間に耐熱材による台を設け、この台にリング状
の耐熱板を介してアフタヒータ、保温筒とを設けること
により、るつぼとこれを収容している容器だけを回転さ
せるような構造をとっている。
の径を大きくして、このコイルとるつぼを収容している
容器との間に耐熱材による台を設け、この台にリング状
の耐熱板を介してアフタヒータ、保温筒とを設けること
により、るつぼとこれを収容している容器だけを回転さ
せるような構造をとっている。
しかしながらこの構造では、誘導加熱コイルの直径を、
るつぼを収容している容器の径に比してかなり大きくし
なければならず、加熱効率が悪くなる。
るつぼを収容している容器の径に比してかなり大きくし
なければならず、加熱効率が悪くなる。
また全体の構造が複雑になって組み立ての工数が増加す
るという欠点もある。
るという欠点もある。
本考案は、アフタヒータ、保温筒等を簡単な構造で静止
状態に支持できるようにして、融液の観察を十分行なう
ことができ、組み立ても簡単な高周波誘導加熱装置を提
供しようとするものである。
状態に支持できるようにして、融液の観察を十分行なう
ことができ、組み立ても簡単な高周波誘導加熱装置を提
供しようとするものである。
本考案は、アフタヒータ、保温筒等の支持を高周波誘導
加熱コイルを利用して行なうことができるようにしたこ
とを特徴とする。
加熱コイルを利用して行なうことができるようにしたこ
とを特徴とする。
以下に本考案の実施例を説明する。
第１図は本考案の要部、すなわち高周波誘導加熱コイル
部分の縦断面図であり、第２図は同じく横断面図である
。
部分の縦断面図であり、第２図は同じく横断面図である
。
１は熱伝導性及び導電性の良いパイプによる高周波誘導
加熱コイルで、中を冷却水が循環する。
加熱コイルで、中を冷却水が循環する。
第１図中、領域Ｌ１はコイル間隔が密でるつぼを加熱す
る部分であり、領域Ｌ２はコイル間隔が疎でアフタヒー
タ用の加熱部分となる。
る部分であり、領域Ｌ２はコイル間隔が疎でアフタヒー
タ用の加熱部分となる。
領域栴と鳥との境界部分の加熱コイル１の内側には、周
方向に等間隔をおいてここでは３個の支持金具２が同一
平面上にあるように取り付けられている。
方向に等間隔をおいてここでは３個の支持金具２が同一
平面上にあるように取り付けられている。
３は加熱コイル１を支持している絶縁体の支柱である。
支持金具２上には、加熱コイル１の内径よりやや小さい
外径を有するリング状の絶縁性耐熱板４が載置される。
外径を有するリング状の絶縁性耐熱板４が載置される。
第３図は本考案を単結晶育成炉に適用した実施例を端面
図で示す。
図で示す。
第３図中、５は融液をつくるためのるつぼで耐熱性保温
容器６に内設されている。
容器６に内設されている。
保温容器６は加熱コイル１の領域Ｌ１内で軸７を介して
回転駆動される。
回転駆動される。
上述したように、支持金具２上には、耐熱板４が載置さ
れ、更にこの耐熱板４上には円筒状のアフタヒータ８と
これを被うことができるような保温筒９とが設けられて
いる。
れ、更にこの耐熱板４上には円筒状のアフタヒータ８と
これを被うことができるような保温筒９とが設けられて
いる。
耐熱板４の下面とるつぼ５の上端面及び保温容器６の上
端面は、平行でありしかも軸７の中心軸線に垂直となる
。
端面は、平行でありしかも軸７の中心軸線に垂直となる
。
また耐熱板４とるつぼ５及び保温容器６との間隔は、接
触しない程度でできるだけ小さくなるように設定される
。
触しない程度でできるだけ小さくなるように設定される
。
また保温容器６の外径は、支持金具２に接触しない最大
値にし得る。
値にし得る。
この単結晶育成炉は、高周波誘導加熱により溶融状態に
ある回転るつぼ５中の融液１０に種単結晶体１１がつけ
られ、単結晶の育成が行なわれる。
ある回転るつぼ５中の融液１０に種単結晶体１１がつけ
られ、単結晶の育成が行なわれる。
勿論、アフタヒータ８、保温筒９は静止状態にあり、種
結晶体１１を融液１０につける時、あるいは単結晶育成
中もこれらのそれぞれに設けられた切り欠き（図示省略
）を通して、単結晶体及び融液１０の状態を十分観察す
ることができる。
結晶体１１を融液１０につける時、あるいは単結晶育成
中もこれらのそれぞれに設けられた切り欠き（図示省略
）を通して、単結晶体及び融液１０の状態を十分観察す
ることができる。
また育成炉の組立て工数は、従来構造に比して少なく、
高周波誘導加熱コイル１の径も大きくせずに済むので誘
導加熱効率を悪化させることもない。
高周波誘導加熱コイル１の径も大きくせずに済むので誘
導加熱効率を悪化させることもない。
以上説明してきたように、本考案によれば回転駆動され
るるつぼ及びこれを収容している容器に対して、その上
方にアフタヒータ及び保温筒等を静止状態にて配設する
構造の高周波誘導加熱装置において、アフタヒータ及び
保温筒等を簡単な構造で支持することができるので、組
み立てが簡単で融液の観察を十分行なうことができ、生
産効率の向上化、加熱効率の向上化に寄与する効果は大
きい。
るるつぼ及びこれを収容している容器に対して、その上
方にアフタヒータ及び保温筒等を静止状態にて配設する
構造の高周波誘導加熱装置において、アフタヒータ及び
保温筒等を簡単な構造で支持することができるので、組
み立てが簡単で融液の観察を十分行なうことができ、生
産効率の向上化、加熱効率の向上化に寄与する効果は大
きい。
第１図及び第２図はそれぞれ、本考案の要部の縦断面図
及び横断面図、第３図は本考案を単結晶育成炉に適用し
た実施例を端面図で示す。 図中、１は高周波誘導加熱コイル、２は支持金具、３は
支柱、４は耐熱板、５はるつぼ、６は容器、８はアフタ
ヒータ、９は保温筒、１０は融液、１１は単結晶体。
及び横断面図、第３図は本考案を単結晶育成炉に適用し
た実施例を端面図で示す。 図中、１は高周波誘導加熱コイル、２は支持金具、３は
支柱、４は耐熱板、５はるつぼ、６は容器、８はアフタ
ヒータ、９は保温筒、１０は融液、１１は単結晶体。
Claims (1)
- 高周波誘導加熱コイルの内側に、るつぼを有し回転駆動
機構により駆動される容器が配設され、該容器の上方に
はアフタヒータ、保温筒等が配設されて戊る高周波誘導
加熱装置において、上記容器の上端部に対応する高さの
上記コイルの内側に、同一水平面上にあるように複数の
支持金具を設けて上記アフタヒータ、保温筒等を支持す
るようにしたことを特徴とする高周波誘導加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20230382U JPS6034026Y2 (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | 高周波誘導加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20230382U JPS6034026Y2 (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | 高周波誘導加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59103768U JPS59103768U (ja) | 1984-07-12 |
| JPS6034026Y2 true JPS6034026Y2 (ja) | 1985-10-09 |
Family
ID=30427775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20230382U Expired JPS6034026Y2 (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | 高周波誘導加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6034026Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018193277A (ja) * | 2017-05-18 | 2018-12-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 結晶育成装置 |
-
1982
- 1982-12-28 JP JP20230382U patent/JPS6034026Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59103768U (ja) | 1984-07-12 |
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