JPS6236605B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6236605B2
JPS6236605B2 JP55140320A JP14032080A JPS6236605B2 JP S6236605 B2 JPS6236605 B2 JP S6236605B2 JP 55140320 A JP55140320 A JP 55140320A JP 14032080 A JP14032080 A JP 14032080A JP S6236605 B2 JPS6236605 B2 JP S6236605B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
varistor
zinc oxide
thick film
oxide sintered
average particle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55140320A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5763802A (en
Inventor
Akihiro Takami
Mikio Sumyoshi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP55140320A priority Critical patent/JPS5763802A/ja
Publication of JPS5763802A publication Critical patent/JPS5763802A/ja
Publication of JPS6236605B2 publication Critical patent/JPS6236605B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermistors And Varistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は酸化亜鉛粉末とこれを結合するための
ガラスフリツトからなるバリスタ膜に一対の電極
を付与した厚膜バリスタの製造方法に関するもの
である。その目的は従来の厚膜バリスタに比し
て、静電容量の大きい厚膜バリスタを提供するこ
とにある。 従来から酸化亜鉛焼結体粉末とガラスフリツト
からなる厚膜バリスタが開発され、微小、厚膜化
部品として実用に供されてきている。特に、直流
マイクロモータに数多く用いられ、マイクロモー
タの整流子間に接続され、電気高周波雑音を低減
してきた。しかしながら、マイクロモータの周辺
機器の高精度化に伴い、従来の厚膜バリスタでは
雑音レベルが十分低くならないという問題が出て
きた。これは従来の厚膜バリスタの静電容量が
1MHzで200〜300pF(ピコフアラド・10-12F)と
低く、高周波雑音を吸収するには十分でなかつた
ためである。 そこで、本発明は素子形状及びバリスタ特性は
従来とほぼ同じで、静電容量が大巾に増えた厚膜
バリスタを提供しようとするものである。 以下、図面に基づいて本発明の方法を説明す
る。 第1図は本発明の方法により得られた厚膜バリ
スタであり、図において1は電気絶縁性で耐熱性
を有する基板、2と4は電極、3はバリスタ膜
で、酸化亜鉛焼結体粉末とガラスフリツトからな
る。第2図は本発明による厚膜バリスタの電圧−
電流特性を示すものである。周知のようにバリス
タの電圧−電流特性は次の経験式で示される。 I=(V/C)a 但し、I:電流、a:非直線指数、 V:電圧、C:定数 本発明による厚膜バリスタは、低抵抗の酸化亜
遠粉末の周囲を結合剤として働く高抵抗のガラス
が取り囲む網日状になつている。だから、電圧は
ほとんど酸化亜鉛焼結体粉末の境界値を形成する
高抵抗のガラス部分に印加させることになる。し
かも、バリスタの立上り電圧(以下バリスタ電圧
という)の一個の境界層当りの電圧は約2〜3V
であるので、酸化亜鉛焼結粉末の粒径が小さい
程、単位長当りのバリスタ電圧は高くなる。しか
も、厚膜バリスタがバリスタ特性を発期するのは
酸化亜鉛焼結体粉末同志の最短距離部分だけであ
るので、粒径が小さい程、単位面積当りの最短距
離で向い合つている酸化亜鉛焼結体粉末の数は多
い。以上のことから、静電容量は誘電率が同じ場
合、電極間距離に反比例し対向面積に比例するの
で、同じバリスタ電圧の場合は粒径の小さい酸化
亜鉛焼結体粉体を用いた程、静電容量が大きくな
る。これは実験でも確かめられている。その結果
によると、バリスタ電圧V10nA(厚膜バリスタに
10mAを印加した時の厚膜バリスタの両電極間に
発生する電圧)を13Vにした時、平均粒径5μm
(ミクロンメートル10-6m)の場合、1MHzでの
静電容量は320pFであり、平均粒径1.2μmでは
800pFにもなつた。しかしながら、平均粒径が小
さいと膜厚がきわめてうすくなり、耐パルス特性
(異常高電圧に対する耐量)がきわめて悪くな
る。平均粒径5μmの場合、耐パルス電圧が
140Vであつたのに対し、平均粒径1.2μmの場合
50Vであつた。バリスタは異常高電圧の吸収にも
用いられるので、耐パルス特性が悪いと実用には
供し得ない。 以上の点に鑑み、本発明はあらかじめ焼結して
得た酸化亜鉛焼結体粉末で平均粒径の大きいもの
と小さいものの2種以上を用い、ガラスフリツト
と混合してバリスタペーストを作り、基板に塗
布、焼付けを行つてバリスタ膜を形成する方法を
用いたもので、バリスタ特性、特にバリスタ電圧
は平均粒径の大きい酸化亜鉛焼結体粉末に支配さ
れ、静電容量は平均粒径の小さい酸化亜鉛焼結体
粉末を加えることにより、有効面積を増すことに
なり、静電容量を増加させることになる。このこ
とはバリスタの非直線指数aが大きくなればさら
に顕著になる。 一方、電圧非直線抵抗器において、異なる粒径
のZnO原材料を用いることが考えられたが(特開
昭55−82403号公報)、この従来の技術は、ZnO粒
子を種結晶とし、焼成時に大きな粒成長させて、
制限電圧特性の向上と、サージエネルギー耐量の
向上を図つたものであり、本発明のバリスタとは
根本的に技術的思想が異なるものであつた。 以下、具体的な実施例を挙げて本発明の内容を
述べる。 本発明において使用したバリスタペーストは、
次のようにして作つた。すなわち、酸化亜鉛
(ZnO)粉末を1350℃で空気中雰囲気のもとで1
時間加熱した。得られた焼結体をスタンプミルで
粗粉砕し、つづいてボールミルで5時間と100時
間微粉砕し、それぞれ平均粒径が5〜10μmのも
のと1〜2μmのものの2種類の微粉砕物を作つ
た。次に、ガラスフリツト組成として酸化硼素
(B2O3)、酸化バリウム(BaO)、酸化亜鉛
(ZnO)をそれぞれ35重量%、30重量%、35重量
%とし、混合した。これを1250℃で溶融し、水中
に投入急冷してから粗粉砕しボールミルを用いて
平均粒径3〜5ミクロンのガラスフリツトを作つ
た。 次に、下記の表に示した割合で平均粒径5〜10
μmと1〜2μmの酸化亜鉛焼結体粉末を混合
し、それとガラスフリツトをそれぞれ60重量%、
40重量%混合し、増粘剤を含む溶剤を加えて、フ
ーバーマーラーでよく混練してバリスタペースト
を作つた。 電極材料は銀粉95対酸化ビスマス(Bi2O3)5の
重量比の粉末にカルビトールアセテートの溶剤中
にエチルセルロースを溶解したものを加え作成し
た。 次に、順膜バリスタの製造法を述べる。 銀ペーストをまずアルミナ基板1の上にスクリ
ーン印刷法により塗布し、乾燥後、最高温度900
℃で10分間焼付け、電極2を形成した。次に、バ
リスタペーストをスクリーン印刷法で塗布し、
900℃で10分焼付け厚膜バリスタ3を形成した。
つづいて、銀ペーストをスクリーン印刷法で厚膜
バリスタ3の上面に塗布し、900℃で10分間焼付
け電極4を形成した。このようにして得た厚膜バ
リスタの特性を下記の表に示す。
【表】 この時のバリスタ膜の実効面積は約20mm2であ
り、バリスタ電圧V10nAは12Vにした。耐パルス
電圧は第3図に示す試験回路で測定した。つま
り、まず直流電圧源から10KΩの抵抗を通して35
μFのコンデンサに充電し、それを厚膜バリスタ
に放電する。それを10回繰返し、厚膜バリスタV
10nAが−10%まで劣化する電圧を耐パルス電圧と
した。耐パルス電圧としては、マイクロモータの
場合通常直流100Vが要求される。 以上のことから、平均粒径5〜10μmの酸化亜
鉛焼結体粉末と1〜2μmのそれとの重量比が
70:30から30:70までの間なら、耐パルス電圧は
100V以上で、しかも静電容量も500pF以上と従
来の厚膜バリスタに比べ2倍以上になることがわ
かる。 以上述べてきたことは、酸化亜鉛焼結体の中に
他の添加物を加えて、粉末を作つた場合もその効
果は何ら損われない。また、ガラスフリツトの組
成を少々変えても誘電率εが変化するだけで、そ
の効果は何ら損われることはない。 以上のように本発明によれば、あらかじめ焼結
して得た平均粒径の異なる2種以上の酸化亜鉛焼
結体粉末とガラスフリツトとを混合してバリスタ
ペーストを得、このバリスタペーストを基板上に
電極を介して塗布した後、ガラスの融点以上で焼
付けてバリスタ膜を形成するものであり、従来の
厚膜バリスタと同一形状でしかも他の電気的性能
を低下させることなく、静電容量を増加させるこ
とができ、高周波雑音を十分に吸収することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法により得られた厚膜バリス
タの断面図、第2図は同バリスタの電圧−電流特
性を示す曲線図、第3図は厚膜バリスタの耐パル
ス特性を試験する試験装置の回路図である。 1……電気絶縁性基板、2,4……電極、3…
…バリスタ膜。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 電気絶縁性基板の上に、あらかじめ焼結して
    得た平均粒径の異なる2種以上の酸化亜鉛焼結体
    粉末とガラスフリツトとの混合物に増粘剤を含む
    溶剤を加えたペースト(バリスタペースト)を電
    極を介して塗布し、その後ガラスの融点以上で焼
    付けてバリスタ膜を形成したことを特徴とする厚
    膜バリスタの製造方法。 2 平均粒径5〜10μmの酸化亜鉛焼結体粉末を
    30〜70重量%とし、残りを平均粒径1〜2μmの
    酸化亜鉛焼結体粉末として酸化亜鉛焼結体粉末を
    構成した特許請求の範囲第1項記載の厚膜バリス
    タの製造方法。
JP55140320A 1980-10-06 1980-10-06 Method of producing thick varistor Granted JPS5763802A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55140320A JPS5763802A (en) 1980-10-06 1980-10-06 Method of producing thick varistor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55140320A JPS5763802A (en) 1980-10-06 1980-10-06 Method of producing thick varistor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5763802A JPS5763802A (en) 1982-04-17
JPS6236605B2 true JPS6236605B2 (ja) 1987-08-07

Family

ID=15266062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55140320A Granted JPS5763802A (en) 1980-10-06 1980-10-06 Method of producing thick varistor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5763802A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI367503B (en) * 2007-04-26 2012-07-01 Leader Well Technology Co Ltd Dual functions varistor material
JP5728868B2 (ja) * 2010-09-24 2015-06-03 日立化成株式会社 n型拡散層形成組成物、n型拡散層形成組成物の製造方法、n型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5763802A (en) 1982-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3725836A (en) Thick film varistor and method for making the same
EP0633580B1 (en) Power surge resistor pastes
US4333861A (en) Thick film varistor
US2886476A (en) Resistors
EP0452511B1 (en) Zinc oxide varistor, manufacture thereof, and crystallized glass composition for coating
CN115443513A (zh) 厚膜电阻糊、厚膜电阻体和电子部件
CN115461825A (zh) 厚膜电阻糊、厚膜电阻体和电子部件
US4349496A (en) Method for fabricating free-standing thick-film varistors
JPS6236605B2 (ja)
US4146677A (en) Resistor material, resistor made therefrom and method of making the same
JPH10229004A (ja) チップ型バリスタ
JP2018067640A (ja) 正温度係数抵抗体用組成物、正温度係数抵抗体用ペースト、正温度係数抵抗体ならびに正温度係数抵抗体の製造方法
JPH0248123B2 (ja)
JPS6032752Y2 (ja) 複合部品
JPS6050322B2 (ja) 厚膜バリスタ
JPS6236604B2 (ja)
JPS5821804B2 (ja) アツマクバリスタヨウデンキヨクザイリヨウ
JP2962056B2 (ja) 電圧非直線抵抗体
JPS5928961B2 (ja) 厚膜バリスタ
JPH08222411A (ja) チップ型セラミック電子部品の製造方法
KR20210007123A (ko) ZnO계 바리스터 조성물과 이의 제조방법 및 바리스터
JPS6050734B2 (ja) 厚膜バリスタ用結合剤ガラス
JPS6241403B2 (ja)
JPS5950201B2 (ja) 厚膜バリスタの製造方法
JPH0378205A (ja) 抵抗体製造用組成物