JPS6236387A - 3,7-disubstituted-3-cephem compound and production thereof - Google Patents

3,7-disubstituted-3-cephem compound and production thereof

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JPS6236387A
JPS6236387A JP61183899A JP18389986A JPS6236387A JP S6236387 A JPS6236387 A JP S6236387A JP 61183899 A JP61183899 A JP 61183899A JP 18389986 A JP18389986 A JP 18389986A JP S6236387 A JPS6236387 A JP S6236387A
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JP
Japan
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formula
salt
compound
formulas
tables
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Pending
Application number
JP61183899A
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Japanese (ja)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Yoshiko Inamoto
稲本 美子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by the formula I [R<1> is (protected) amino; R<2> is (protected) carboxy; R<3> is H or hydroxy-protecting group] and its salt. EXAMPLE:7-[( 2-Amonothiazol-4-yl )-2-hydroxyiminoacetamido]-3-(1,2,4-thidiazol-5-yl) thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer). USE:A preventive and remedy for microbism. PREPARATION:A compound shown by the formula II or a reactive derivative at the amino group or its salt is reacted with a compound shown by the formula III or its reactive derivative at the carboxyl group or its salt.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は新規な3.7−ジ置換−3−セフェム化合物
およびその塩類に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] This invention relates to novel 3,7-disubstituted-3-cephem compounds and salts thereof.

さらに詳細には、この発明は抗菌活性を有する新規な3
.7−ジ置換−3−セフェム化合物およびその塩類、そ
れらの製法、それらを有効成分とする細菌感染症予防・
治療剤に関する。
More specifically, this invention discloses novel 3
.. 7-disubstituted-3-cephem compounds and their salts, their production methods, and prevention of bacterial infections using them as active ingredients
Regarding therapeutic agents.

[発明の目的] すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して強い抗菌活性を有する新規3.7−ジ置換−3−セ
フェム化合物およびその塩類を提供することである。
[Object of the Invention] That is, one object of the present invention is to provide a novel 3,7-disubstituted-3-cephem compound and its salts that have strong antibacterial activity against many pathogenic bacteria.

この発明のもう一つの目的は、新規3.7−ジ置換−3
−セフェ・ム化合物およびその塩類の製法を提供するこ
とである。
Another object of this invention is the novel 3,7-disubstituted-3
- To provide a method for producing cephem compounds and salts thereof.

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記3.7−ジ置換−3−セフェム化合物およびその塩類
を含有してなる細菌感染症予防・治療剤を提供すること
である。
Yet another object of the present invention is to provide a prophylactic/therapeutic agent for bacterial infections containing the 3,7-disubstituted-3-cephem compound and its salts as active ingredients.

[従来の技術] この発明の先行技術としては、例えば、下記の化合物が
公知である。
[Prior Art] As prior art to this invention, for example, the following compounds are known.

(昭和60年特許出願公告第11713号)[発明が解
決しようとする問題点] しかしながら、このような公知化合物の抗菌スペクトル
は限定的であって、特にダラム陽性菌に対する抗菌活性
はあまり強くない。
(Patent Application Publication No. 11713 of 1985) [Problems to be Solved by the Invention] However, the antibacterial spectrum of such known compounds is limited, and the antibacterial activity against Durham-positive bacteria is not particularly strong.

そのような状況下、広い抗菌スペクトルを持し、その上
特にダラム陽性菌に対して強い抗菌活性を持った抗菌剤
が強く望まれている。
Under such circumstances, there is a strong desire for an antibacterial agent that has a broad antibacterial spectrum and has particularly strong antibacterial activity against Durham-positive bacteria.

そこで、この発明の発明者らは、鋭意研究の結果、優れ
た抗菌剤を得ることに成功した。
As a result of intensive research, the inventors of this invention succeeded in obtaining an excellent antibacterial agent.

[問題点を解決するための手段コ この発明の新規、3.7−ジ置換−3−セフェム化合物
は下記一般式(1)で示すことができる。
[Means for Solving the Problems] The novel 3,7-disubstituted-3-cephem compound of the present invention can be represented by the following general formula (1).

[式中、R1はアミノまたは保護されたアミン基、 R2はカルボキシまたは保護されたカルボキシ基、 R3は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞれ意味する
]。
[In the formula, R1 means an amino or protected amine group, R2 means a carboxy or protected carboxy group, and R3 means hydrogen or a hydroxy protecting group, respectively].

この明細書において、式: (式中、R3は前と同じ意味)で示される立体を有する
化合物(1)はシン体と称され、「シン異性体」とは上
記立体特異性構造を有する化合物を意味するものとする
In this specification, the compound (1) having the stereogenic structure represented by the formula: (wherein R3 has the same meaning as before) is referred to as a syn isomer, and the term "syn isomer" refers to a compound having the above stereospecific structure. shall mean.

目的化合物(I>の好適な塩類は慣用の無毒性で医薬と
して許容される塩類であり、無機塩基との塩、その例と
して、例えばナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩等
のアルカリ金属塩、例えば力jレシウム塩、マグネシウ
ム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩;有機塩
基との塩、その例として、例えばトリエチルアミン塩、
ピリジン塩、ビフリン塩、エタノールアミン塩、トリエ
タノールアミン塩、ジシクロへキシルアミン塩、N、 
N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機アミン
塩等;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等
の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ
酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩
、ベンゼンスルホン酢塩、p−トルエンスルホン酸塩等
の有機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩;
例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の
塩基性または酸性アミノ酸との塩等のような塩基との塩
または酸付加塩が挙げられる。
Suitable salts of the target compound (I>) are customary non-toxic and pharmaceutically acceptable salts, such as salts with inorganic bases, such as alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts, cesium salts, e.g. Alkaline earth metal salts such as lesium salts and magnesium salts, ammonium salts; salts with organic bases, such as triethylamine salts,
Pyridine salt, bifrin salt, ethanolamine salt, triethanolamine salt, dicyclohexylamine salt, N,
Organic amine salts such as N'-dibenzylethylenediamine salt; inorganic acid addition salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, phosphate; for example, formate, acetate, trifluoroacetate, maleic acid; Organic carboxylic acid addition salts or organic sulfonic acid addition salts such as salt, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfone acetate, p-toluenesulfonate;
Examples include salts with bases or acid addition salts such as salts with basic or acidic amino acids such as arginine, aspartic acid, and glutamic acid.

この発明の目的化合物(I)またはその塩類は、次の反
応式で示きれる種々の方法によって製造することができ
る。
The object compound (I) of this invention or its salts can be produced by various methods shown in the following reaction formula.

製法1 (III) またはアミン基における その反応性誘導体または その塩 CI) またはその塩 製法2 (Ia) またはその塩 (Ib) またはその塩 鷲」組1 またはその塩 (I) またはその塩 製法4 (Ib) またはその塩 またはその塩 製法5 (Id) またはその塩 (IC) またはその塩 製法6 (If’) またはその塩 (Ig) またはその塩 1迭ユ (Vl) またはその塩 またはその塩 [式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前と同じ意味
であり、 R1は保護されたアミノ基、 R2は保護されたカルボキシ基、 Rbはエステル化されたカルボキシ基、R3はヒドロキ
シ保護基、 Xは酸残基、 Yは式: で置換されうる基を意味する]。
Production method 1 (III) or a reactive derivative thereof in an amine group or a salt thereof CI) or a salt thereof Production method 2 (Ia) or a salt thereof (Ib) or a salt thereof Group 1 or a salt thereof (I) or a salt thereof Production method 4 (Ib) or its salt or its salt manufacturing method 5 (Id) or its salt (IC) or its salt manufacturing method 6 (If') or its salt (Ig) or its salt 1 unit (Vl) or its salt or its salt [In the formula, R1, R2 and R3 each have the same meaning as before, R1 is a protected amino group, R2 is a protected carboxy group, Rb is an esterified carboxy group, R3 is a hydroxy protecting group, X represents an acid residue, and Y represents a group that can be substituted with the formula: ].

この発明の原料化合物のうち化合物(IV)およびその
中間体は新規であり、このような新規化合物は次の一般
式: [式中、R2およびXはそれぞれ前と同じ意味であり、 Aはメチレンまたは式” /C−N〜OR(式中、R3
は水素またはヒドロキシ保護基を意味する)で示される
基を意味する]またはその塩によって表わされ、また、
下記反応式に示す製法または常法によって製造すること
ができる。
Among the raw material compounds of this invention, compound (IV) and its intermediates are novel, and such novel compounds have the following general formula: [wherein R2 and X each have the same meaning as above, and A is methylene or the formula "/C-N~OR (in the formula, R3
means a hydrogen or hydroxy protecting group) or a salt thereof, and
It can be produced by the production method shown in the reaction formula below or by a conventional method.

またはアミノ基におけるその 反応性誘導体またはその塩 [式中、R2、AおよびXはそれぞれ前と同じ意味であ
るコ。
or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof [wherein R2, A and X each have the same meaning as before].

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる。
In the foregoing and following description of this specification, preferred examples and explanations of the various definitions falling within the scope of this invention are set forth in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味し、望ましくは炭素原子1〜4個を意味するもの
とする。
"Lower", unless otherwise specified, shall mean 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms.

「高級、とは、特に指示がなければ、炭素原子7〜20
個を意味するものとする。
"Higher grade means 7 to 20 carbon atoms, unless otherwise specified.
shall mean an individual.

好適な1保護されたアミノ」基としては、ペニシリンお
よびセファロスポリン化合物に使用きれる慣用の7ミノ
保護基、その例として、下記のアシル基、例えばベンジ
ル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ(またはジまた
はトリ)−フェニル(低級)アルキルのようなアル(低
級)アルキル基、例えば1−メトキシカルボニル−1−
プロペン−2−イル等の低級アルコキシカルボニル(低
級)アルキリデンまたはそのエナミン型互変異性体、例
えばジメチルアミノメチレン等のジ(低級)アルキルア
ミノメチレン等によって置換きれたアミン基が挙げられ
る。
Suitable 1-protected amino'' groups include the conventional 7-amino protecting groups used in penicillin and cephalosporin compounds, such as the following acyl groups, such as mono-(or di- or an a(lower)alkyl group such as tri)-phenyl(lower)alkyl, e.g. 1-methoxycarbonyl-1-
Examples include amine groups substituted with lower alkoxycarbonyl (lower) alkylidene such as propen-2-yl or its enamine type tautomer, for example di(lower) alkylamino methylene such as dimethylamino methylene.

好適な「アシル基」としては、脂肪族アシル基、芳香族
アシル基、複素環アシル基および芳香族基または複素環
基で置換された脂肪族アシル基が挙げられる。
Suitable "acyl groups" include aliphatic acyl groups, aromatic acyl groups, heterocyclic acyl groups, and aliphatic acyl groups substituted with aromatic or heterocyclic groups.

脂肪族アシル基としては、例えばホルミル、アセデル、
プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメシル、エタンスルホニル、プロパン
スルホニル等の低級アルカンスルホニル基、例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニ
ル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばアクリロイ
ル、メタクリロイル、クロトノイル等の低級アルケノイ
ル基、例えばシクロヘキサンカルボニル等の(03〜C
7)シクロアルカンカルボニル基、アミジノ基等のよう
な飽和または不飽和、非環式または環式脂肪族アシル基
が挙げられる。
Examples of aliphatic acyl groups include formyl, acedel,
Lower alkanoyl groups such as propionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl, invaleryl, pivaloyl, hexanoyl, lower alkanesulfonyl groups such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, e.g. methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary Lower alkoxycarbonyl groups such as butoxycarbonyl, lower alkenoyl groups such as acryloyl, methacryloyl, crotonoyl, etc. (03-C
7) Saturated or unsaturated, acyclic or cycloaliphatic acyl groups such as cycloalkanecarbonyl groups, amidino groups, etc. are included.

芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トルオイ
ル、キシロイル等のアロイル基、例えばベンゼンスルホ
ニル、トシル等のアレンスルホニル基等が挙げられる。
Examples of the aromatic acyl group include aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, and xyloyl, and allenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl and tosyl.

複素環アシル基としては、例えばフロイル、テノイル、
ニコチノイル、インニコチノイル、チアゾリルカルボニ
ル、チアジアゾリル力ルボニ&。
Examples of the heterocyclic acyl group include furoyl, thenoyl,
Nicotinoyl, innicotinoyl, thiazolylcarbonyl, thiadiazolyl carbonyl &.

テトラゾリルカルボニル等の複素環カルボニル基等が挙
げられる。
Examples include heterocyclic carbonyl groups such as tetrazolylcarbonyl.

芳香族基で置換きれた脂肪族アシル基としては、例えば
フェニルアセデル、フェニルプロピオニル、フェニルヘ
キサノイル等のフェニル(低級)アルカノイル基のよう
なアル(低級)アルカノイル基、例えばベンジルオキシ
カルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のフェニル
(低級)アルコキシカルボニル基のようなアル(低級)
アルコキシカルボニル基、例えばフェノキシアセチル、
フェノキシプロピ才二ル等のフェノキシ(低級)アルカ
ノイル基等が挙げられる。
Examples of the aliphatic acyl group substituted with an aromatic group include alkanoyl groups such as phenyl(lower)alkanoyl groups such as phenylacedel, phenylpropionyl, and phenylhexanoyl, such as benzyloxycarbonyl and phenethyloxy. phenyl (lower) such as carbonyl; alkoxycarbonyl (lower);
Alkoxycarbonyl groups, such as phenoxyacetyl,
Examples include phenoxy (lower) alkanoyl groups such as phenoxypropylene.

複素環基で置換された脂肪族アシル基としては、チェニ
ルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアジア
ゾリルアセチル、チェニルフロピオニル、チアジアゾリ
ルプロピオニル等が挙げられる。
Examples of the aliphatic acyl group substituted with a heterocyclic group include chenyl acetyl, imidazolylacetyl, furylacetyl,
Examples include tetrazolylacetyl, thiazolyl acetyl, thiadiazolyl acetyl, thenylfuropionyl, thiadiazolylpropionyl and the like.

これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基、例えば塩素、臭素、沃素、フッ素等
のハロゲン、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキン、ペンチルオキシ、ヘキシル
オキシ等の低級アルコキシ基、例えばメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ
、ペンチルチオ、ヘキシルチオ等の低級アルキルチオ基
、ニトロ基等のような1個以上の適当な置換基で置換さ
れていてもよく、そのような置換基を有する好ましいア
シル基としては、例えばクロロアセチル、ブロモアセチ
ル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等のモノ
(またはジまタハトリ)−ハロ(低級)アルカノイル基
、例えばクロロメトキシカルボニル、ジクロロメトキシ
カルボニル、2.2.2−トリクロロエトキシカルボニ
ル等のモノ(またはジまたはトリ)−ハロ(低級)アル
コキシカルボニル基、例えばニトロベンジルオキシカル
ボニル、クロロベンジルオキシカルボニル、メトキシベ
ンジルオキシカルボニル等のニトロ(またはハロまたは
低級アルコキシ)フェニル(低級)アルコキシカルボニ
ル基等が挙げられる。
These acyl groups may further include lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, halogens such as chlorine, bromine, iodine, fluorine, methoxy, ethoxy, propoxy,
One or more suitable substitutions such as lower alkoxy groups such as isopropoxy, butquine, pentyloxy, hexyloxy, lower alkylthio groups such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, nitro groups, etc. Preferred acyl groups having such substituents include mono(or di-halo)-halo(lower) alkanoyl such as chloroacetyl, bromoacetyl, dichloroacetyl, trifluoroacetyl, etc. mono(or di- or tri)-halo(lower)alkoxycarbonyl groups such as chloromethoxycarbonyl, dichloromethoxycarbonyl, 2.2.2-trichloroethoxycarbonyl, etc., such as nitrobenzyloxycarbonyl, chlorobenzyloxycarbonyl, methoxy Examples include nitro (or halo or lower alkoxy) phenyl (lower) alkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl.

好適な1保護されたカルボキシ基、としては、ぺ二ンリ
ンまたはセファロスポリン化合物に慣用されるエステル
化されたカルボキシ基が挙げられる。
Suitable 1-protected carboxy groups include esterified carboxy groups commonly used in penyline or cephalosporin compounds.

「エステル化されたカルボキシ基、の好適な1工ステル
部分」としては、例えばメチルエステル、エチルエステ
ル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチル
エステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル
、ペンチルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシ
ルエステル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエ
ステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル、
 (列、t l;i’エチニルエステル、プロピニルエ
ステル等の低級アルキニルエステル、例えばメトキシメ
チルエステル ブロボキシメチルエステノ呟 1−メトキシエチルエス
テル、1−エトキシエチルエステル等の低級アルコキシ
(低級)アリルエステノ呟例えばメチルチオメチルエス
テル、エチルチオメチルエステル、エチルチオエテルエ
ステル、イソプロピルチオメチルエステル等の低級アル
キルチオ(低級)アルキルエステL,例えばカルボキシ
メチルエステル、2−カルボキシエチルエステル、3−
カルポキシブロビルエステル等のカルボキシ置換低級ア
リルエステノ呟例えば第三級ブトキシカルボニルメチル
エステル、2−第三級ブトキシカルボニルエチルエステ
ル、3−第三級プトキシ力ルポニルブロピルエステル等
の低級アルコキシカルボニル置換(低級)アルキルエス
テルのような保護きれたカルボキシ置換(低級)アルキ
ルエステル、例えば2−ヨードエチルエステル、2.2
Examples of "a suitable monoester moiety of an esterified carboxy group" include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, tertiary Lower alkyl esters such as pentyl esters and hexyl esters, lower alkenyl esters such as vinyl esters and allyl esters,
(Column, tl; i' Lower alkynyl esters such as ethynyl ester, propynyl ester, etc., e.g. methoxymethyl ester, broboxymethyl ester, lower alkoxy (lower) allyl ester such as 1-methoxyethyl ester, 1-ethoxyethyl ester, etc. Lower alkylthio (lower) alkyl esters such as methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioether ester, isopropylthiomethyl ester, etc., such as carboxymethyl ester, 2-carboxyethyl ester, 3-
Carboxy-substituted lower allylic esters such as carboxybrobyl ester, lower alkoxycarbonyl-substituted compounds such as tertiary-butoxycarbonylmethyl ester, 2-tertiary butoxycarbonyl ethyl ester, 3-tertiary butoxycarbonylpropyl ester, etc. protected carboxy-substituted (lower) alkyl esters such as 2-iodoethyl esters, 2.2
.

2−トリクロロエチルエステル等のモノ(またはジまた
はトリ)ハロ(低級)アルキルエステル、例えばアセト
キシメチルエステル、プロとオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキ
サノイルオキシメチルエステル、1(または2)−アセ
トキシエチルエステル、1(または2または3)−アセ
トキシプロピルエステル、1(または2または3または
4)−アセトキシブチルエステル、1(または2)−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、1(または2または
3)−プロピオニルオキシプロピルエステル、1(また
は2)−ブチリルオキシエチルエステル、1(または2
)−イソブチリルオキシエチルエステル、1(または2
)−ピバロイルオキシエチルエステル、1(または2)
−ヘキサノイルオキシエチルエステル、イソブチリルオ
キシメチルエステル、2−エチルブチリルオキシメデル
エステル、3.3−ジメチルブチリルオキシメチルエス
テル、1(または2)−ペンタノイルオキシエチルエス
テル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエス
テル、例えばヘブタノイルオキシメチルエステル、オク
タノイルオキシエチルエステル、ノナノイルオキシメチ
ルエステノ1デカノイルオキシメチルエステル、ウンデ
カノイルオキシメチルエステル、ラウロイルオキシメチ
ルエステル、トリデカノイルオキシメチルエステル、ミ
リストイルオキシメチルエステル、ペンタデカノイルオ
キシメチルエステルトイルオキシメチルエステル、ヘプ
タデカノイルオキシメチルエステル、ステアロイルオキ
シメチルエステル、ノナデカノイルオキシメチルエステ
ル、エイコサノイルオキシメチルエステル、1(または
2)−ヘプタノイルオキシエチルエステル、1(または
2)−オクタノイルオキシエチルエステル、1(または
2)−ノナノイルオキシエチルエステル、1(または2
)−デカノイルオキシエチルエステル、1(または2)
−ウンデカノイルオキシメチルエステル呟 1(または
2)−ラウロイルオキシエチルエステル、1(または2
)ートリデカノイルオキシメチルエステル、1(または
2)−ミリストイルオキシエチルエステル、1(または
2)−ペンタデカノイルオキシエチルエステル、1(ま
・たは2)−バルミトイルオキシエチルエステル、1(
または2)−ヘプタデカノイルオキシエチルエステル、
1(または2)−ステアロイルオキシエチルエステル、
1(または2)−ノナデカノイルオキシエチルエステル
(または2)−エイフサノイルオキシエチルエステル等
の高級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル、
例えばメトキシカルボニルオキシメチルエステル、エト
キシカルボニルオキシメチルエステル ル エステル、第三級ブトキシカルボニルオキシメチルエス
テル、1(または2)−メトキシカルボニルオキシエチ
ルエステル、1(または2)−エトキシカルボニルオキ
シエチルエステル、1(または2)−プロポキシカルボ
ニルオキシエチルエステル、1(または2)−イソプロ
ポキシカルボニルオキシエチルエステル、1(または2
)−ブトキシカルボニルオキシエチルエステル、1(ま
たは2)−イソブトキシカルボニルオキシエチルエステ
ル、1(または2)−第三級ブトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、1(または2)−ヘキシルオキシカル
ボニルオキシエチルエステル、1(または2または3)
−メトキシ力ルポニルオキシプロピルエステノ呟 1(
または2または3)ーエトキシ力ルポニルオキシブロピ
ルエステル、1(または2または3)−イソブトキシカ
ルボニルオキシエチルエステル、1(または2または3
または4)−エトキシカルボニルオキシブチルエステル
、1(または2または3または4)−ブトキシカルボニ
ルオキシブチルエステル、1(または2または3または
4または5)−ペンチルオキシカルボニルオキシペンチ
ルエステル、1(または2または3または4または5)
−ネオペンチルオキシカルボニルオキシペンチルエステ
ル、1(または2または3または4または5または6)
−エトキシカルボニルオキシヘキシルエステル等の低級
アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキルエステル
、例えば(5−メチル−2−才キソー1.3−ジオキソ
−ルー4−イル)メチルエステル、(5−エチル−2−
オキソ−1。
Mono (or di or tri) halo (lower) alkyl esters such as 2-trichloroethyl ester, e.g. acetoxymethyl ester, pro and onyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxy Methyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1 (or 2)-acetoxyethyl ester, 1 (or 2 or 3)-acetoxypropyl ester, 1 (or 2 or 3 or 4)-acetoxybutyl ester, 1 (or 2)-acetoxybutyl ester -propionyloxyethyl ester, 1 (or 2 or 3) -propionyloxypropyl ester, 1 (or 2) -butyryloxyethyl ester, 1 (or 2)
)-isobutyryloxyethyl ester, 1 (or 2
)-pivaloyloxyethyl ester, 1 (or 2)
-Lower alkanoyloxy such as hexanoyloxyethyl ester, isobutyryloxymethyl ester, 2-ethylbutyryloxymedel ester, 3,3-dimethylbutyryloxymethyl ester, 1 (or 2)-pentanoyloxyethyl ester, etc. (Lower) alkyl esters, such as hebutanoyloxymethyl ester, octanoyloxyethyl ester, nonanoyloxymethylester, decanoyloxymethyl ester, undecanoyloxymethyl ester, lauroyloxymethyl ester, tridecanoyloxymethyl ester, myristoyloxymethyl ester, pentadecanoyloxymethyl ester, toyloxymethyl ester, heptadecanoyloxymethyl ester, stearoyloxymethyl ester, nonadecanoyloxymethyl ester, eicosanoyloxymethyl ester, 1 (or 2)- heptanoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-octanoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-nonanoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-octanoyloxyethyl ester,
)-decanoyloxyethyl ester, 1 (or 2)
-undecanoyloxymethyl ester 1 (or 2) -lauroyloxyethyl ester, 1 (or 2)
)-tridecanoyloxymethyl ester, 1 (or 2)-myristoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-pentadecanoyloxyethyl ester, 1 (or 2)-valmitoyloxyethyl ester, 1 (
or 2)-heptadecanoyloxyethyl ester,
1 (or 2)-stearoyloxyethyl ester,
Higher alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as 1 (or 2)-nonadecanoyloxyethyl ester (or 2)-eifsanoyloxyethyl ester,
For example, methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, tertiary butoxycarbonyloxymethyl ester, 1(or 2)-methoxycarbonyloxyethyl ester, 1(or 2)-ethoxycarbonyloxyethyl ester, 1(or 2)-ethoxycarbonyloxyethyl ester, 2)-Propoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-isopropoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)
)-butoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-isobutoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-tertiary butoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2)-hexyloxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2 or 3)
-Methoxyloxypropylesterone 1 (
or 2 or 3) -ethoxylponyloxypropyl ester, 1 (or 2 or 3) -isobutoxycarbonyloxyethyl ester, 1 (or 2 or 3) -
or 4)-Ethoxycarbonyloxybutyl ester, 1 (or 2 or 3 or 4)-butoxycarbonyloxybutyl ester, 1 (or 2 or 3 or 4 or 5)-pentyloxycarbonyloxypentyl ester, 1 (or 2 or 3 or 4 or 5)
-neopentyloxycarbonyloxypentyl ester, 1 (or 2 or 3 or 4 or 5 or 6)
-lower alkoxycarbonyloxy (lower) alkyl esters such as ethoxycarbonyloxyhexyl ester, e.g.
Oxo-1.

3−ジオキソ−ルー4−イル)メチルエステル、(5−
プロピル−2−オキソ−1.3−ジオキ7 − ルー 
4 − イル)エチルエステル等の(5−低級アルキル
ー2−才キソー1.3−ジオキソ−ルー4−イル)(低
級)アルキルエステル、例えばメシルメチルエステル、
2−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル
(低級)アルキルエステル、例えばベンジルエステル、
4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエ
ステル、フェネチルエステル、ベンズヒドリルエステル
、トリチルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチル
エステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−
ヒドロキシ−3.5−ジ第五級ブチルベンジルエステル
等の1個以上の適当な置換基を有していてもよいモノ(
またはジまたはトリ)フェニル(低級)アルキルエステ
ルのような1個以上の置換基を有していてもよいアル(
低級)アルキルエステル、例えばフェニルエステル、ト
リルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル、サ
リチルエステル等の1個以上の適当なfIt、換基を有
していてもよいアリールエステル、例えばフタリジルエ
ステル等の複素環エステル等が挙げられる。
3-dioxol-4-yl)methyl ester, (5-
Propyl-2-oxo-1,3-dioki7-ru
(5-lower alkyl-2-xo-1,3-dioxo-4-yl)(lower) alkyl esters such as 4-yl)ethyl ester, such as mesylmethyl ester;
lower alkanesulfonyl (lower) alkyl esters such as 2-mesylethyl ester, e.g. benzyl ester,
4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, benzhydryl ester, trityl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3.4-dimethoxybenzyl ester, 4-
Mono(
or di- or tri)phenyl (lower) alkyl ester,
(lower) alkyl esters, such as phenyl esters, tolyl esters, tertiary butyl phenyl esters, xylyl esters, mesityl esters, cumenyl esters, salicyl esters, etc., even if they have one or more suitable fIt, substituents. Good aryl esters include, for example, heterocyclic esters such as phthalidyl esters.

好適な1酸残基」としては、ハロゲン(例えは、沸素、
塩素、臭素、沃素等)、アシルオキシ基等が挙げられ、
′アシルオキシ基」のアシル部分については前に例示し
たものを参照すればよい。
"Suitable monoacid residues" include halogens (e.g., fluorine,
(chlorine, bromine, iodine, etc.), acyloxy groups, etc.
Regarding the acyl moiety of the ``acyloxy group'', reference may be made to those exemplified above.

好適な「エステル化されたカルボキシ基」については前
記のような保護されたカルボキシ基で例示したものを参
照すればよい。
Regarding the suitable "esterified carboxy group", reference may be made to the above-mentioned examples of the protected carboxy group.

好適な1ヒドロキシ保護基、としては、前記アシル基、
例えばベンジル、トリチル等のアル(低級)アルキル基
、例えば1−メチル−1−メトキシエチル、メトキシプ
ロピル等の低級アルコキシ(低級)アルキル基、テトラ
ヒドロピラニル基等が挙げられる。
Suitable 1-hydroxy protecting groups include the above acyl group,
Examples include alkyl (lower) alkyl groups such as benzyl and trityl, lower alkoxy (lower) alkyl groups such as 1-methyl-1-methoxyethyl and methoxypropyl, and a tetrahydropyranyl group.

基、としては、ハロゲン、例えば、低級アルカノイルオ
キシ(例えば、アセトキシ等)等のアシルオキシのよう
な1頑の酸残基が挙げられる。
Groups include halogens, eg, single acid residues such as acyloxy such as lower alkanoyloxy (eg, acetoxy, etc.).

目的化合物(I)のR1、R2およびR3の好ましい実
施態様は下記のとおりである。
Preferred embodiments of R1, R2 and R3 of the target compound (I) are as follows.

R1はアミンまたはモノ(またはジまたはトリ)−フェ
ニル(低級)アルキルアミノのようなアル(低級)アル
キルアミノ基、さらに好ましくはアミンまたはトリフェ
ニル(01〜C,)アルキルアミノ、最も好ましくはア
ミノまたはトリチルアミノ; −R2はカルボキシまたは低級アルカノイルオキシ(低
級)アルコキシカルボニルおよびニトロ基によって置換
されていてもよいアル(低級)アルコキシカルボニル ルボキシ、さらに好ましくはカルボキシ、01〜C7ル
カノイルオキシ シカルボニノ呟ニトロフェニル(C1〜C4)フルコキ
ンカルボニルまたはジフェニル(01〜C4)アルコキ
シカルボニル、最も好ましくはカルボキシ、ピバロイル
オキシメトキシカルリポニル、ニトロベンジルオキシカ
ルボニルまたはベンス゛ヒドリルオキシカルボニル R3は水素、テトラヒドロピラニルまたは低級アルカノ
イル 水素、テトラヒドロピラン−2−イルまたはC1〜C4
アルカノイル、最も好ましくは水素、テトラヒドロビラ
ン−2−イルまたはアセチルである。
R1 is an amine or an al(lower)alkylamino group such as mono(or di- or tri)-phenyl(lower)alkylamino, more preferably an amine or triphenyl(01-C,)alkylamino, most preferably amino or Tritylamino; -R2 is carboxy or lower alkanoyloxy (lower) alkoxycarbonyl and al(lower) alkoxy carbonyl ruboxy optionally substituted by a nitro group, more preferably carboxy, 01-C7 lukanoyloxy cyclocarbonyl; Nitrophenyl(C1-C4)flucoquinecarbonyl or diphenyl(01-C4)alkoxycarbonyl, most preferably carboxy, pivaloyloxymethoxycarliponyl, nitrobenzyloxycarbonyl or benzhydryloxycarbonyl R3 is hydrogen, tetrahydropyrani or lower alkanoyl hydrogen, tetrahydropyran-2-yl or C1-C4
Alkanoyl, most preferably hydrogen, tetrahydrobilan-2-yl or acetyl.

この発明の目的化合物の製法を以下詳細に説明する。The method for producing the object compound of the present invention will be explained in detail below.

製法1 目的化合物(I)またはその塩は、化合物(I[)また
はアミン基におけるその反応性誘導体またはその塩を、
化合物(I[[)またはカルボキシ基におけるその反応
性誘導体またはその塩と反応きせることにより製造する
ことができる。
Production method 1 Target compound (I) or a salt thereof is prepared by combining compound (I[) or its reactive derivative in an amine group or a salt thereof,
It can be produced by reacting with compound (I[[) or a reactive derivative thereof or a salt thereof at the carboxy group.

化合物(I[)のアミン基における好適な反応性誘導体
としては、化合物(IF)とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性体;化合
物(I[>とビス(トリメチルシリル)アセトアミド、
モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、N.N−ビス
(トリメチルシリル)尿素等との反応によって生成する
シリル誘導体;化合物(II)と三塩化溝またはホスゲ
ンとの反応によって生成する誘導体等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the amine group of compound (I[) include Schiff's base type imino or its enamine type tautomer produced by the reaction of compound (IF) with a carbonyl compound such as an aldehyde, ketone, etc. ; Compound (I[> and bis(trimethylsilyl)acetamide,
Mono(trimethylsilyl)acetamide, N. Examples include silyl derivatives produced by reaction with N-bis(trimethylsilyl)urea and the like; derivatives produced by reaction of compound (II) with trichloride or phosgene, and the like.

化合物(I[)および(III)の好適な塩としては、
例えば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酢塩、ベンゼンスル
ホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩または例
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩のような酸付加塩;例えばナトリウム塩、カリウム塩
、カルシウム塩、マグネシウム塩等の金属塩;アンモニ
ウム塩;例えばトリエチルアミン塩、ジシクロへキシル
アミン塩等の有機アミン塩等が挙げられる。
Suitable salts of compounds (I[) and (III) include:
For example, organic acid salts such as acetates, maleates, tartarates, benzenesulfonates, toluenesulfonates, etc. or inorganic acid salts such as hydrochlorides, hydrobromides, sulfates, phosphates, etc. Examples include acid addition salts; metal salts such as sodium salts, potassium salts, calcium salts, and magnesium salts; ammonium salts; organic amine salts such as triethylamine salts and dicyclohexylamine salts;

化合物(III)のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives at the carboxy group of compound (III) include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like.

その好適な例としては、酸塩化物、酸アジド;例えはジ
アルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベン
ジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐酸、ジアル
キル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、アルキル戻酸、
例えばピバリン酸、ペンタン酸、インペンタン酸、2−
エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪族カルボン酸
または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸のような酸
との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾール、4−
fl換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー
ルまたはテトラゾールとの活性化アミド;または例えば
シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメ
チルイミノメチルc(cu3>2i=cu−〕エステノ
呟  ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニ
トロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニトロ
フェニルチオエステル、p−タレジルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリ
ジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオ
エステル等の活性化エステル、または例えばN、N−ジ
メチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(1
1()−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N
−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−IH−ベ
ンゾトリアゾール、1−ヒドロキシ−6−クロロ−IH
−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエ
ステル等が挙げられる。これらの反応性誘導体は使用す
べき化合物(III)の種類に応じて任意に選択するこ
とができる。
Suitable examples include acid chlorides, acid azides; substituted phosphoric acids such as dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid, alkyl phosphoric acid, etc. back acid,
For example, pivalic acid, pentanoic acid, impentanoic acid, 2-
Mixed acid anhydrides with acids such as aliphatic carboxylic acids such as ethylbutyric acid or trichloroacetic acid or aromatic carboxylic acids such as benzoic acid; symmetrical acid anhydrides; imidazole, 4-
activated amides with fl-substituted imidazoles, dimethylpyrazoles, triazoles or tetrazoles; or e.g. cyanomethyl esters, methoxymethyl esters, dimethyliminomethyl c(cu3>2i=cu-) vinyl esters, propargyl esters, p-nitrophenyl Esters, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenylthioester, p-talesylthioester, carboxymethylthioester, pyranyl ester, pyridyl activated esters such as esters, piperidyl esters, 8-quinolylthioesters, or e.g. N,N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2-(1
1()-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N
-Hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-IH-benzotriazole, 1-hydroxy-6-chloro-IH
Examples include esters with N-hydroxy compounds such as -benzotriazole. These reactive derivatives can be arbitrarily selected depending on the type of compound (III) to be used.

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ジクロロメタン、塩化エチレン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチJ呟N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ピリジンの
ような慣用の溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒であればその他のいかなる有機溶媒中でも反
応を行うことができる。これらの慣用の溶媒は水と混合
して使用することもできる。
The reaction is usually carried out in conventional solvents such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, dichloromethane, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, pyridine. However, the reaction can be carried out in any other organic solvent as long as it does not adversely affect the reaction. These conventional solvents can also be used in combination with water.

化合物(I[[)を遊離酸の形またはその塩の形で反応
に使用する場合には、反応をN、 N’ −ジシクロヘ
キシルカルボジイミド 一N’ −モルホリノエチルヵルボジイミF;.N−シ
クロへキシル−N’−(4−ジエチルアミノシクロへキ
シルカルボジイミド、N,N’ −ジェデルカルボジイ
ミド. N,N’ −ジイソプロピルカルボジイミド、
N=エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル)カ
ルボジイミド; N.N−カルボニルビス−(2−メチ
ルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シクロ
ヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘキシ
ルイミン;エトキシアセチレン;1−アルフキシー1−
クロロエチレン; 1,1’ −(カルボニルジオキシ
)ジベンゾトリアゾール、1.1’ −ジベンゾトリア
ゾリルオキサレート:亜燐酸トリアルキル;ポリ燐酸エ
チル;ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩化ホス
ホリル);三塩化燐;塩化チオニル;塩化オキザリル;
トリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシ
ベンズイソオキサゾリウム塩;2−エテル−5−(m−
スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒドロキシド分子
内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール;ジメチルホル
ムアミドと塩化チオ二JL,ホスゲン、オキシ塩化燐等
との反応によって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬
等のような慣用の縮合剤の存在下に行うのが好ましい。
When compound (I[[) is used in the reaction in the form of the free acid or its salt, the reaction is carried out using N,N'-dicyclohexylcarbodiimide-N'-morpholinoethylcarbodiimide F;. N-cyclohexyl-N'-(4-diethylaminocyclohexylcarbodiimide, N,N'-gedelcarbodiimide. N,N'-diisopropylcarbodiimide,
N=ethyl-N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide; N. N-carbonylbis-(2-methylimidazole); Pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine; Diphenylketene-N-cyclohexylimine; Ethoxyacetylene; 1-Alfoxy 1-
Chloroethylene; 1,1'-(carbonyldioxy)dibenzotriazole, 1,1'-dibenzotriazolyl oxalate: trialkyl phosphite; ethyl polyphosphate; isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); Phosphorus chloride; Thionyl chloride; Oxalyl chloride;
Triphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2-ethyl-5-(m-
sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1-(p-chlorobenzenesulfonyloxy)-
6-chloro-IH-benzotriazole; preferably carried out in the presence of a conventional condensing agent such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by reaction of dimethylformamide with thiodiJL chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, etc.

反応はまた、アルカリ金属度酸水素塩、トリ(低級)ア
ルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホ
リン、N.N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の
ような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよい
The reaction also includes alkali metal acid hydrogen salts, tri(lower)alkylamines, pyridine, N-(lower)alkylmorpholines, N. It may be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as N-di(lower)alkylbenzylamine and the like.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下から加温
下で反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling to heating.

R のヒドロキシ保護基がこの製造法の反応中または後
処理工程中に脱離される場合もこの反応の範囲内に包含
きれる。
It is also included within the scope of this reaction if the hydroxy protecting group of R is removed during the reaction or work-up steps of this process.

製法2 化合物(Ib)またはその塩は、化合物(Ia>または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。
Production method 2 Compound (Ib) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (Ia> or a salt thereof to an elimination reaction of a carboxy protecting group).

化合物(Ia)および(Ib)の好適な塩類としては、
化合物(I)について例示したものと同じものが挙げら
れる。
Suitable salts of compounds (Ia) and (Ib) include:
The same compounds as those exemplified for compound (I) can be mentioned.

この脱離反応の好適な方法としては、加水分解、還元等
のような常法が挙げられる。
Suitable methods for this elimination reaction include conventional methods such as hydrolysis and reduction.

(1)加水分解 加水分解は酸の存在下に行うのが好ましい。(1) Hydrolysis Hydrolysis is preferably carried out in the presence of an acid.

好適な酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の
無機酸、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピ
オン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホンH1p−
1−ルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂
等が挙げられる。トリフルオロ酢酸およびp−トルエン
スルホン酸のような有機酸をこの反応に使用する場合に
は、例えばアニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反
応を行うのが好ましい。
Suitable acids include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, for example formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfone H1p-
Examples include organic acids such as 1-luenesulfonic acid, acidic ion exchange resins, and the like. When organic acids such as trifluoroacetic acid and p-toluenesulfonic acid are used in this reaction, it is preferred to carry out the reaction in the presence of a cation scavenger, such as, for example, anisole.

さらに、上記酸の代りに三フッ化ホウ素、三フフ化ホウ
素−エーテル付加化合物、三塩化アルミニウム、五塩化
アンチモン、塩化第二鉄、塩化第二スズ、四塩化チタン
、塩化亜鉛等のようなりューイス酸もこの反応に使用す
ることができ、リューイス酸を使用する場合には、反応
は好ましくは例えばアニソールのような陽イオン捕捉剤
の存在下に行われる。
Furthermore, in place of the above acids, acids such as boron trifluoride, boron trifluoride-ether addition compounds, aluminum trichloride, antimony pentachloride, ferric chloride, stannic chloride, titanium tetrachloride, zinc chloride, etc. Acids can also be used in this reaction, and when Lewis acid is used, the reaction is preferably carried out in the presence of a cation scavenger, such as, for example, anisole.

加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、第五級ブチルアルコール、テトラヒドロフラン
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルア
セトアミド、ジオキサン、ジクロロメタンのような反応
に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物
の存在下または非存在に行われ、きらに上記酸もそれら
が液体であれば溶媒として使用することができる。
Hydrolysis is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, tertiary butyl alcohol, tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dioxane, and dichloromethane. It is carried out in the presence or absence of a solvent or a mixture thereof; the acids mentioned above can also be used as solvents if they are liquid.

この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし若干温度を上昇きせる程度の温度範囲で反
応が行われる。
The reaction temperature for this hydrolysis is not particularly limited, but the reaction is usually carried out in a temperature range of from cooling to slightly elevated temperature.

(i)還元 還元は化学的還元および接触還元を含む常法で行われる
(i) Reduction Reduction is carried out by conventional methods including chemical reduction and catalytic reduction.

化学的還元に使用きれる好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。
Suitable reducing agents that can be used for chemical reduction include, for example, tin,
Metals such as zinc and iron or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and formic acid, acetic acid, propionic acid,
It is a combination with an organic or inorganic acid such as trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, or hydrobromic acid.

接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、ハラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーTIベルト等のコバルト触媒、例えば還元
鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、ウ
ルマン鋼等の銅触媒等のような慣用のものである。
Suitable catalysts used for catalytic reduction are platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wires, e.g. palladium sponges, haladium black, palladium oxide, palladium-carbon, colloidal palladium. ,
Palladium catalysts such as palladium-barium sulfate and palladium-barium carbonate; nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide and Raney nickel; cobalt catalysts such as reduced cobalt and Raney TI belts; iron catalysts such as reduced iron and Raney iron; For example, the catalyst may be a conventional one such as reduced steel, Raney copper, Ullmann steel, etc. as a copper catalyst.

この還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に
悪影響を及ぼきない慣用の溶媒またはそれらの混合物中
で行われる。きらに、化学的還元に使用される上記酸が
液体である場合には、それらを溶媒として使用すること
もできる。
This reduction is usually carried out in conventional solvents or mixtures thereof that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimethylformamide. Additionally, if the acids used in the chemical reduction are liquids, they can also be used as solvents.

またさらに、接触還元に使用される好適な溶媒としては
上記溶媒、およびジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のようなその他の慣用の溶媒またはそ
れらの混合物が挙げられる。
Still further, suitable solvents for use in catalytic reduction include those mentioned above and other conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof.

この還元の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reduction is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating.

このカルボキシ保護基の脱離反応では、この製造法の反
応中または後処理工程中にR1における保護されたアミ
ン基が遊離アミン基に変化する場合またはR3における
ヒドロキシ保護基が同時に脱離する場合があり、そのよ
うな場合もその範囲内に包含される。
In this carboxy-protecting group elimination reaction, there are cases where the protected amine group in R1 changes to a free amine group or the hydroxy-protecting group on R3 is simultaneously eliminated during the reaction or post-treatment step of this production method. Yes, such cases are also included within the scope.

製法3 化合物(I)またはその塩は、化合物(IV)またはそ
の塩を化合物(V)と反応させることにより製造するこ
とができる。
Production method 3 Compound (I) or a salt thereof can be produced by reacting compound (IV) or a salt thereof with compound (V).

化合物(rV)の好適な塩としては、化合物(I)につ
いて例示したようなものと同じ塩が挙げられる。
Suitable salts of compound (rV) include the same salts as exemplified for compound (I).

この反応は通常、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化戻素、テトラヒドロフラン、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、
ジオキサン、水、酢酸、キ酸等のような反応に悪影響を
及ぼきない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で行われ
る。
This reaction is usually carried out using ethyl acetate, dichloromethane, chloroform, back tetrachloride, tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide,
It is carried out in customary solvents that do not adversely affect the reaction, such as dioxane, water, acetic acid, phosphoric acid, etc., or mixtures thereof.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製法4 化合物(Ic)またはその塩は、化合物(Ib)または
その塩をエステル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
Production method 4 Compound (Ic) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (Ib) or a salt thereof to an esterification reaction.

化合物(Ib)および(Ic)の好適な塩については、
化合物(1)について例示したものを参照すればよい。
For suitable salts of compounds (Ib) and (Ic),
Reference may be made to the examples given for compound (1).

この反応は化合物(Ib>またはその塩をエステル化剤
と反応きせることにより行えばよい。
This reaction may be carried out by reacting the compound (Ib> or a salt thereof with an esterifying agent).

好適なエステル化剤としては、式: (式中、R7は前記エステル化されたカルボキシ基のエ
ステル部分、 Zはヒドロキシ基またはその反応性誘導体を意味rる)
で示される化合物が挙げられる。
A suitable esterifying agent has the formula: (wherein R7 is the ester moiety of the esterified carboxy group, and Z represents a hydroxy group or a reactive derivative thereof)
Examples include compounds represented by:

Zのヒドロキシ基の好適な反応性誘導体としては、前記
ハロゲン、アシルオキシのような酸残基が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the hydroxy group of Z include the aforementioned halogens and acid residues such as acyloxy.

この反応は通常、ジメチルホルムアミド、ピリジン、ヘ
キサメチル燐酸トリアミド、ジメチルスルホキシドのよ
うな溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこと
ができる。
This reaction is usually carried out in a solvent such as dimethylformamide, pyridine, hexamethylphosphoric triamide, or dimethyl sulfoxide, but the reaction can be carried out in any other solvent that does not adversely affect the reaction.

化合物(Ib)を遊離酸の形で使用する場合には、製法
1で述べた塩基または縮合剤の存在下に反応を行うのが
好ましい。
When compound (Ib) is used in the form of a free acid, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a base or a condensing agent as described in Production Method 1.

反応温度は特に限定きれないが、冷却下、常温または加
温下に反応を行うのが好ましい。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is preferable to carry out the reaction under cooling, room temperature, or heating.

製法5 化合物(Ie)またはその塩は化合物(Id)またはそ
の塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより製
造することができる。
Production method 5 Compound (Ie) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (Id) or a salt thereof to an elimination reaction of a hydroxy protecting group.

化合物(Id)および(Ie)の好適な塩としては、化
合物(I)について例示したようなものと同じものが挙
げられる。
Suitable salts of compounds (Id) and (Ie) include the same salts as exemplified for compound (I).

化合物(Id)のヒドロキシ保護基のこの脱離反応は前
記製法2と同様にして行うことができ、従って使用する
試薬および例えば溶媒、反応温度等の反応条件について
は製法2を参照すればよい。
This elimination reaction of the hydroxy protecting group of compound (Id) can be carried out in the same manner as in Preparation Method 2, and therefore, Preparation Method 2 may be referred to for the reagents used and reaction conditions such as solvent and reaction temperature.

この脱離反応においては、R1における保護きれたアミ
ノ基および/またはR2における保護きれたカルボキシ
基が、この製造法の反応中または後処理工程中に、ン!
応する遊離アミノ基および/または遊離カルボ4ン基に
変化する場合がありそのような場合もその範囲内に包含
きれる。
In this elimination reaction, the unprotected amino group in R1 and/or the unprotected carboxy group in R2 are removed during the reaction or post-treatment step of this production method.
It may be changed to a corresponding free amino group and/or free carbonate group, and such cases are also included within the scope.

製法6 化合物(Ig)またはその塩は、化合物(If)または
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより製造
することができる。
Production method 6 Compound (Ig) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (If) or a salt thereof to an amino-protecting group elimination reaction.

化合物(If)および(I g)の好適な塩としては、
化合物(1)について例示したようなものと同じものが
挙げられる。
Suitable salts of compounds (If) and (Ig) include:
The same compounds as those exemplified for compound (1) can be mentioned.

この脱離反応は前記成因1と同様にして行うことができ
、従って使用する試薬および例えば溶媒、反応温度等の
反応条件については、監迭ユを参照すればよい。
This elimination reaction can be carried out in the same manner as in factor 1 above, and therefore, for the reagents to be used and reaction conditions such as solvent and reaction temperature, please refer to the instructions.

この脱離反応においては、この製法の反応中または後処
理工程中に、Rにおける保護されたカルボキシ基が遊離
カルボキシ基に変化する場合およびR3におけるヒドロ
キシ保護基が同時に脱離される場合があり、そのような
場合もその範囲内に包含される。
In this elimination reaction, during the reaction or post-treatment step of this production method, the protected carboxy group in R may change to a free carboxy group, and the hydroxy protecting group in R3 may be simultaneously eliminated. Such cases are also included within the scope.

1と 製法7 目的化合物(1)またはその塩類は、化合物(VI)ま
たはその塩類に化合物(IX)または半の反応性誘導体
を作用させることにより製造できる。
1 and Production Method 7 The target compound (1) or a salt thereof can be produced by reacting compound (IX) or a semi-reactive derivative with compound (VI) or a salt thereof.

化合物(VI)の好適な塩としては、化合物(1)につ
いて例示したようなものと同じものが挙げられる。
Suitable salts for compound (VI) include the same salts as exemplified for compound (1).

化合物(IX)のメルカプト基における好適な反応性誘
導体としては、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカ
リ金属塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩な
どの金属塩が挙げられる。
Suitable reactive derivatives at the mercapto group of compound (IX) include metal salts such as alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, and alkaline earth metal salts such as magnesium salts.

この反応はヨウ化ナトリウム、チオシアン酸ナトリウム
などの存在下で行なってもよい。
This reaction may be carried out in the presence of sodium iodide, sodium thiocyanate, etc.

反応は通常、水、アセトン、クロロホルム、ニトロベン
ゼン、ジクロロメタン、塩化エチル/、ジメチルホルム
アミド、メタノール、エタノール、エーテル、テトラヒ
ドロフランまたはその他の反応に悪影響を及ぼさない溶
媒中で行なわれる0強い極性を有する溶媒が好ましく、
このような溶媒は水との混合物として使用してもよい。
The reaction is usually carried out in water, acetone, chloroform, nitrobenzene, dichloromethane, ethyl chloride/dimethylformamide, methanol, ethanol, ether, tetrahydrofuran or other solvents that do not adversely affect the reaction. Solvents with strong polarity are preferred. ,
Such solvents may also be used in mixtures with water.

化合物(VI)および(もしくは)化合物(IX)を遊
離の状態で使用する場合には、この反応は、塩基、例え
ば水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、炭酸水素ア
ルカリ金属、トリアルキルアミン、ピリジン等の有機も
しくは無機塩基の存在下に行うのが好ましく、また中性
付近の条件下で行なうのが好ましい0反応温度は特に限
定されないが、通常室温〜加熱下で行なうのが好ましい
When compound (VI) and/or compound (IX) are used in the free state, the reaction can be carried out using a base such as an alkali metal hydroxide, an alkali metal carbonate, an alkali metal hydrogen carbonate, a trialkylamine, pyridine, etc. It is preferable to carry out the reaction in the presence of an organic or inorganic base, and it is preferable to carry out the reaction under conditions around neutrality. Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually preferable to carry out the reaction from room temperature to heating.

この発明の原料化合物の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the raw material compound of this invention will be explained in detail below.

成型り 化合物(■)またはその塩は、化合物(If)またはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を、化合
物(■)またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体
またはその塩と反応させることにより製造することがで
きる。
Molding compound (■) or a salt thereof is produced by reacting compound (If) or a reactive derivative thereof at an amino group or a salt thereof with compound (■) or a reactive derivative thereof at a carboxy group or a salt thereof be able to.

化合物(■)の好適な反応性誘導体としては、たとえば
ジケテンとハロゲンとの反応によって製造されうる酸塩
化物、酸臭化物等のような酸ハロゲン化物が挙げられる
Suitable reactive derivatives of compound (■) include acid halides such as acid chlorides, acid bromides, etc. which can be produced, for example, by the reaction of diketene with a halogen.

化合物(■)の好適な塩類としては、化合物(I)につ
いて例示したような塩基と同じようなものが挙げられ、
化合物(■)の好適な塩類としては、化合物(1)の塩
類と同じものが挙げられる。
Suitable salts for compound (■) include those similar to the bases exemplified for compound (I),
Suitable salts for compound (■) include the same salts as for compound (1).

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、ジクロロメタン、塩化エ
チレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジ
メチルホルムアミド、ピリジン、ヘキサメチル1くスホ
ラミド等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒
またはそれらの混合物中で行われる。
The reaction is usually carried out using conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, benzene, dichloromethane, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, pyridine, hexamethylsulforamide, etc. solvent or mixtures thereof.

反応温度は特に・限定きれないが、通常は冷却下ないし
加温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

1抹; 化合物(IVa)またはその塩は、化合物(■)または
その塩をニトロソ化剤と反応きせることにより製造する
ことができる。
1. Compound (IVa) or a salt thereof can be produced by reacting compound (■) or a salt thereof with a nitrosating agent.

化合物(IVa)の好適な塩類としては、化合物(1)
について例示したものと同じ塩類が挙げられる。
Suitable salts of compound (IVa) include compound (1)
The same salts as those exemplified for are mentioned.

好適なニトロソ化剤としては、亜硝酸および例えば塩化
ニトロシル、臭化ニトロシル等のハロゲン化ニトロシル
、例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等のアルカ
リ金属亜硝酸塩、例えば亜硝酸ブチル、亜硝酸ペンチル
、亜硝酸イソアミル等の亜硝酸アルキル等のような亜硝
酸の慣用の誘導体が挙げられる。
Suitable nitrosating agents include nitrous acid and nitrosyl halides such as nitrosyl chloride, nitrosyl bromide, alkali metal nitrites such as sodium nitrite, potassium nitrite, such as butyl nitrite, pentyl nitrite, isoamyl nitrite. Examples include conventional derivatives of nitrous acid such as alkyl nitrites such as nitrites and the like.

亜硝酸の塩またはそのアルカリ金属塩をニトロソ化剤と
して使用する場合には、例えば塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸
等の無機酸または有機酸のような酸の存在下に反応を行
うのが好ましい。
When a salt of nitrous acid or an alkali metal salt thereof is used as a nitrosating agent, the reaction is preferably carried out in the presence of an acid such as an inorganic or organic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, acetic acid, etc.

この反応は好ましくは塩化アシル(たとえば、塩化アセ
チル)もしくはアセチルアセトン、アセト酢酸エチル等
のような活性メチレン化合物の存在下に行われる。
This reaction is preferably carried out in the presence of an active methylene compound such as an acyl chloride (eg, acetyl chloride) or acetylacetone, ethyl acetoacetate, and the like.

この反応は通常、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エ
タノール、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンのよう
な反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの
混合物中で行われる。
This reaction is usually carried out in conventional solvents or mixtures thereof that do not adversely affect the reaction, such as water, acetic acid, benzene, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, dichloromethane.

反応温度は特に限定きれないが、冷却下ないし加温下の
範囲で反応を行うのが好ましい。
Although the reaction temperature is not particularly limited, it is preferable to carry out the reaction under cooling or heating.

この反応の化合物(IVa)には、シン異性体、アンチ
異性体およびこれらのヒドロキシイミノ基におけるそれ
らの混合物が含まれ、そのような化合物は部分構造式: %式% 製法1から1盗ユで得られる目的化合物(1)、(Ib
)、(re)、(Ie)および(rg)、ならびに成苗
Φおよび製法■で得られる化合物(Na)および(■)
は、例えば抽出、沈殿、分別結晶、再結晶、クロマトグ
ラフィー等の慣用の方法で単離および精製することがで
きる。
Compounds (IVa) of this reaction include syn-isomers, anti-isomers and mixtures thereof in their hydroxyimino groups; such compounds have the substructural formula: The target compounds (1) and (Ib
), (re), (Ie) and (rg), as well as adult seedlings Φ and compounds (Na) and (■) obtained by production method ■
can be isolated and purified by conventional methods such as extraction, precipitation, fractional crystallization, recrystallization, chromatography, etc.

目的化合物(I)について、R1において遊離アミノ基
およびR2において遊離カルボキシ基を持っている場合
、慣用の方法によって医薬として許容しうるその塩に変
換されうる。
When the target compound (I) has a free amino group at R1 and a free carboxyl group at R2, it can be converted into a pharmaceutically acceptable salt thereof by a conventional method.

この発明の目的化合物(1)およびその塩類は、新規で
あり、高い抗菌活性を発揮してダラム陽性菌およびダラ
ム陰性菌を含む広汎な病原菌、特にスタフィロコッカス
アラしウスのようなダラム陽性菌の生育を阻止し、細菌
感染症予防・治療剤として有用である。
The object compound (1) of this invention and its salts are novel, exhibit high antibacterial activity, and are effective against a wide range of pathogenic bacteria, including Durum-positive bacteria and Durum-negative bacteria, especially Durum-positive bacteria such as Staphylococcus arasius. It is useful as a preventive and therapeutic agent for bacterial infections.

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的化
合物の抗菌活性を公知化合物と比較して以下に示す。
In order to demonstrate the usefulness of the target compounds, the antibacterial activity of representative compounds of this invention is shown below in comparison with known compounds.

1座30口り此農慮 (A)&を慧羞 試験管内抗菌活性を下記寒天平板希釈法により測定した
The in vitro antibacterial activity of 30 mouthfuls of each sample was measured using the following agar plate dilution method.

トリプトケース・ソイ・プロス中各試験菌株を一夜培養
してその一白金耳(生菌数108個/戚)を各aJf段
階の試験化合物を含むハート・インフュージョン寒天(
HI寒天)に接種し、37℃で20時間インキュベート
後、最小発育阻止濃度(MIC)を(/l!111で表
わした。
Each test strain was cultured overnight in Tryptocase Soy Pross, and one platinum loop (108 viable bacteria/relative) was added to Heart Infusion Agar (containing the test compound at each aJf stage).
After inoculation on HI agar) and incubation for 20 hours at 37°C, the minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed as (/l!111).

(B)!&象生皇舊 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体) [以下、化合物(I)と称す]。
(B)! & Zosho Kosho 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-
thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) [hereinafter referred to as compound (I)].

7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(3−メチル−
1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体) [公知化合物(a)] [以下、化合物(A)と称す]
7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-(3-methyl-
1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-
3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) [Known compound (a)] [Hereinafter referred to as compound (A)]
.

セフメツキシム ナトリウム塩 [公知化合物(b)のナトリウム塩コ[以下、化合物(
B)と称す]。
Cefmetuxime sodium salt [sodium salt of known compound (b)] [hereinafter referred to as compound (
B)].

セフメツキシム [公知化合物(c)] [以下、化合物(C)と称す]
Cefmetuxime [known compound (c)] [hereinafter referred to as compound (C)]
.

セフオチアム [公知化合物(d)] [以下、化合物(D>と称す]
Cefothiam [known compound (d)] [hereinafter referred to as compound (D>)]
.

(C)試験結果 M、1.C(x/mll) この発明の化合物を治療のために使用するにあたり、前
記化合物を有効成分と°して含有し、経口、非経口また
は外用投与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液
状賦形剤のような医薬として許容きれる担体と混合して
慣用の医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤
はカプセル、錠剤、糖衣錠、軟膏または坐剤のような固
体状であってもよいし、溶液、懸濁液またはエマルジョ
ンのような液状であってもよい、所望によっては上記製
剤中に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およ
びその他乳糖、フマール酸、クエン酸、酒石酸、ステア
リン酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン
酸マグネシウム、白土、シュークロース、コーンスター
チ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オ
リーブ油、カカオ脂、エチレングリコール等のような常
用の添加剤が含まれていてもよい。
(C) Test results M, 1. C(x/ml) For therapeutic use of the compounds of this invention, organic or inorganic solid or liquid excipients containing said compounds as active ingredients and suitable for oral, parenteral or external administration. It can be mixed with a pharmaceutically acceptable carrier such as a pharmaceutical agent and used in the form of a conventional pharmaceutical formulation. Pharmaceutical formulations may be in solid form, such as capsules, tablets, dragees, ointments or suppositories, or in liquid form, such as solutions, suspensions or emulsions; if desired, additives may be added to the formulation. agents, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and others Lactose, fumaric acid, citric acid, tartaric acid, stearic acid, maleic acid, succinic acid, malic acid, magnesium stearate, terra alba, sucrose, corn starch, talc, gelatin , agar, pectin, peanut oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol, etc. may also be included.

化合物の投与量は患者の年齢および症状によって変化す
るが、この発明の化合物は平均1回投与量約10mg、
 50mg、 100mg、 250mg、 500m
g、1000qで病原菌感染症治療に有効である。また
、一般的には1日当り1mg/固体〜約6000mg/
固体またはそれ以上投与してもよい。
Although the dosage of the compound will vary depending on the age and condition of the patient, the compounds of this invention have an average single dose of about 10 mg;
50mg, 100mg, 250mg, 500m
g, 1000q is effective in treating pathogenic bacterial infections. In addition, generally 1mg/solid to about 6000mg/day
Solid or larger doses may be administered.

以下製造例および実旌例に従って、この発明を説明する
The present invention will be explained below with reference to production examples and practical examples.

製造例1 7−アミノ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(3
,5g)およびN、N’−ビス(トリメチルシリル)尿
素(6,5g)のテトラヒドロフラン(1001nJ1
 )溶液に、ジクロロメタン(7,5mQ)中ジケテン
(1,15g)および臭素(2,15g)から得られる
臭化4−ブロモアセトアセチルを冷却下−20°Cで加
え、混合物を一15℃で30分間攪拌する。
Production example 1 7-amino-3-(1,2,4-thiadiazole-5-
yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (3
,5 g) and N,N'-bis(trimethylsilyl)urea (6,5 g) in tetrahydrofuran (1001nJ1
4-Bromoacetoacetyl bromide obtained from diketene (1,15 g) and bromine (2,15 g) in dichloromethane (7,5 mQ) was added to the solution at -20 °C under cooling, and the mixture was heated at -15 °C. Stir for 30 minutes.

反応混合物を酢酸エチル(100mQ )と水(150
m1l )との混合物中に注ぐ、有機層を分取し、水お
よび食塩水で洗浄して溶媒を留去する。残渣をジイソプ
ロピルエーテル中(300111’)中で粉砕する。生
成する沈殿を濾取し、真空乾燥して、7−(4−ブロモ
アセトアセトアミド)−3−(1,2,4−チアジアゾ
ール−5−イル)チオメゾルー3−セフェム−4−カル
ボン酸(4,64g)を得る。
The reaction mixture was mixed with ethyl acetate (100 mQ) and water (150 mQ).
The organic layer is separated, washed with water and brine, and the solvent is evaporated. The residue is triturated in diisopropyl ether (300111'). The resulting precipitate was collected by filtration and dried under vacuum to give 7-(4-bromoacetoacetamide)-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomesol-3-cephem-4-carboxylic acid (4, 64 g) is obtained.

NMR(DMSO−da、S ) ’ 3.90−4.
00 (4H9m)。
NMR (DMSO-da, S)' 3.90-4.
00 (4H9m).

4.20 (2H,ABq、J=12Hz)、 4.5
0 (2H,s)。
4.20 (2H, ABq, J=12Hz), 4.5
0 (2H, s).

5.20 (LH,d、J=5Hz)、 5.73 (
IH,d−d。
5.20 (LH, d, J=5Hz), 5.73 (
IH, d-d.

J=5Hz、  8Hz)、  8.70  (IH,
s)、  9.10  <IH,d。
J=5Hz, 8Hz), 8.70 (IH,
s), 9.10 <IH, d.

J=8Hz) 製造例2 鷲j組倒」2と同様にして下記化合物を得る。J=8Hz) Manufacturing example 2 The following compound was obtained in the same manner as in "Washij Kumito" 2.

7−(4−クロロアセトアセトアミド)−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル。
7-(4-chloroacetoacetamide)-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester.

IR(スジl−ル)  :  1775. 1710 
 am−’NMR(DMSO−da、8 ) ’ 3.
40−3.93 (4H1m) 、4.18および4.
63 (2H,ABq、に14Hz)、 4.55(2
H,s)、 5.16 (IH,d、、C3Hz)、 
5.84 (IH。
IR: 1775. 1710
am-'NMR (DMSO-da, 8)' 3.
40-3.93 (4H1m), 4.18 and 4.
63 (2H, ABq, 14Hz), 4.55 (2
H,s), 5.16 (IH,d,,C3Hz),
5.84 (IH.

d−d、J−5Hz、 8Hz>、 7.01 (IH
,s)、 7.28(IH,s)、 7.13−7.6
7 (10H,m)、 8.52(IH,s)、 9.
04 (IH,dJ=8Hz)鼠1」」− (1)2−(2−トリプルアミノチアゾール−4−イル
)−2−ヒドロキシイミノ酢酸ベンズヒドリルエステル
(シン異性体)(2,8g)のジクロロメタン(561
1Q )溶液に、ピリジン(0,47戚)を水冷下に加
える6次いでこれに塩化アセチル(0,47mQ )の
ジクロロメタン(5,6all )溶液を加える。水冷
下に20分間攪拌後、反応混合物を水洗して硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をジエチルエー
テルとn−ヘキサンとの混合物中で粉砕する。生成する
沈殿を濾取して、2−(2−トリチルアミノデアゾール
−4−イル)−2−アセトキシイミノ酢酸ベンズヒドリ
ルエステル(シン異性体)(3、Og)を得る。
dd, J-5Hz, 8Hz>, 7.01 (IH
,s), 7.28(IH,s), 7.13-7.6
7 (10H, m), 8.52 (IH, s), 9.
04 (IH, dJ = 8Hz) Mouse 1'' - (1) 2-(2-triple aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetic acid benzhydryl ester (syn isomer) (2.8 g) in dichloromethane (561
Add pyridine (0,47 all) to the 1Q) solution under water cooling.6 Next, add a solution of acetyl chloride (0,47 mQ) in dichloromethane (5,6 all). After stirring for 20 minutes under water cooling, the reaction mixture is washed with water and dried over magnesium sulfate. The solvent is evaporated and the residue is triturated in a mixture of diethyl ether and n-hexane. The resulting precipitate is collected by filtration to obtain 2-(2-tritylaminodeazol-4-yl)-2-acetoxyiminoacetic acid benzhydryl ester (syn isomer) (3, Og).

IR(スジe−ル)  :  331G、  1750
. 1600. 1530  am″″INMR(DM
SO−da、ε) : 1.88 (3H,s)、 6
.75(IH,s)、 7.07−7.57 (26H
,m)、 8.87 (IH,5)(2)2−(2−1
−ジチルアミノチアゾール−4−イル)−2−アセトキ
シイミノ酢酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)(
3,0g)のジクロロメタン(somQ)およびアニソ
ール(1,5mm )混合物溶液に、トリプルオロ酢酸
(51)を水冷下に加える。混合物を4時間攪拌して得
られる結晶を濾取し、ジイソプロピルエーテルおよび水
で洗浄して、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−アセトキシイミノ酢酸(シン異性体)(0,5g
)を得る。
IR (suji e-ru): 331G, 1750
.. 1600. 1530 am″″INMR(DM
SO-da, ε): 1.88 (3H, s), 6
.. 75 (IH, s), 7.07-7.57 (26H
, m), 8.87 (IH, 5) (2) 2-(2-1
-ditylaminothiazol-4-yl)-2-acetoxyiminoacetic acid benzhydryl ester (syn isomer) (
Triple oroacetic acid (51) is added to a solution of 3.0 g) of dichloromethane (somQ) and anisole (1.5 mm) under water cooling. The mixture was stirred for 4 hours, and the resulting crystals were collected by filtration and washed with diisopropyl ether and water to give 2-(2-aminothiazol-4-yl).
-2-acetoxyiminoacetic acid (syn isomer) (0.5g
).

NMR(DMSO−ds、l; ) :1.48 (3
H1s)、7.22(1)!、s>、 7.13−7.
47 (2H,m)製造例4 7−(4−クロロアセトアセトアミド)−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(72
0g)のジクロロメタン(13jり溶液に、亜硝酸イソ
アミル(176g)および塩化アセチル(91,8g)
を室温で加え、混合物を同温で1時間攪拌する0反応混
合物をテトラヒドロフラン(3,22)と塩化ナトリウ
ム飽和水溶液(7,242)との混合物中に注ぐ、有機
層を分取し、食塩水(7,212)で洗浄して乾燥する
。溶液の溶媒を留去し、残渣をn−ヘキサン(361中
で粉砕する。沈殿を濾取してn−ヘキサンで洗浄し、五
酸化溝で乾燥して、7−(4−クロロ−2−ヒドロキシ
イミノアセトアセトアミド)−3−(1,2,4−チア
ジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(688,6g)
を得る。
NMR (DMSO-ds, l; ): 1.48 (3
H1s), 7.22(1)! , s>, 7.13-7.
47 (2H,m) Production Example 4 7-(4-chloroacetoacetamide)-3-(1,2
,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (72
Isoamyl nitrite (176 g) and acetyl chloride (91.8 g) were added to a solution of 0 g) in dichloromethane (13j).
was added at room temperature and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour.The reaction mixture was poured into a mixture of tetrahydrofuran (3,22) and a saturated aqueous solution of sodium chloride (7,242).The organic layer was separated and brine was added. (7,212) and dry. The solution was evaporated and the residue was triturated in n-hexane (361). The precipitate was filtered off, washed with n-hexane, dried in a pentoxide groove and purified with 7-(4-chloro-2- Hydroxyiminoacetoacetamide)-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4
-Carboxylic acid benzhydryl ester (688.6g)
get.

IR(スジ1−ル)  :  1780. 1710 
 am−’NMR(DMSO−d6. S ) : 3
.57および3.8 (2H,ABq。
IR (Streak 1-L): 1780. 1710
am-'NMR (DMSO-d6.S): 3
.. 57 and 3.8 (2H, ABq.

J=18Hz)、 4.68および4.22 (2H,
ABq。
J=18Hz), 4.68 and 4.22 (2H,
ABq.

J=14)1z)、 4.76 (2)1.s)、 5
.06 (IH,d。
J=14)1z), 4.76 (2)1. s), 5
.. 06 (IH, d.

J=5Hz)、 5.86 (IH,d−d、、C3H
z、 8Hz)、 7.02(LH,s)、 7.28
 (IH,s)、 7.17−7.63(10H,m)
、 8.31 (LH,s)、 9.40 <IH,d
J=5Hz), 5.86 (IH, dd,, C3H
z, 8Hz), 7.02(LH,s), 7.28
(IH, s), 7.17-7.63 (10H, m)
, 8.31 (LH,s), 9.40 <IH,d
.

J=8Hz>、 11.29 (LH,s)実施例1 7−(4−ブロモアセトアセトアミド)−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(4,64g)のジクロロメタ
ン(401119)および酢酸(2011LQ ’)混
合溶液に、亜硝酸ナトリウム(0,84g)の水溶液(
4,3mm)を−10℃で滴下する。1.5時間攪拌後
、反応混合物を水(80+1111 )とテトラヒドロ
フラン(4oraQ)との混合物中に注ぐ、有機層を分
取し、水および食塩水で洗浄する。溶媒を留去して、7
−(4−ブロモー2−ヒドロキシイミノアセトアセトア
ミド)−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−力ルボン酸を得る。
J=8Hz>, 11.29 (LH,s) Example 1 7-(4-bromoacetoacetamide)-3-(1,2
,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (4,64 g) in dichloromethane (401119) and acetic acid (2011LQ') was added an aqueous solution of sodium nitrite (0,84 g) (
4.3 mm) was added dropwise at -10°C. After stirring for 1.5 hours, the reaction mixture is poured into a mixture of water (80+1111) and tetrahydrofuran (4oraQ), the organic layer is separated and washed with water and brine. Distill the solvent, 7
-(4-Bromo-2-hydroxyiminoacetoacetamide)-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid is obtained.

この生成物にチオズ素(0,86g)のジメチルアセト
アミド(13m1 )溶液を加える。混合物を常温で2
時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチル(50ffll
l )と水(70m1+ )との混合物中に注ぐ、混合
物を2N水酸化ナトリウムでpH6,5に調整する。水
層を分取して濃縮し、IN塩酸でpH4,4にu4!!
する。酸性にした水溶液を非イオン性吸着樹脂1ダイヤ
イオンHP−20,(商標:三菱化成工業社製)のカラ
ムを通過させ、20%イソプロピルアルコール水溶液で
溶出する。溶出液を凍結乾燥して、7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]−(1,2,4−チアジアゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体)(0,70g)を得る。
A solution of thiodine (0.86 g) in dimethylacetamide (13 ml) is added to this product. Mixture at room temperature 2
Stir the reaction mixture for 0 hours in ethyl acetate (50 ffll
1) and water (70 ml+), the mixture is adjusted to pH 6.5 with 2N sodium hydroxide. The aqueous layer was separated, concentrated, and adjusted to pH 4.4 with IN hydrochloric acid. !
do. The acidified aqueous solution is passed through a column of nonionic adsorption resin 1Diaion HP-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) and eluted with a 20% isopropyl alcohol aqueous solution. The eluate was lyophilized to yield 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem- 4-carboxylic acid (syn isomer) (0.70 g) is obtained.

IR(スジミール)  ’  2900. 1770.
 1620. 1520  cm−’NMR(DMSO
−ds、l;  )   ’  3−63  (2H,
ABq、J=18Hz)。
IR (Sujimeal) '2900. 1770.
1620. 1520 cm-'NMR (DMSO
-ds, l; ) ' 3-63 (2H,
ABq, J=18Hz).

4.42 (2)1.ABq、、c13Hz>、 5.
12 (LH,d。
4.42 (2)1. ABq,, c13Hz>, 5.
12 (LH, d.

J:5Hz)、 5.77 (IH,d−d、J=5H
z、 8Hz)、 6.62(LH,s)、 8.68
 (IH,s)、 9.38 (IH,d、J=8Hz
)叉1」B。
J:5Hz), 5.77 (IH, dd, J=5H
z, 8Hz), 6.62(LH,s), 8.68
(IH, s), 9.38 (IH, d, J=8Hz
) 叉1”B.

ジメチルホルムアミド(0,38g)およびテトラヒド
ロフラン(1,2mm)の混液に、オキシ塩化燐(0,
8g)を0℃で加える。30分間攪拌後、これに2−(
27トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(2
−テトラヒドロピラニルオキシイミノ)酢酸(シン異性
体)(z、o7g)のテトラヒドロフラン溶液を加える
。混合物を一3〜3℃で1時間攪拌して活性化酸溶液を
得る。
Phosphorous oxychloride (0.38 g) and tetrahydrofuran (1.2 mm) were added to a mixture of dimethylformamide (0.38 g) and tetrahydrofuran (1.2 mm).
8g) at 0°C. After stirring for 30 minutes, add 2-(
27 tritylaminothiazol-4-yl)-2-(2
Add a solution of -tetrahydropyranyloxyimino)acetic acid (syn isomer) (z, o 7 g) in tetrahydrofuran. The mixture is stirred at -3-3°C for 1 hour to obtain an activated acid solution.

モノトリメチルシリルアセトアミド(4g)を含む7−
アミノ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル(2,0g)のテトラヒドロフラン(4
0ffL11 )溶液に、上記で得られた活性化酸溶液
を一20℃で一挙に加え、混合物を−15〜−10℃で
1.5時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチノ呟テトラ
ヒドロフランおよび水の混合物中に注ぐ、水層を分取し
て酢酸エチルおよびテトラヒドロフランの混合溶媒で数
回抽出する。有機層を合わせて食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をジイソプ
ロピルエーテル中で粉砕して濾取し、五酸化溝で乾燥し
て、7−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミトコ−3−(1゜2.4−チアンアゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体) (4,40
g )を得る。
7- containing monotrimethylsilylacetamide (4g)
Amino-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (2,0 g) in tetrahydrofuran (4
0ffL11) To the solution, add the activated acid solution obtained above all at once at -20°C, and stir the mixture at -15 to -10°C for 1.5 hours. The aqueous layer is separated and extracted several times with a mixed solvent of ethyl acetate and tetrahydrofuran. The combined organic layers are washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was evaporated and the residue was triturated in diisopropyl ether, filtered off and dried in a pentoxide groove to give 7-[2-(2-tetrahydropyranyloxyimino)-2-(2-tritylaminothiazole). 4,40
g) is obtained.

IR(Xジa−L)  ’  3350. 1770.
 1700. 1660  am−’NMR(DMSO
−ds、S  )  : L50−2−00  (m)
、 3−50−4.30(4H,m>、 5.30 (
IH,d、J=5Hz>、 5.85 (IH,dd。
IR(X-a-L)' 3350. 1770.
1700. 1660 am-'NMR (DMSO
-ds, S): L50-2-00 (m)
, 3-50-4.30 (4H, m>, 5.30 (
IH, d, J=5Hz>, 5.85 (IH, dd.

J:5Hz、 J=8Hz>、 6.83 (IH,s
)、 7.03 (IH,s)。
J:5Hz, J=8Hz>, 6.83 (IH,s
), 7.03 (IH,s).

7.10−7.77  (m>、  8.57  (L
H,s)、  9.67  (LH,d。
7.10-7.77 (m>, 8.57 (L
H,s), 9.67 (LH,d.

J=8Hz) 実施例3 7−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシイミノ)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミトコ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(シン異性体)(4,0g)およ
びアニソール(4−)の混合物に、トリフルオロ酢酸(
gn+Q)を加える。室温で2時間攪拌後、混合物をジ
イソプロピルエーテル(100+njl )中に注ぐ、
生成する沈殿を濾取し、5%炭酸水素ナトリウム水溶液
に溶解する。水溶液を酢酸エチルで洗浄してIN塩酸で
pH4,5に調整し、非イオン性吸着樹脂1ダイヤイオ
ンHP−20、をイ吏用するカラムクロマトグラフィー
に付す。15%イソプロピルアルコール水溶液で溶出し
、所望の化合物を含む溶出液を集める。この溶出液を水
冷下10%塩酸でpH2,0に調整する。生成する沈殿
を濾取し、水洗、乾燥して、7−[2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトア
ミド]−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体) (0,13g )を得る。
J=8Hz) Example 3 7-[2-(2-tetrahydropyranyloxyimino)
-2-(2-tritylaminothiazol-4-yl)acetamitoco-3-(1,2,4-thiadiazol-5
-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (4,0 g) and anisole (4-
gn+Q). After stirring for 2 hours at room temperature, the mixture is poured into diisopropyl ether (100+njl).
The formed precipitate is collected by filtration and dissolved in a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution. The aqueous solution was washed with ethyl acetate, adjusted to pH 4.5 with IN hydrochloric acid, and subjected to column chromatography using a nonionic adsorption resin 1Diaion HP-20. Elute with 15% isopropyl alcohol aqueous solution and collect the eluate containing the desired compound. The eluate was adjusted to pH 2.0 with 10% hydrochloric acid while cooling with water. The formed precipitate is collected by filtration, washed with water, and dried to give 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5- yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (0,13 g) is obtained.

IR(Xシロ−ル>  :  3200. 1750.
 1690. 1650  cm−’NMR(DMSO
−d6. l; ) : 3.52および3.78(2
H,ABq、J=18Hz>、 4.30および4.6
2(2H,ABq、J−13Hz>、 5.13 (L
H,d、J=5Hz>。
IR (X Shiroru>: 3200. 1750.
1690. 1650 cm-'NMR (DMSO
-d6. ): 3.52 and 3.78 (2
H, ABq, J=18Hz>, 4.30 and 4.6
2 (2H, ABq, J-13Hz>, 5.13 (L
H, d, J = 5Hz>.

5.78 (IH,d−d、J=5Hz、 8Hz)、
 6.65 (LH,s)。
5.78 (IH, dd, J=5Hz, 8Hz),
6.65 (LH,s).

7.07 (2H,br s)、 8.70 (IH,
s)、 9.42(IH,d、J=8Hz)、 113
6 (LH,br s)火星■1 7−(4−クロロ−2−ヒドロキシイミノアセトアセト
アミド)−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステルg)のジメチルアセトアミド(2.7
j2)溶液に、チオ尿素( 160.8g )を室温で
加え、混合物を同温で3時間攪拌する.反応混合物を酢
酸エチル(9.5jlと氷水(4.7iとの混合物中に
注ぐ。
7.07 (2H, br s), 8.70 (IH,
s), 9.42 (IH, d, J=8Hz), 113
6 (LH, br s) Mars ■1 7-(4-chloro-2-hydroxyiminoacetoacetamide)-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid Dimethylacetamide of benzhydryl ester g) (2.7
j2) Add thiourea (160.8 g) to the solution at room temperature, and stir the mixture at the same temperature for 3 hours. The reaction mixture is poured into a mixture of ethyl acetate (9.5jl) and ice water (4.7i).

有機層を分取して水C4.71で2回)および食塩水(
4.7ffi)で洗浄し、硫嫌マグネシウムで乾燥する
。溶媒を留去し、残渣(1.5iを酢酸エチル(4.5
ffi)とジイソプロピルエーテル(’l )との混合
物中で粉砕する.沈殿を濾取し、ジイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、五酸化溝で乾燥して、?ーC2ーC2ーア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]−3−(1.2.4−チアジアゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(シン異性体) ( 436.5
g )を得る。
The organic layer was separated and diluted twice with water C4.71) and brine (
4.7ffi) and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue (1.5i) was dissolved in ethyl acetate (4.5
ffi) and diisopropyl ether ('l). The precipitate was filtered, washed with diisopropyl ether, dried in a pentoxide groove, and ? -C2-C2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1.2.4-thiadiazole-5
-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (436.5
g) is obtained.

IR  (スジa−IL)  :  1780.  1
720,  1665,  1620  CITI−I
NMR (DMSO−九.δ) : 3.59および3
.83 (2H。
IR (Suji a-IL): 1780. 1
720, 1665, 1620 CITI-I
NMR (DMSO-9.δ): 3.59 and 3
.. 83 (2H.

ABq.J:18Hz>、 4.23および4.58 
(2H.ABq。
ABq. J: 18Hz>, 4.23 and 4.58
(2H.ABq.

J=13Hz>、 5.23 <LH,d.J=5Hz
)、 5.90 (LH。
J=13Hz>, 5.23<LH, d. J=5Hz
), 5.90 (LH.

d−d, J=5Hz. 8)1z)、 6.67 (
LH.s)。
dd, J=5Hz. 8) 1z), 6.67 (
LH. s).

7、00−7.80 (10H.m)、 8.55 (
18,s)、 9.46(LH.d.J:8Hz)、 
11.40 (IH.s)実施例5 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体
)(430g)およびアニソール(430m+1 )の
ジクロロメタン(1,77り中温合物に、トリフルオロ
酢酸(ssomu )を氷冷下に滴下する。混合物を5
〜10°Cで2時間攪拌する。反応混合物をジイソプロ
ピルエーテル(21,5り中に注いで粉砕する。沈殿を
濾取してジイソプロピルエーテルで洗浄し、五酸化溝で
乾燥して黄色粉末を得る。
7, 00-7.80 (10H.m), 8.55 (
18, s), 9.46 (LH.d.J: 8Hz),
11.40 (IH.s) Example 5 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide co-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (430g) and anisole (430m+1) in dichloromethane (1,77g) at moderate temperature, trifluoroacetic acid (ssomu) is added dropwise under ice-cooling.
Stir at ~10°C for 2 hours. The reaction mixture is poured into diisopropyl ether (21.5 mm) and triturated. The precipitate is collected by filtration, washed with diisopropyl ether, and dried in a pentoxide groove to obtain a yellow powder.

この粉末(400g)を水に懸濁し、炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液でpH8に調整する。不溶物を濾去し、濾
液をIN塩酸でpH6,0に調整する。この溶液を非イ
オン性吸着樹脂1ダイヤイオンHP−20」を使用する
カラムクロマトグラフィーに付し、35%イソプロピル
アルコール水溶液で溶出する。所望の化合物を含む画分
を集め、10%塩酸でp)12.2に調整する。生成す
る沈殿を濾取して氷水で洗浄し、五酸化溝で乾燥して、
7−[2−(2−アミンチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフニム
ー4−カルボン酸(シン異性体) (98,9g )を
得る。
This powder (400 g) is suspended in water and adjusted to pH 8 with saturated aqueous sodium bicarbonate solution. Insoluble materials were removed by filtration, and the filtrate was adjusted to pH 6.0 with IN hydrochloric acid. This solution was subjected to column chromatography using a nonionic adsorption resin 1Diaion HP-20 and eluted with a 35% aqueous isopropyl alcohol solution. Fractions containing the desired compound are collected and adjusted to p) 12.2 with 10% hydrochloric acid. The formed precipitate was collected by filtration, washed with ice water, dried in a pentoxide groove,
7-[2-(2-aminethiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cefnimu-4-carboxylic acid (syn isomer) (98.9 g) is obtained.

IR(xジa−ル)  :  3200. 1750.
 1690. 1650  cm−’NMR(DMSO
−d6.δ) : 3.52および3.78 (2H。
IR (xa-ru): 3200. 1750.
1690. 1650 cm-'NMR (DMSO
-d6. δ): 3.52 and 3.78 (2H.

ABq、J=18Hz)、 4.30および4.62 
(2H,ABq。
ABq, J=18Hz), 4.30 and 4.62
(2H, ABq.

J=13Hz)、 5.13 (LH,d、J=5H2
)、 5.78 (IH。
J=13Hz), 5.13 (LH,d, J=5H2
), 5.78 (IH.

d−d、J:5Hz、 8Hz)、 6.65 (IH
,s)、 7.07 <28゜−br s)、 8.7
0 (IH,s’)、 9.42 (LH,d、JJH
z)。
dd, J: 5Hz, 8Hz), 6.65 (IH
, s), 7.07 <28°-br s), 8.7
0 (IH, s'), 9.42 (LH, d, JJH
z).

11.36 (LH,br s) 衷蓋遭j 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−アセト
キシイミノ酢酸(シン異性体)(0,2g)のテトラヒ
ドロフラン(25m1l )溶液に、無水1−ヒドロキ
シ−IH−ベンゾトリアゾール(0,135g)および
N、N’ −ジシクロへキシルカルボジイミド(0,1
82g )を加える。混合物を室温で1時間攪拌後、沈
殿を濾去する。濾液に7−アミノ−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(0,43g
)を室温で加える。溶媒を留去し、残渣をジイソプロピ
ルエーテル中で粉砕して、7−C2−C2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−アセトキシイミノアセトアミ
ドコ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル(シン異性体)(0,7g)を得る。
11.36 (LH, br s) 2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-acetoxyiminoacetic acid (synisomer) (0.2 g) in tetrahydrofuran (25 ml) was added anhydrous. 1-Hydroxy-IH-benzotriazole (0,135 g) and N,N'-dicyclohexylcarbodiimide (0,1
82g). After stirring the mixture for 1 hour at room temperature, the precipitate is filtered off. The filtrate contains 7-amino-3-(1,2,4-
thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (0.43 g
) at room temperature. The solvent was evaporated and the residue was triturated in diisopropyl ether to give 7-C2-C2-aminothiazol-4-yl)-2-acetoxyiminoacetamidoco-3-(1,2,4-thiadiazol-5- )
Thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (0.7 g) is obtained.

NMR(DMSO−d6.  δ )  :  2.1
8  (3H,s)、  3.17−4.67(4H,
m)、 5.17−6.17 (2H,m)、 7.0
 (IH,s)。
NMR (DMSO-d6.δ): 2.1
8 (3H, s), 3.17-4.67 (4H,
m), 5.17-6.17 (2H, m), 7.0
(IH, s).

7.12 (IH,s)、 7.22−7.73 (1
0H,m)、 8.57(IH,s) 寒l(Mニ アーC2−C2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
アセトキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(・シン異性
体)(0,7g)のジクロロメタン(3111)および
アニソール(0,7mQ )混合物中懸濁液に、トリフ
ルオロ酢酸(1,4mQ)を水冷下に加える。混合物を
同温で1時間攪拌する0反応混合物をジイソプロピルエ
ーテル(70me)中に注ぐ。
7.12 (IH,s), 7.22-7.73 (1
0H, m), 8.57 (IH, s) cold l(M near C2-C2-aminothiazol-4-yl)-2-
Acetoxyiminoacetamidoco-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer) (0.7 g) in a mixture of dichloromethane (3111) and anisole (0.7 mQ) was added to Add fluoroacetic acid (1.4 mQ) under water cooling. The mixture is stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction mixture is poured into diisopropyl ether (70me).

沈殿を濾取してジイソプロピルエーテルで洗浄する。こ
の粉末を水中に注ぎ、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で
1)H6に調整し、酢酸エチルで洗浄する。水溶液をI
N塩酸でpH3,5に調整し、酢酸エチルで抽出する。
The precipitate is filtered and washed with diisopropyl ether. This powder is poured into water, adjusted to 1) H6 with saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and washed with ethyl acetate. Aqueous solution I
Adjust the pH to 3.5 with N hydrochloric acid and extract with ethyl acetate.

#媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテル中で粉砕
して、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−アセトキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)デオメテルー3−セ
フェムー4−カルボン酸(シン異性体)(0,1g)を
得る。
# The solvent was distilled off and the residue was triturated in diisopropyl ether to give 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-acetoxyiminoacetamidoco-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)deomether-3-cephemu 4-carboxylic acid (syn isomer) (0.1 g) is obtained.

IR(X’;a−L)  ”  1760−1770.
 1660. 1530.  Cm″″INMR(DM
SO−d6.δ) : 2.15 (3H,s)、 3
.67 (2H。
IR(X';a-L)" 1760-1770.
1660. 1530. Cm″″INMR(DM
SO-d6. δ): 2.15 (3H,s), 3
.. 67 (2H.

ABq、J:18)1z)、 4.28および4.59
 (2H,ABq。
ABq, J:18)1z), 4.28 and 4.59
(2H, ABq.

J=13Hz)、  5.15 (IH,d、J=5H
z)、  5.78 (IH。
J=13Hz), 5.15 (IH, d, J=5H
z), 5.78 (IH.

d−d、J=5Hz、  8Hz)、  7.01  
(LH,s)、  7.10−7.43(2H,br 
s)、  8.64 (LH,s)、  9.76 (
LH,d。
dd, J=5Hz, 8Hz), 7.01
(LH,s), 7.10-7.43(2H,br
s), 8.64 (LH,s), 9.76 (
LH, d.

J:8H2) 大m(1互 ?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(I
g)の水(30ffL11 )中懸凋液を炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液でpH6,3に調整する。この溶液に
カリウム−1,2,4−チアジアゾール−5−チオラー
トを室温で、pH6,0〜6.5に保ちながら加える。
J:8H2) large m(1 mutual?-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-acetoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (I
The suspension in water (30ffL11) obtained in g) was adjusted to pH 6.3 with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate. Potassium-1,2,4-thiadiazole-5-thiolate is added to this solution at room temperature while maintaining the pH at 6.0 to 6.5.

混合物を60〜65℃で5時間攪拌する。反応混合物中
の沈殿を濾去し、残る水溶液をIN塩厳でpH3に調整
する。沈殿を濾取し、五酸化溝で乾燥して、7−[2−
(2−アミンチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシ
イミノアセトアミド]−3−(1,2,4−チアジアゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体) (0,37g )を得る。
The mixture is stirred at 60-65°C for 5 hours. The precipitate in the reaction mixture is filtered off, and the remaining aqueous solution is adjusted to pH 3 with IN salt water. The precipitate was collected by filtration and dried on a pentoxide groove to give 7-[2-
(2-aminethiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (0 , 37 g).

IR(スジ1−ル)  :  3200. 1750.
 1690. 1650  cm−INMR(DMSO
−d6.δ) : 3.52および3.78 (2H。
IR (Streak 1-L): 3200. 1750.
1690. 1650 cm-INMR (DMSO
-d6. δ): 3.52 and 3.78 (2H.

ABq、 J:18Hz)、 4.30および4.62
 (2H,ABq。
ABq, J: 18Hz), 4.30 and 4.62
(2H, ABq.

J=13)1z)、 5.13 (IH,d、J=5H
z)、 5.78 (1)1゜d−d、J=5Hz、 
8Hz)、 6.65 (LH,s)、 7.07 (
2H。
J=13)1z), 5.13 (IH, d, J=5H
z), 5.78 (1) 1°d-d, J=5Hz,
8Hz), 6.65 (LH,s), 7.07 (
2H.

br s)、 8.70 (LH,s)、 9.42 
(IH,d、J=8Hz)。
br s), 8.70 (LH, s), 9.42
(IH, d, J=8Hz).

11.36 (IH,br s) 塞Jl礼旦 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体) (1,0g )のN
、N−ジメチルホルムアミド(20mG )溶液に、炭
酸セシウム(0,39g)を室温で加える。混合物を同
温で減圧下、20分間攪拌し、混合物に沃化ピバロイル
オキシメチル(0,27g)を水冷下に加える。同温で
15分間攪拌後、反応混合物を酢酸エチル(200m1
1)と水(100m1! )との混合物中に注ぐ、有機
層を分取し、水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液および
食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶液の
溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテル中で粉砕
して、7−[2−(2−アミノデアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステ
ル(シン異性体)(0,57g)を得る。
11.36 (IH, br s) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide co-3-(1,2,4-
N of thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (1,0 g)
, Cesium carbonate (0.39 g) is added to a solution of N-dimethylformamide (20 mG) at room temperature. The mixture was stirred at the same temperature under reduced pressure for 20 minutes, and pivaloyloxymethyl iodide (0.27 g) was added to the mixture under water cooling. After stirring at the same temperature for 15 minutes, the reaction mixture was mixed with ethyl acetate (200ml
Pour into a mixture of 1) and water (100 ml!), separate the organic layer, wash with water, 5% aqueous sodium bicarbonate solution and brine and dry over magnesium sulfate. The solution was evaporated and the residue was triturated in diisopropyl ether to give 7-[2-(2-aminodeazol-4-yl)
-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl ester (syn isomer) (0.57 g).

IR(スジョール)  :  3250. 1780.
 1740. 1680  cm−INMR(DMSO
−da、f; ) ’ 1. ts (9H9s)、3
−54および3.83 (2H,ABq、J=18Hz
)、 4.20.4.60 (2H。
IR (Sujoor): 3250. 1780.
1740. 1680 cm-INMR (DMSO
-da, f; )' 1. ts (9H9s), 3
-54 and 3.83 (2H, ABq, J=18Hz
), 4.20.4.60 (2H.

ABq、J:13)1z)、 5.15 (IH,d、
J=5Hz)、 5.84(LH,d−d、J=5.8
Hz)、 5.90 (2H,ABq、J=6Hz>。
ABq, J:13)1z), 5.15 (IH,d,
J=5Hz), 5.84(LH, dd, J=5.8
Hz), 5.90 (2H, ABq, J=6Hz>.

6.62 (iH,s)、 8.66 (IH,s)、
 9.35 (IH,d。
6.62 (iH,s), 8.66 (IH,s),
9.35 (IH, d.

J=8Hz> 衷JdnJ印 LLLg−と同様にして下記化合物を得る。J=8Hz> JdnJ seal The following compound is obtained in the same manner as LLLg-.

(1)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
(1) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-hydroxyiminoacetamidoco-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer).

IR(Xジi+−4)  :  3200. 1750
. 1690. 1650  cm−’NMR(DMS
O−d6. l; ’) : 3.52および3.78
 (2H。
IR(Xdi+-4): 3200. 1750
.. 1690. 1650 cm-'NMR (DMS
O-d6. l;'): 3.52 and 3.78
(2H.

ABq、J:18Hz)、 4.30および4.62 
(2H,ABq。
ABq, J: 18Hz), 4.30 and 4.62
(2H, ABq.

J=13Hz)、 5.13 (1)1.d、J=5H
z)、 5.78 (IH。
J=13Hz), 5.13 (1)1. d, J=5H
z), 5.78 (IH.

d−d、に5Hz、 8Hz)、 6.65 (IH,
s)、 7.07 (2H。
dd, 5Hz, 8Hz), 6.65 (IH,
s), 7.07 (2H.

br s)、 8.70 (IH,s)、 9.42 
(IH,dJ=8Hz)。
br s), 8.70 (IH, s), 9.42
(IH, dJ=8Hz).

11.36 (1)1.br 5) (2)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン
異性体)。
11.36 (1)1. br 5) (2) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer).

IR(スジ*−L)  ’  1780. 1720.
 1665. 1620  cm−1NMR(DMSO
−d6.8 ) : 3.59および3.83 (2H
IR (Stripe*-L)' 1780. 1720.
1665. 1620 cm-1NMR (DMSO
-d6.8): 3.59 and 3.83 (2H
.

ABq、J=18)1z)、 4.23および4.58
 (2H,ABq。
ABq, J=18)1z), 4.23 and 4.58
(2H, ABq.

J=13Hz)、  5.23 (18,d、J:5H
z)、  5.90 <1)t。
J=13Hz), 5.23 (18,d, J:5H
z), 5.90 <1)t.

d−d、J=5Hz、8Hz>、6.67  (LH,
s)、7.00−7.80(10H,m)、  8.5
5 (LH,s)、  9.46 (1B、d。
dd, J=5Hz, 8Hz>, 6.67 (LH,
s), 7.00-7.80 (10H, m), 8.5
5 (LH, s), 9.46 (1B, d.

J=8Hz)、11.40  (LH,5)(3)?−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−アセ
トキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−チア
ジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)。
J=8Hz), 11.40 (LH,5)(3)? −
[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-acetoxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4
-Carboxylic acid (syn isomer).

IR(スジ1−4)  :  1760−1770. 
1660. 1530  cm−1BMR(DMSO−
ds、S ) ’ 2.15 (3H1s)、3.67
 (2H1ABq、J:18Hz>、 4.28および
4.59 (2H,ABq。
IR (streak 1-4): 1760-1770.
1660. 1530 cm-1BMR (DMSO-
ds, S)' 2.15 (3H1s), 3.67
(2H1ABq, J: 18Hz>, 4.28 and 4.59 (2H,ABq.

U=13Hz)、 5.15 (IH,d、J=5Hz
)、 5.78 (LH。
U=13Hz), 5.15 (IH, d, J=5Hz
), 5.78 (LH.

d−d、J =5Hz、 8Hz)、 7.01 (I
H,s)、 7.10−7.43<2H,br  s)
、  8.64  (11(、s)、  9.76  
(1)1.d。
dd, J = 5Hz, 8Hz), 7.01 (I
H, s), 7.10-7.43<2H, br s)
, 8.64 (11(,s), 9.76
(1)1. d.

J=8Hz) (4)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステ
ル(シン異性体)。
J=8Hz) (4) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-hydroxyiminoacetamidoco-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl ester (syn isomer).

IR(Xヅi−ル)  :  3250. 1780.
 1740. 1680 11−III−INMR(D
MSO−ds、8 ) ’ 1.15 (9H,s)、
 3−54および3.83 (2H,ABq、J=18
)1z)、 4.20.4.60 (2H。
IR: 3250. 1780.
1740. 1680 11-III-INMR(D
MSO-ds, 8)' 1.15 (9H,s),
3-54 and 3.83 (2H, ABq, J=18
)1z), 4.20.4.60 (2H.

ABq、 J43Hz)、 5.15 (IH,d、J
=5Hz)、 5.84(LH,d−d、J=5.8H
z)、 5.90 (2H,ABq、に6Hz)。
ABq, J43Hz), 5.15 (IH, d, J
=5Hz), 5.84(LH, dd, J=5.8H
z), 5.90 (2H, ABq, 6Hz).

6.62 (LH,s)、 8.66 (IH,s)、
 9.35 (LH,d。
6.62 (LH, s), 8.66 (IH, s),
9.35 (LH, d.

J−8Hz) 犬亙±旦 火」1然」1と同様にして下記化合物を得る。J-8Hz) dog boy The following compound is obtained in the same manner as in 1.

7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル(シ
ン異性体)。
7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl ester (syn isomer).

IR(スジョール)  :  3250. 1780.
 1740. 1680  cm−’NMR(DMSO
−da、f; ) 二L 15 (9H1s)、3.5
4および3.83 (2H,ABq、J=18Hz)、
 4.20.4.60 (2H。
IR (Sujoor): 3250. 1780.
1740. 1680 cm-'NMR (DMSO
-da, f; ) 2L 15 (9H1s), 3.5
4 and 3.83 (2H, ABq, J=18Hz),
4.20.4.60 (2H.

ABq、J=13Hz>、  5.15 (IH,d、
J=5Hz)、  5.84(LH,d−d、J=5H
,8Hz)、  5.90 (2H,ABQ。
ABq, J=13Hz>, 5.15 (IH, d,
J=5Hz), 5.84(LH, dd, J=5H
, 8Hz), 5.90 (2H, ABQ.

J−6Hz)、  6.62 (IH,s)、  8.
66 (IH,s)、  9.35(LH,d、J=8
H2) 実施例12 実施例3と同様にして下記化合物を得る。
J-6Hz), 6.62 (IH,s), 8.
66 (IH, s), 9.35 (LH, d, J=8
H2) Example 12 The following compound is obtained in the same manner as in Example 3.

7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
アセトキシイミノアセトアミド]− (1,2,4−チ
アジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Acetoxyiminoacetamide]-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-
4-carboxylic acid (syn isomer).

IR(ス九−ル)  :  1760−1770. 1
660. 1530  ロー1NMR(DMSO−d6
.δ) : 2.15 (3H,s)、 3.67 (
2H。
IR: 1760-1770. 1
660. 1530 Low 1NMR (DMSO-d6
.. δ): 2.15 (3H,s), 3.67 (
2H.

ABq、J=18Hz>、 4.28および4.59 
(2H,ABq。
ABq, J=18Hz>, 4.28 and 4.59
(2H, ABq.

J=13Hz)、 5.15 (IH,d、J:5Hz
)、 5.78 (IH。
J=13Hz), 5.15 (IH, d, J:5Hz
), 5.78 (IH.

d−d、J=5Hz、 8Hz)、 7.01 (1)
!、s)、 7.10−7.43(2H,br s)、
 8.64 (LH,s)、 9.76 (IH,d。
dd, J=5Hz, 8Hz), 7.01 (1)
! , s), 7.10-7.43 (2H, br s),
8.64 (LH,s), 9.76 (IH,d.

J=8Hz) 去】U江l 実施例8と同様にして下記化合物を得る。J=8Hz) 【Leave】Ue l The following compound is obtained in the same manner as in Example 8.

(1)7−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシイ
ミノ)−2−(2−トリチルアミンチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド]−3−(L2.4−チアジアゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)。
(1) 7-[2-(2-tetrahydropyranyloxyimino)-2-(2-tritylaminethiazol-4-yl)acetamide]-3-(L2.4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3 -Cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer).

IR(X!;e−L)  :  3350. 1770
. 1700. 1660  cm−’NMR(DMS
O−da、S ) =1−50−2.00 (m)、3
.50−4−30(4H,m)、 5.30 (1)1
.d、J=5Hz)、 5.85 (1)1.dd。
IR(X!; e-L): 3350. 1770
.. 1700. 1660 cm-'NMR (DMS
O-da, S) = 1-50-2.00 (m), 3
.. 50-4-30 (4H, m), 5.30 (1)1
.. d, J=5Hz), 5.85 (1)1. dd.

J=5Hz、 J:8Hz)、 6.83 (1)t、
s)、 7.03(LH,s)、 7.10−7.77
 (m)、 8.57 (IH,s)。
J=5Hz, J:8Hz), 6.83 (1)t,
s), 7.03(LH,s), 7.10-7.77
(m), 8.57 (IH, s).

9.67 (IH,d、J:8Hz> (2)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン
異性体)。
9.67 (IH, d, J: 8Hz> (2) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer).

IR(スジa−IL)  :  1780. 1720
. 1665. 1620  cm−1NMR(DMS
O−da、δ):3.59および3.83 (2H。
IR (suji a-IL): 1780. 1720
.. 1665. 1620 cm-1NMR (DMS
O-da, δ): 3.59 and 3.83 (2H.

ABq、J=18Hz>、 4.23および4.58 
(2H,ABq。
ABq, J=18Hz>, 4.23 and 4.58
(2H, ABq.

J=13Hz)、  5.23 (LH,d、J=5)
1z)、  5.90 (LH。
J=13Hz), 5.23 (LH, d, J=5)
1z), 5.90 (LH.

d−dJ=5Hz、  8Hz)、  6.67 (1
8,s)、  7.00−7.80(IOH,m>、 
 8.55 (IH,s)、  9.46 (IH,d
d-dJ=5Hz, 8Hz), 6.67 (1
8,s), 7.00-7.80(IOH,m>,
8.55 (IH, s), 9.46 (IH, d
.

J=8Hz)、  11.40 (LH,5)(3)7
−[:2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
アセトキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体
)。
J=8Hz), 11.40 (LH,5)(3)7
-[:2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
acetoxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer).

NMR(DMSO−da−8> ’ 2.18 (3H
1s)、3.17−4.67(4H,m)、 5.17
−6.17 (2H,m)、 7.0 (LH,s)。
NMR (DMSO-da-8>' 2.18 (3H
1s), 3.17-4.67 (4H, m), 5.17
-6.17 (2H, m), 7.0 (LH, s).

7.12 (LH,s)、 7.22−7.73 (1
0H,m)、 8.57(LH,5) (4)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−アセトキシイミノアセトアミド]−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
7.12 (LH,s), 7.22-7.73 (1
0H, m), 8.57 (LH, 5) (4) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-acetoxyiminoacetamide]-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer).

IR(ス九−ル)  :  1760−1770. 1
660. 1530  cm−1HMR(DMSO−d
a、8 ) ’ 2−15 (3)1.s)、3.67
 (2H9ABq、 J=18Hz)、 4.28およ
び4.59 (2H,ABq。
IR: 1760-1770. 1
660. 1530 cm-1HMR (DMSO-d
a, 8)' 2-15 (3)1. s), 3.67
(2H9ABq, J=18Hz), 4.28 and 4.59 (2H,ABq.

J=13Hz)、  5.15 <LH,d、J=5H
z)、  5.78 (LH。
J=13Hz), 5.15 <LH, d, J=5H
z), 5.78 (LH.

d−d、J:5Hz、  8Hz)、  7.01 (
LH,s)、  7.10−7.43(2H,br s
)、  8.64 (LH,s)、  9.76 (L
H,d。
dd, J: 5Hz, 8Hz), 7.01 (
LH, s), 7.10-7.43 (2H, br s
), 8.64 (LH,s), 9.76 (L
H,d.

J=8H2) (5)7−[:2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−ヒドロキシイミノアセトアミドコ−3−(1,
2,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエス
テル(シンA性体)。
J=8H2) (5) 7-[:2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamidoco-3-(1,
2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-
Cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl ester (Syn A form).

IR(スジミール)  :  3250. 17$0.
 1740. 1680  cTII−INMR(DM
SO−ds、S ) ’ 1.15 (9H1s)、3
.54および3.83 (2H,ABqJ=18Hz)
、 4.20.4.60 (2H。
IR (Suji Meal): 3250. 17$0.
1740. 1680 cTII-INMR (DM
SO-ds, S)' 1.15 (9H1s), 3
.. 54 and 3.83 (2H, ABqJ=18Hz)
, 4.20.4.60 (2H.

ABq、J=13Hz>、 5.15 (IH,d、J
=5Hz>、 5.84(LH,d−d、J=5.8H
z)、 5.90 (2H,ABq、J=6Hz)。
ABq, J=13Hz>, 5.15 (IH, d, J
=5Hz>, 5.84(LH, dd, J=5.8H
z), 5.90 (2H, ABq, J=6Hz).

6.62 (LH,s)、 8.66 (IH,s)、
 9.35 (LH,d。
6.62 (LH, s), 8.66 (IH, s),
9.35 (LH, d.

J=8H2) 衷】U艷■ 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)(5,0g)の水(5
0111)中部濁液に、炭酸水素ナトリウム(924m
g)を攪拌下に加える。この溶液を酸化アルミニウム(
50g)(ウールム・)γルマ社製、W2O0型)を使
用するカラムクロマトグラフィーに付し、水で溶出する
。溶出液を凍結乾燥して、7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
ドコ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム
(シン異性体)(4,2g)を得る。
J=8H2) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (5.0 g) in water (5.0 g)
0111) Sodium hydrogen carbonate (924 m
g) is added under stirring. Add this solution to aluminum oxide (
50 g) (manufactured by Woollum) (gamma Luma, type W2O0) was subjected to column chromatography using water. The eluate was lyophilized to yield 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamidoco-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl).
Sodium thiomethyl-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer) (4.2 g) is obtained.

IR(ス′;ヨール)  :  3300. 1750
. 1650. 16001520 aTl−1 夫凰五基 ?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
ヒドロキンイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)(5,0g)のメタノ
ール(25mA )中部濁液に、5モル硫酸(2m11
)を攪拌下室温で加える。
IR (S'; Yor): 3300. 1750
.. 1650. 16001520 aTl-1 Fuo five? -[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
hydroquiniminoacetamide]-3-(1,2,4-
To a suspension of thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (5.0 g) in methanol (25 mA) was added 5 molar sulfuric acid (2 m
) is added at room temperature while stirring.

この溶液をジエチルエーテル(600mQ )中に注ぐ
、沈殿を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄して、7−[
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロ
キシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−チアジ
アゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸・硫酸塩(シン異性体)(5,6g)を得る
The solution was poured into diethyl ether (600 mQ), the precipitate was collected by filtration, washed with diethyl ether, and the 7-[
2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid sulfate (syn isomer) (5.6 g) is obtained.

IR(スジう−ル)  ;  1770. 1640.
 1590. 1520  印−INMR(DMSO−
da、δ) i 3.60および3.80 (2H。
IR (Sujiuru); 1770. 1640.
1590. 1520 INMR (DMSO-
da, δ) i 3.60 and 3.80 (2H.

ABq、J=18Hz)、 4.40および4.60 
(2H,ABq。
ABq, J=18Hz), 4.40 and 4.60
(2H, ABq.

J=14Hz>、 5.20 (IH,d、J=5Hz
)、 5.80 <18゜dd、J−5Hz、 8Hz
)、 6.87 (IH,s)、 8.70(IH,s
)、 9.68 (IH,d、J=8Hz)夫五医旦 (1)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体) (10,0g
 )のメタ/ −ル(40mQ )中部濁液に、濃塩酸
(2,0m1)を攪拌下室温で加える。
J=14Hz>, 5.20 (IH, d, J=5Hz
), 5.80 <18゜dd, J-5Hz, 8Hz
), 6.87 (IH,s), 8.70 (IH,s
), 9.68 (IH, d, J = 8Hz) Fugoikdan (1) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2
,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (10,0g
) Concentrated hydrochloric acid (2.0 ml) was added to the middle suspension of methanol (40 mQ) under stirring at room temperature.

この溶液をジエチルエーテル(500m11 )中に注
ぐ、沈殿を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄して、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒド
ロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−チア
ジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸・塩酸塩(シン異性体) (10,6g 
)を得る。
The solution was poured into diethyl ether (500ml), the precipitate was collected by filtration, washed with diethyl ether, and the 7-
[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4
-Carboxylic acid hydrochloride (syn isomer) (10.6g
).

mp : 160−165℃(分解) LR(Xジi−ル)  :  1780. 1680.
 1635. 1530  cm−INMR(DMSO
−ds、l; ) ’ 3.70 (2H1m)、4.
34および4.71 (2H,ABq、J:13Hz)
、 5.21 (1)1.d。
mp: 160-165°C (decomposition) LR (X di-il): 1780. 1680.
1635. 1530 cm-INMR (DMSO
-ds, l; )' 3.70 (2H1m), 4.
34 and 4.71 (2H, ABq, J: 13Hz)
, 5.21 (1)1. d.

J:5Hz)、 5.80 (IH,dd、J=5Hz
、 8Hz)、 6.87(18,s)、 8.72 
(LH,s)、 9.71 (18,d、に8Hz)(
2)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,
4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸・塩酸塩(シン異性体) (40
0mg)のアセトニトリル(4mQ )中部濁液を攪拌
下45°Cで2時間力ロ熱する。冷却後、沈殿を濾取し
てアセトニトリルおよびジエチルエーテルで洗浄して、
7−[2−(2−アミツチアゾールー4−イル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミドコ−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸・塩酸塩(シン異性体)(410mg
)の結晶を得る。この結晶はアセトニトリル1モル当量
を含有する。
J:5Hz), 5.80 (IH, dd, J=5Hz
, 8Hz), 6.87 (18,s), 8.72
(LH,s), 9.71 (18,d, 8Hz) (
2) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,
4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid hydrochloride (syn isomer) (40
A suspension of 0 mg) in acetonitrile (4 mQ) was heated under stirring at 45°C for 2 hours. After cooling, the precipitate was collected by filtration and washed with acetonitrile and diethyl ether.
7-[2-(2-amitthiazol-4-yl)-2-
Hydroxyiminoacetamide co-3-(1,2,4-
Thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid hydrochloride (syn isomer) (410 mg
) to obtain crystals. The crystals contain 1 molar equivalent of acetonitrile.

mp : 80−84℃ (分解) IR(xジm−x)  ’  3260−3050. 
2240. 1770. 1710゜1650、163
0.1540 cTII−1HMR(DMSO−d6.
δ) : 2.05 (3H,s)、 3.66(2H
,m)、 4.31および4.81 (2H,ABq。
mp: 80-84°C (decomposition) IR (xdim-x)' 3260-3050.
2240. 1770. 1710°1650, 163
0.1540 cTII-1HMR (DMSO-d6.
δ): 2.05 (3H, s), 3.66 (2H
, m), 4.31 and 4.81 (2H, ABq.

J=13)1z)、 5.14 (IH,d、J=5H
z)、 5.73 (IH。
J=13)1z), 5.14 (IH, d, J=5H
z), 5.73 (IH.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R^2はカルボキシまたは保護されたカルボキシ基、 R^3は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞれ意味す
る] で示されるセフェム化合物およびその塩類。 2)R^1がアミノまたはアル(低級)アルキルアミノ
、R^2がカルボキシまたはエステル化されたカルボキ
シ、R^3が水素、アシルまたはテトラヒドロピラニル
である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3)R^1がアミノ、R^3が水素である特許請求の範
囲第2項記載の化合物。 4)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,
4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)またはそのナトリ
ウム塩である特許請求の範囲第3項記載の化合物。 5)R^2がエステル化されたカルボキシである特許請
求の範囲第3項記載の化合物。 6)R^2がアル(低級)アルコキシカルボニルまたは
低級アルカノイルオキシ(低級)アルコキシカルボニル
である特許請求の範囲第5項記載の化合物。 7)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,
4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異
性体)である特許請求の範囲第6項記載の化合物。 8)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,
4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル
(シン異性体)である特許請求の範囲第6項記載の化合
物。 9)R^3が低級アルカノイルまたはテトラヒドロピラ
ニルである特許請求の範囲第2項記載の化合物。 10)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−アセトキシイミノアセトアミド]−3−(1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)、 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
アセトキシイミノアセトアミド]−3−(1,2,4−
チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体
)、および7−[2−(2−テトラヒドロピラニルオ キシイミノ)−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−(1,2,4−チアジ
アゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異性体)より
なる群から選ばれた特許請求の範囲第9項記載の化合物
。 11)i)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ基を意味する) で示される化合物またはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R^3は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞれ意味す
る) で示される化合物またはカルボキシ基におけるその反応
性誘導体またはその塩と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味) で示される化合物またはその塩を得るか; ii)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3はそれぞれ前と同じ意味で
あり、 R^2_aは保護されたカルボキシ基を意味する)で示
される化合物またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反
応に付して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3はそれぞれ前と同じ意味)
で示される化合物またはその塩を得るか; iii)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味で
あり、 Xは酸残基を意味する) で示される化合物またはその塩を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は前と同じ意味) で示される化合物と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味) で示される化合物またはその塩を得るか; iv)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3はそれぞれ前と同じ意味)
で示される化合物またはその塩をエステル化反応に付し
て、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3はそれぞれ前と同じ意味で
あり、 R^2_bはエステル化されたカルボキシ基を意味する
) で示される化合物またはその塩を得るか; v)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味で
あり、 R^3_aはヒドロキシ保護基を意味する)で示される
化合物またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付
して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味)
で示される化合物またはその塩を得るか; vi)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味で
あり、 R^1_aは保護されたアミノ基を意味する)で示され
る化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付し
て、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味)
で示される化合物またはその塩を得るか; vii)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味であり、 Yは式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基によって置換されうる基を意味する) で示される化合物またはその塩を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物またはメルカプト基におけるその反応
性誘導体と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味) で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする
一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味] で示されるセフェム化合物またはその塩類の製法。 12)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R^2はカルボキシまたは保護されたカルボキシ基、 R^3は水素またはヒドロキシ保護基をそれぞれ意味す
る] で示されるセフェム化合物またはその塩類を有効成分と
する細菌感染症予防・治療剤。 13)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ基、 Aはメチレンまたは式: >C=N〜OR^3 (式中、R^3は水素またはヒドロキシ保護基を意味す
る)で示される基、 Xは酸残基を意味する] で示される化合物およびその塩。 14)i)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ基を意味する) で示される化合物またはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩を、式: XCH_2CO−A−COOH [式中、Aはメチレンまたは式: >C=N〜OR^3 (式中、R^3は水素またはヒドロキシ保護基を意味す
る)で示される基、 Xは酸残基を意味する] で示される化合物またはカルボキシ基におけるその反応
性誘導体またはその塩と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、AおよびXはそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩を得るか; ii)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物またはその塩を、ニトロソ化剤と反応させ
て、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびXはそれぞれ前と同じ意味)で示
される化合物またはその塩を得ることを特徴とする一般
式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、XおよびAはそれぞれ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩の製法。
[Claims] 1) General formula ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1 is amino or a protected amino group, R^2 is carboxy or a protected carboxy group, R^ 3 means a hydrogen or hydroxy protecting group, respectively] A cephem compound and its salts. 2) The compound according to claim 1, wherein R^1 is amino or al(lower) alkylamino, R^2 is carboxy or esterified carboxy, and R^3 is hydrogen, acyl or tetrahydropyranyl. . 3) The compound according to claim 2, wherein R^1 is amino and R^3 is hydrogen. 4) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,
4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) or its sodium salt. 5) The compound according to claim 3, wherein R^2 is esterified carboxy. 6) The compound according to claim 5, wherein R^2 is al(lower)alkoxycarbonyl or lower alkanoyloxy(lower)alkoxycarbonyl. 7) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,
7. The compound according to claim 6, which is 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer). 8) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-
2-hydroxyiminoacetamide]-3-(1,2,
7. The compound according to claim 6, which is 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl ester (syn isomer). 9) The compound according to claim 2, wherein R^3 is lower alkanoyl or tetrahydropyranyl. 10) 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)
-2-acetoxyiminoacetamide]-3-(1,2
, 4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer), 7-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-
acetoxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-
thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester (syn isomer), and 7-[2-(2-tetrahydropyranyloxyimino)-2-(2-tritylaminothiazole-
4-yl)acetamido]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-
The compound according to claim 9, selected from the group consisting of carboxylic acid benzhydryl esters (syn isomer). 11) i) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^2 means carboxy or protected carboxy group) A compound represented by the following or its reactive derivative in an amino group or a salt thereof , the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 means amino or a protected amino group, R^3 means hydrogen or a hydroxy protecting group, respectively) or carboxy By reacting with its reactive derivative or its salt in the group, it is expressed by the formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (wherein R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before) ii) Formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R^1 and R^3 each have the same meaning as before, and R^2_a is a protected (meaning a carboxy group) or a salt thereof is subjected to an elimination reaction of the carboxy protecting group, and the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 and R^3 are each has the same meaning as before)
iii) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^2 and R^3 each have the same meaning as before, and X is an acid residue ) or its salt is reacted with a compound represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (in the formula, R^1 has the same meaning as before) to form the formula: ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before) Do you obtain the compound or its salt? iv) Formula: ▲Mathical formula, chemical formula , tables, etc. ▼ (In the formula, R^1 and R^3 each have the same meaning as before)
The compound represented by or its salt is subjected to an esterification reaction to form the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 and R^3 each have the same meaning as before, R^ 2_b means an esterified carboxy group) or its salt; v) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 and R^2 are each The same meaning as before, R^3_a means a hydroxy protecting group) or its salt is subjected to a hydroxy protecting group elimination reaction to form the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 and R^2 each have the same meaning as before)
vi) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^2 and R^3 each have the same meaning as before, and R^1_a is protected The compound represented by (representing an amino group) or its salt is subjected to an amino-protecting group elimination reaction to form the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ 3 has the same meaning as before)
vii) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before, and Y means a group that can be substituted by a group represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼) A compound or its salt represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ When reacted with a compound or its reactive derivative in the mercapto group, the compound represented by the formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (wherein R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before) A general formula characterized by obtaining a compound or a salt thereof: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1, R^2 and R^3 each have the same meaning as before] A method for producing cephem compounds or their salts. 12) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1 is amino or a protected amino group, R^2 is carboxy or a protected carboxy group, R^3 is hydrogen or hydroxy A prophylactic/therapeutic agent for bacterial infections containing a cephem compound or a salt thereof as an active ingredient. 13) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^2 is carboxy or protected carboxy group, A is methylene or the formula: >C=N~OR^3 (In the formula, ^3 means a hydrogen or hydroxy protecting group), X means an acid residue] and salts thereof. 14) i) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^2 means carboxy or protected carboxy group) A compound represented by the following or its reactive derivative in an amino group or a salt thereof , a group represented by the formula: means an acid residue] or its reactive derivative in the carboxy group or its salt to form a compound represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ ii) Formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (wherein R^2 and The compound shown or a salt thereof is reacted with a nitrosating agent to form a compound shown by the formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (wherein R^2 and X each have the same meaning as before) or its salt. General formulas characterized by obtaining salts: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^2, X and A each have the same meanings as before.) A method for producing the compound or its salt.
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