JPH06135972A - New cephem compound - Google Patents

New cephem compound

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Publication number
JPH06135972A
JPH06135972A JP5204885A JP20488593A JPH06135972A JP H06135972 A JPH06135972 A JP H06135972A JP 5204885 A JP5204885 A JP 5204885A JP 20488593 A JP20488593 A JP 20488593A JP H06135972 A JPH06135972 A JP H06135972A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ester
compound
acid
cephem
vinyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP5204885A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Kawabata
浩二 川端
Takeshi Terasawa
武志 寺澤
Ayako Nakamura
綾子 中村
Kazuo Sakane
和夫 坂根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP5204885A priority Critical patent/JPH06135972A/en
Publication of JPH06135972A publication Critical patent/JPH06135972A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a new compound useful as an antibacterial agent for Gram-positive bacteria, Gram-negative bacteria, etc. CONSTITUTION:The compound of formula I [R<1> is (protected) amino; R<2> is H or organic group; R<3> is (protected) carboxy; R<4> is 1,2,3-thiazolyl, triazolyl or tetrazolopyridazinyl; Z is N or CH], e.g. 7beta-[2-(2-aminothiazol-4-yl)-2- acetoxyiminoacetamido]-3-[(E)-2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl)thio]vinyl]-3- cephem-4- carboxylic acid diphenylmethyl ester. The compound of formula I can be produced by reacting a compound of formula II with a compound of formula III.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、高い抗菌活性を有す
る新規なセフェム化合物に関するものであり医療の分野
で利用される。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel cephem compound having high antibacterial activity and is used in the medical field.

【0002】[0002]

【従来の技術】セフェム化合物は数多く知られている
が、この発明の下記一般式(I)で示されるセフェム化
合物は知られていない。
BACKGROUND OF THE INVENTION Many cephem compounds are known, but the cephem compound represented by the following general formula (I) of the present invention is not known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】抗菌活性を有し、医薬
として有用なセフェム化合物は数多く知られているが、
この発明はさらに優れた医薬品の開発を意図してなされ
たものである。
Although many cephem compounds having antibacterial activity and useful as medicines are known,
This invention was made with the intention of developing a further excellent drug product.

【0004】[0004]

【発明の構成】この発明の目的とするセフェム化合物は
新規であり、下記一般式(I)で示すことができる。
The cephem compound which is the object of the present invention is novel and can be represented by the following general formula (I).

【0005】一般式:General formula:

【化3】 [式中、R はアミノ基または保護されたアミノ基、
は水素または有機基、R はカルボキシ基また
は保護されたカルボキシ基、R は1,2,3−チア
ジアゾリル基、トリアゾリル基またはテトラゾロピリダ
ジニル基、およびZはNまたはCHを意味する]
[Chemical 3] [Wherein R 1 is an amino group or a protected amino group,
R 2 is hydrogen or an organic group, R 3 is a carboxy group or a protected carboxy group, R 4 is a 1,2,3-thiadiazolyl group, a triazolyl group or a tetrazolopyridazinyl group, and Z is N or CH. means]

【0006】この発明のセフェム化合物(I)は下記に
説明する製造法によって製造することができる。 製造法1
The cephem compound (I) of the present invention is described below.
It can be manufactured by the manufacturing method described. Manufacturing method 1

【化4】 [Chemical 4]

【0007】製造法2 Manufacturing method 2

【化5】 [Chemical 5]

【0008】製造法3 Manufacturing method 3

【化6】 [Chemical 6]

【0009】製造法4 Manufacturing method 4

【化7】 [Chemical 7]

【0010】製造法5 Manufacturing method 5

【化8】 [式中、R1、R2、R3、R4およびZは前と同じ意味、
1 aは保護されたアミノ基、 R2 aはヒドロキシ保護
基、R3 aは保護されたカルボキシ基、R3 bはエステル化
されたカルボキシ基を意味する]原料化合物(IIa)
は、下記の方法によって製造することができる。
[Chemical 8] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and Z have the same meanings as described above,
R 1 a means a protected amino group, R 2 a means a hydroxy protecting group, R 3 a means a protected carboxy group, R 3 b means an esterified carboxy group] Raw material compound (IIa)
Can be produced by the following method.

【0011】製造法AManufacturing method A

【化9】 [Chemical 9]

【0012】製造法BProduction method B

【化10】 [式中、R3およびR4は前と同じ意味であり、R5はア
ミノ基または保護されたアミノ基、R5 aは保護されたア
ミノ基、X1は酸残基を意味する]
[Chemical 10] [Wherein R 3 and R 4 have the same meanings as described above, R 5 represents an amino group or a protected amino group, R 5 a represents a protected amino group, and X 1 represents an acid residue]

【0013】尚、化合物(I)、(Ia)〜(Ig)お
よび(III)については、シン異性体、アンチ異性体
ならびにそれらの混合物がそれぞれ含まれる。目的化合
物(I)を例にとると、シン異性体とは以下の式
The compounds (I), (Ia) to (Ig) and (III) include syn isomers, anti isomers and mixtures thereof. Taking the target compound (I) as an example, the syn isomer has the following formula

【化11】 (式中、R1、R2、Zはそれぞれ前記定義の通りであ
る)で表される部分構造を持つ幾何異性体を意味しアン
チ異性体とは以下の式
[Chemical 11] (Wherein R 1 , R 2 and Z are as defined above) means a geometric isomer having a partial structure, and the anti isomer is represented by the following formula

【化12】 (式中、R1、R2、Zはそれぞれ前記定義の通りであ
る)で表される部分構造をもつ幾何異性体を意味し、こ
のような幾何異性体ならびにそれらの混合物もまたすべ
て本発明の範囲に包含される。
[Chemical 12] (Wherein R 1 , R 2 , and Z are as defined above), and means a geometrical isomer having a partial structure, and such geometrical isomers and mixtures thereof are all also present in the present invention. It is included in the range of.

【0014】本明細書中、これらの幾何異性体およびそ
れらの混合物の部分構造は便宜上、下記の式
In the present specification, the partial structures of these geometric isomers and their mixtures are represented by the following formulas for convenience.

【化13】 (式中、R1,2,Zはそれぞれ前記定義の通りであ
る)で表す。
[Chemical 13] (Wherein R 1, R 2 and Z are as defined above).

【0015】化合物(I)の好適な医薬として許容され
る塩は慣用の無毒性の塩であって、無機塩基との塩、例
えばアルカリ金属塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩
等)、アルカリ土類金属塩(例えばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩等)、アンモニウム塩;有機塩基との塩、例
えば有機アミン塩(例えば、トリエチルアミン塩、ピリ
ジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノ
ールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N′−
ジベンジルエチレンジアミン塩等)等;無機酸付加塩
(例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩
等);有機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加
塩(例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレ
イン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンス
ルホン酸塩等);塩基性または酸性アミノ酸(例えばア
ルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等)との塩等
のごとき塩基との塩または酸付加塩を包含し得る。
Suitable pharmaceutically acceptable salts of compound (I) are conventional non-toxic salts, such as salts with inorganic bases such as alkali metal salts (eg sodium salt, potassium salt etc.), alkaline earth salts. Metal salts (eg calcium salt, magnesium salt etc.), ammonium salts; salts with organic bases such as organic amine salts (eg triethylamine salt, pyridine salt, picoline salt, ethanolamine salt, triethanolamine salt, dicyclohexylamine salt, N, N'-
Dibenzylethylenediamine salt etc.); Inorganic acid addition salt (eg hydrochloride, hydrobromide, sulfate, phosphate etc.); Organic carboxylic acid addition salt or organic sulfonic acid addition salt (eg formate, acetate) , Trifluoroacetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, etc.); salts with bases such as salts with basic or acidic amino acids (eg arginine, aspartic acid, glutamic acid, etc.) Or it may include acid addition salts.

【0016】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。
In the above and subsequent descriptions of the present specification, suitable examples and explanations of various definitions included within the scope of the present invention will be explained in detail below.

【0017】「低級」とは、特に指示がなければ、炭素
原子 1ないし6個(好ましくは1ないし4個)を意味
するものとする。
The term "lower" means 1 to 6 carbon atoms (preferably 1 to 4) unless otherwise specified.

【0018】好適な「保護されたアミノ基」としては、
アシルアミノ基または適当な置換基を有していてもよい
アル(低級)アルキル基(例えばベンジル基、トリチル
基等)等の慣用の保護基で置換されたアミノ基等を挙げ
ることができる。
A suitable "protected amino group" is
Examples thereof include an amino group substituted with a conventional protecting group such as an acylamino group or an ar (lower) alkyl group which may have a suitable substituent (eg, benzyl group, trityl group, etc.).

【0019】「アシルアミノ基」の好適な「アシル」部
分としては、カルバモイル、脂肪族アシル基および芳香
族アシルとして示される芳香環あるいは複素環アシルと
して示される複素環を含有するアシル基が挙げられる。
前記アシルの好適な例を以下に示す:低級アルカノイル
(例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキサリ
ル、スクシニル、ピバロイル等);低級アルコキシカル
ボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ペ
ンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
等);低級アルキルスルホニル(例えば、メシル、エチ
ルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスル
ホニル、ブチルスルホニル等);アリールスルホニル
(例えばフェニルスルホニル、トシル等);アロイル
(例えば、ベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフ
トイル、フタロイル、インダンカルボニル等);アル
(低級)アルカノイル(例えば、フェニルアセチル、フ
ェニルプロピオニル等);アル(低級)アルコキシカル
ボニル(例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチル
オキシカルボニル等)を挙げることができる。
Suitable "acyl" moiety of "acylamino group" includes carbamoyl, aliphatic acyl group and acyl group containing an aromatic ring represented by aromatic acyl or a heterocycle represented by heterocyclic acyl.
Suitable examples of the acyl are shown below: lower alkanoyl (eg, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl, etc.); lower alkoxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, etc.); lower alkylsulfonyl (eg, mesyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, etc.); arylsulfonyl ( Aroyl (eg, benzoyl, toluoyl, xyloyl, naphthoyl, phthaloyl, a, etc.) Dan carbonyl, etc.); ar (lower) alkanoyl (e.g., phenylacetyl, phenylpropionyl, etc.); can be exemplified Al a (lower) alkoxycarbonyl (e.g. benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl carbonyl, etc.).

【0020】好適な有機基としては、低級アルキル(例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、t−ブチル,ペンチル、ネオペンチ
ル、tーペンチル、ヘキシル等)、前記アシルの如きヒ
ドロキシ保護基(例えば、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレ
リル、オキサリル、スクシニル、ピバロイル等の低級ア
ルカノイル)、モノ(またはジまたはトリ)ハロ(低
級)アルキル(例えばフルオロメチル、ジフルオロメチ
ル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、ブロモメチル、クロロエチル、ジクロロエチル、ト
リクロロエチル、フルオロエチル、トリフルオロエチル
等)、低級アルケニル(例えばビニル、1−プロペニ
ル、アリル、1−メチルアリル、1または2または3−
ブテニル、1または2または3または4−ペンテニル、
1または2または3または4または5−ヘキセニル
等)、低級アルキニル(例えばエチニル、1−プロピニ
ル、プロパルギル、1−メチルプロパルギル、1または
2または3−ブチニル、1または2または3または4−
ペンチニル、1または2または3または4または5−ヘ
キシニル等)、アリ−ル(例えばフェニル、ナフチル
等)、フェニル(低級)アルキルのようなアル(低級)
アルキル(例えばベンジル、フェネチル、フェニルプロ
ピル等)、低級アルキル部分が先に述べた如きものであ
るカルボキシ(低級)アルキル、低級アルキル部分が先
に述べた如きものであり、保護されたカルボキシ部分が
以下に述べる如きものである保護されたカルボキシ(低
級)アルキル等を挙げることができる。
Suitable organic groups include lower alkyl (eg, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, neopentyl, t-pentyl, hexyl, etc.), a hydroxy protecting group such as the acyl ( For example, lower alkanoyl such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl, etc., mono (or di or tri) halo (lower) alkyl (eg fluoromethyl, difluoromethyl, chloromethyl, Dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, chloroethyl, dichloroethyl, trichloroethyl, fluoroethyl, trifluoroethyl, etc.), lower alkenyl (for example, vinyl, 1-propenyl, allyl, 1-methyl acrylate) Le, 1 or 2 or 3
Butenyl, 1 or 2 or 3 or 4-pentenyl,
1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexenyl, etc.), lower alkynyl (eg ethynyl, 1-propynyl, propargyl, 1-methylpropargyl, 1 or 2 or 3-butynyl, 1 or 2 or 3 or 4-).
Pentynyl, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexynyl etc.), aryl (eg phenyl, naphthyl etc.), ar (lower) such as phenyl (lower) alkyl
Alkyl (eg benzyl, phenethyl, phenylpropyl, etc.), lower alkyl moiety is as previously described carboxy (lower) alkyl, lower alkyl moiety is as previously described, wherein the protected carboxy moiety is And protected carboxy (lower) alkyl and the like.

【0021】好適な「保護されたカルボキシ基」として
は、エステル化されたカルボキシ基等が挙げられる。前
記エステルの好適な例としては、低級アルキルエステル
(例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエ
ステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソ
ブチルエステル、t−ブチルエステル、ペンチルエステ
ル、t−ペンチルエステル、ヘキシルエステル、等);
低級アルケニルエステル(例えばビニルエステル、アリ
ルエステル等);低級アルキニルエステル(例えばエチ
ニルエステル、プロピニルエステル等);低級アルコキ
シアルキルエステル(例えばメトキシメチルエステル、
エトキシメチルエステル、イソプロポキシメチルエステ
ル、1−メトキシエチルエステル、1−エトキシエチル
エステル等);低級アルキルチオアルキルエステル(例
えばメチルチオメチルエステル、エチルチオメチルエス
テル、エチルチオエチルエステル、イソプロピルチオメ
チルエステル等);モノ(またはジまたはトリ)ハロ
(低級)アルキルエステル(例えば2−ヨ−ドエチルエ
ステル、2,2,2−トリクロロエチルエステル等);
低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル(例
えばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシメ
チルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリ
ルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエス
テル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、1または2
−アセトキシエチルエステル、2−プロピオニルオキシ
エチルエステル等);低級アルキルスルホニル(低級)
アルキルエステル(例えばメシルメチルエステル、2−
メシルエチルエステル、等);アル(低級)アルキルエ
ステル、例えば適当な置換基1個以上を有していてもよ
いフェニル(低級)アルキルエステル(例えばベンジル
エステル、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロ
ベンジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエス
テル、ベンズヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニ
ル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベンジルエス
テル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジ
ルエステル等);複素環オキシカルボニルオキシ(低
級)アルキルエステル[例えば1または2−(テトラヒ
ドロピラン−4−イルオキシカルボニルオキシ)エチル
エステル等];適当な置換基1個以上を有していてもよ
いアリ−ルエステル,例えば置換されたまたは非置換フ
ェニルエステル(例えばフェニルエステル、トリルエス
テル、t−ブチルフェニルエステル、キシリルエステ
ル、メシチルエステル、クメニルエステル、4−クロロ
フェニルエステル、4−メトキシフェニルエステル
等);シクロ(低級)アルキルカルボニルオキシ(低
級)アルキルエステル(例えば、シクロヘキシルカルボ
ニルオキシメチルエステル等);低級アルキルチオエス
テル(例えばメチルチオエステル、エチルチオエステル
等)等を挙げることができる。
Suitable "protected carboxy group" includes esterified carboxy group and the like. Preferable examples of the ester include lower alkyl ester (eg, methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, t-butyl ester, pentyl ester, t-pentyl ester, hexyl ester, etc.). ;
Lower alkenyl ester (eg vinyl ester, allyl ester etc.); Lower alkynyl ester (eg ethynyl ester, propynyl ester etc.); Lower alkoxyalkyl ester (eg methoxymethyl ester,
Ethoxymethyl ester, isopropoxymethyl ester, 1-methoxyethyl ester, 1-ethoxyethyl ester and the like); lower alkylthioalkyl ester (for example, methylthiomethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioethyl ester, isopropylthiomethyl ester and the like); Mono (or di or tri) halo (lower) alkyl ester (eg 2-iodoethyl ester, 2,2,2-trichloroethyl ester etc.);
Lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester (eg acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1 or 2
-Acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, etc.); lower alkylsulfonyl (lower)
Alkyl ester (eg mesyl methyl ester, 2-
Mesylethyl ester, etc.); ar (lower) alkyl ester, eg phenyl (lower) alkyl ester optionally having one or more suitable substituents (eg benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl Ester, phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis (methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-di-t-butylbenzyl ester, etc.); heterocyclic oxycarbonyl Oxy (lower) alkyl ester [eg 1 or 2- (tetrahydropyran-4-yloxycarbonyloxy) ethyl ester etc.]; aryl ester optionally having one or more suitable substituents, eg substituted Or unsubstituted phenyl ester (eg For example, phenyl ester, tolyl ester, t-butylphenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, 4-chlorophenyl ester, 4-methoxyphenyl ester, etc.); cyclo (lower) alkylcarbonyloxy (lower) alkyl ester ( For example, cyclohexylcarbonyloxymethyl ester, etc.); lower alkyl thioesters (eg, methyl thioester, ethyl thioester, etc.) and the like can be mentioned.

【0022】好適な「1,2,3−チアジアゾリル」と
しては1,2,3−チアジアゾール−5−イル、1,
2,3−チアジアゾール−4−イル等を挙げることがで
きる。好適な「テトラゾロピリダジニル」としては,テ
トラゾロ[1,5−b]ピリダジン−7−イル、テトラ
ゾロ[1,5−b]ピリダジン−6−イル等を挙げるこ
とができる。
Suitable "1,2,3-thiadiazolyl" is 1,2,3-thiadiazol-5-yl, 1,
2,3-thiadiazol-4-yl etc. can be mentioned. Suitable "tetrazolopyridazinyl" may include tetrazolo [1,5-b] pyridazin-7-yl, tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl and the like.

【0023】好適な「トリアゾリル」としては,1,
2,3−トリアゾリル,1,2,5−トリアゾリル,
1,2,4−トリアゾリル,1,3,4−トリアゾリル
等を挙げることができる。
Suitable "triazolyl" includes:
2,3-triazolyl, 1,2,5-triazolyl,
1,2,4-triazolyl, 1,3,4-triazolyl and the like can be mentioned.

【0024】好適な「酸残基」としては,ハロゲン(例
えば塩素、臭素、沃素等)、スルホニルオキシ[例えば
トシルオキシ、低級アルキルスルホニルオキシ(例えば
メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ等)
等]等を挙げることができる。
Suitable "acid residue" is halogen (eg chlorine, bromine, iodine etc.), sulfonyloxy [eg tosyloxy, lower alkylsulfonyloxy (eg methylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy etc.).
Etc.] etc. can be mentioned.

【0025】好適な「ヒドロキシ保護基」としては,前
記のものと同じものを挙げることができる。
Suitable "hydroxy protecting group" may be the same as those mentioned above.

【0026】好適な「エステル化されたカルボキシ基」
としては,前記のものと同じものを挙げることができ
る。本発明の目的化合物および原料化合物の製造法を次
に詳細に説明する。
Suitable "esterified carboxy group"
Can be the same as those mentioned above. The method for producing the target compound and the starting compound of the present invention will be described in detail below.

【0027】製造法1 目的化合物(I) またはその塩は、化合物(IIa)
またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩
を化合物(III)またはカルボキシ基におけるその反
応性誘導体またはその塩と反応させることによって製造
することができる。化合物(IIa)のアミノ基におけ
る好適な反応誘導体としては、化合物(IIa) とア
ルデヒド、ケトン等のようなカルボニル化合物との反応
によって生成するシッフ塩基型のイミノ化合物またはそ
の互変異性エナミン型の異性体、化合物(IIa) と
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、モノ(トリメ
チルシリル)アセトアミド[例えばN−(トリメチルシ
リル)アセトアミド]、ビス(トリメチルシリル)尿素
等のようなシリル化合物との反応によって生成するシリ
ル誘導体;化合物(IIa) と三塩化燐またはホスゲ
ンとの反応によって生成する誘導体その他を挙げること
ができる。
Production Method 1 The object compound (I) or its salt is the compound (IIa)
Alternatively, it can be produced by reacting the reactive derivative at the amino group or a salt thereof with compound (III) or the reactive derivative at the carboxy group or a salt thereof. Suitable reaction derivatives at the amino group of compound (IIa) include Schiff base type imino compounds formed by the reaction of compound (IIa) with carbonyl compounds such as aldehydes and ketones, or tautomeric enamine type isomers thereof. Compound, a silyl derivative formed by the reaction of a compound (IIa) with a silyl compound such as bis (trimethylsilyl) acetamide, mono (trimethylsilyl) acetamide [eg, N- (trimethylsilyl) acetamide], bis (trimethylsilyl) urea, etc .; Mention may be made of derivatives and the like formed by the reaction of IIa) with phosphorus trichloride or phosgene.

【0028】化合物(III) のカルボキシ基におけ
る反応性誘導体の好適な例としては、酸ハロゲン化物、
酸無水物、活性アミド、活性エステル等を挙げることが
できる。その好適な例としては、酸塩化物;酸アジド;
置換燐酸(例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフ
ェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等)、ジ
アルキル亜燐酸、低級アルカンスルホン酸(例えばメタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸等)、亜硫酸、チオ硫
酸、硫酸、脂肪族カルボン酸(例えば、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバル酸、吉草酸、イソ吉草
酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸等)または芳香族
カルボン酸(例えば安息香酸等)等の酸との混合酸無水
物;対称酸無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾー
ル、ジメチルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾ
ールとの活性アミド;または活性エステル(例えばシア
ノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチル
イミノメチル[(CH =CH−]エス
テル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニ
トロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニトロ
フェニルチオエステル、p−クレシルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリ
ジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオ
エステル等)またはN−ヒドロキシ化合物(例えばN,
N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2
−(1H)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミ
ド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−1
H−ベンゾトリアゾール等)とのエステル等を挙げるこ
とができる。これらの反応性誘導体は、使用すべき化合
物(III)の種類によって、これらの中から適宜選択
することができる。反応は、通常、水、アルコール(例
えばメタノール、エタノール等)、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N
−ジメチルホルムアミド、ピリジン等の慣用の溶媒また
は反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒
中で行われる。これらの慣用の溶媒は水と混合して用い
てもよい。
Suitable examples of the reactive derivative at the carboxy group of the compound (III) include acid halides,
An acid anhydride, an active amide, an active ester, etc. can be mentioned. Suitable examples thereof include acid chlorides; acid azides;
Substituted phosphoric acid (eg, dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, etc.), dialkyl phosphorous acid, lower alkanesulfonic acid (eg, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, etc.), sulfurous acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid, fat With an acid such as a group carboxylic acid (for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, pivalic acid, valeric acid, isovaleric acid, 2-ethylbutyric acid, trichloroacetic acid) or an aromatic carboxylic acid (for example, benzoic acid) Mixed anhydrides; symmetrical anhydrides; active amides with imidazole, 4-substituted imidazole, dimethylpyrazole, triazole or tetrazole; or active esters (eg cyanomethyl ester, methoxymethyl ester, dimethyliminomethyl [(CH 3 )) 2 N + = CH-] ester, vinyl ester Propargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenylthioester, p-cresylthioester, carboxy Methyl thioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl thioester etc.) or N-hydroxy compound (eg N,
N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2
-(1H) -pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-1
H-benzotriazole etc.) and the like. These reactive derivatives can be appropriately selected from these depending on the type of compound (III) to be used. The reaction is usually water, alcohol (eg methanol, ethanol etc.), acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N.
-In a conventional solvent such as dimethylformamide, pyridine or any other organic solvent that does not adversely influence the reaction. These conventional solvents may be used as a mixture with water.

【0029】化合物(III)を遊離酸またはその塩の
形でこの反応に使用する場合、反応は、慣用の縮合剤、
例えばN,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド;N
−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジイ
ミド;N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルアミ
ノシクロヘキシル)カルボジイミド;N,N′−ジエチ
ルカルボジイミド、N,N′−ジイソプロピルカルボジ
イミド;N−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロ
ピル)カルボジイミド;N,N′−カルボニルビス−
(2−メチルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−
N−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シ
クロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコ
キシ−1−クロロエチレン;トリアルキルホスファイ
ト;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩
化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;塩化チオニル;塩
化オキサリル;ハロギ酸低級アルキル(例えばクロロギ
酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等);トリフェニル
ホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオ
キサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニ
ル)イソオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩;1−
(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ
−1H−ベンゾトリアゾール;N,N−ジメチルホルム
アミドと塩化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化燐等と反
応させて調整されるいわゆるビルスマイヤー試薬のよう
な慣用の縮合剤の存在下に行うことが望ましい。反応
は、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)アルキルア
ミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホリン、
N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の無機ま
たは有機塩基の存在下で行うこともできる。反応温度は
特に限定されず、通常、冷却下ないし加温下で行われ
る。
When the compound (III) is used in this reaction in the form of a free acid or a salt thereof, the reaction is a conventional condensing agent,
For example, N, N'-dicyclohexylcarbodiimide; N
-Cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide; N-cyclohexyl-N '-(4-diethylaminocyclohexyl) carbodiimide; N, N'-diethylcarbodiimide, N, N'-diisopropylcarbodiimide;N-ethyl-N'-(3 -Dimethylaminopropyl) carbodiimide; N, N'-carbonylbis-
(2-methylimidazole); pentamethylene ketene-
N-cyclohexylimine; diphenylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene; 1-alkoxy-1-chloroethylene; trialkylphosphite; ethyl polyphosphate; isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); phosphorus trichloride; Thionyl chloride; oxalyl chloride; lower alkyl haloformates (eg ethyl chloroformate, isopropyl chloroformate, etc.); triphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt; 2-ethyl-5- (m-sulfo Phenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1-
(P-Chlorobenzenesulfonyloxy) -6-chloro-1H-benzotriazole; conventional condensation such as so-called Vilsmeier reagent prepared by reacting N, N-dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride and the like. It is desirable to carry out in the presence of the agent. The reaction includes alkali metal hydrogen carbonate, tri (lower) alkylamine, pyridine, N- (lower) alkylmorpholine,
It can also be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as N, N-di (lower) alkylbenzylamine. The reaction temperature is not particularly limited and is usually under cooling or heating.

【0030】製造法2 目的化合物(Ib)またはその塩は、化合物(Ia)ま
たはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造することができる。この反応は加水分解、還
元等の常法により行われる。加水分解は塩基または酸
(ルイス酸も含む)の存在下で行うことが望ましい。好
適な塩基としては、アルカリ金属(例えばナトリウム、
カリウム等)、アルカリ土類金属(例えばマグネシウ
ム、カルシウム等)、これらの水酸化物または炭酸塩ま
たは炭酸水素塩、トリアルキルアミン(例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン等)、ピコリン、1,5−
ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、1,4
−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−ウンデク−7等の無機塩
基または有機塩基を挙げることができる。
Production Method 2 The object compound (Ib) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (Ia) or a salt thereof to a elimination reaction of a hydroxy protecting group. This reaction is carried out by a conventional method such as hydrolysis or reduction. The hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid (including a Lewis acid). Suitable bases include alkali metals (eg sodium,
Potassium, etc.), alkaline earth metals (eg magnesium, calcium etc.), hydroxides or carbonates or hydrogen carbonates thereof, trialkylamines (eg trimethylamine, triethylamine etc.), picoline, 1,5-
Diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4
There may be mentioned inorganic bases or organic bases such as -diazabicyclo [2.2.2] octane and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undec-7.

【0031】好適な酸としては、有機酸(例えばギ酸、
酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢
酸、p−トルエンスルホン酸等)および無機酸(例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素、塩化ア
ンモニウム等)を挙げることができる。トリハロ酢酸
(例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)等のル
イス酸を用いる脱離反応はカチオン捕捉剤(例えばアニ
ソール、フェノール等)の存在下に行うことが望まし
い。反応は通常、水、アルコ−ル(例えばメタノ−ル、
エタノ−ル等)、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、
これらの混合物のような溶媒中または反応に悪影響を及
ぼさないその他のあらゆる溶媒中で行われる。液状塩基
あるいは酸も溶媒として用いることができる。反応温度
は特に限定されず、反応は通常冷却ないし加温下で行わ
れる。脱離反応に用いることのできる還元法としては、
化学還元および接触還元を挙げることができる。化学還
元に用いる好適な還元剤としては、金属(例えば錫、亜
鉛、鉄等)または金属化合物(例えば塩化クロム、酢酸
クロム等)と有機酸あるいは無機酸(例えばギ酸、酢
酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンス
ルホン酸、塩酸、臭化水素酸等)の組み合わせを挙げる
ことができる。接触還元に使用される好適な触媒として
は、白金触媒(例えば白金板、白金海綿、白金黒、コロ
イド白金、酸化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例
えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、
パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−
硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケ
ル触媒(例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネ−ニ
ッケル等)、コバルト触媒(例えば還元コバルト、ラネ
−コバルト等)、鉄触媒(例えば還元鉄、ラネ−鉄
等)、銅触媒(例えば還元銅、ラネ−銅、ウルマン銅
等)等を挙げることができる。還元は通常、反応に悪影
響を及ぼさない慣用の溶媒、例えば水、メタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、またはそれらの混合物等の溶媒中で行われる。ま
た、化学還元に用いる前記酸が液状の場合、これらは溶
媒として使用することもできる。触媒還元に用いる好適
な溶媒としては、前記溶媒、その他の慣用の溶媒、例え
ばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
等あるいはそれらの混合物を挙げることができる。還元
の反応温度は特に限定されないが、通常、冷却ないし加
温下に反応が行われる。
Suitable acids include organic acids such as formic acid,
Examples thereof include acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.) and inorganic acids (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, ammonium chloride, etc.). The elimination reaction using a Lewis acid such as trihaloacetic acid (eg, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.) is preferably carried out in the presence of a cation scavenger (eg, anisole, phenol, etc.). The reaction is usually water, alcohol (for example, methanol,
Ethanol, etc.), tetrahydrofuran, methylene chloride,
It is carried out in a solvent such as these mixtures or in any other solvent that does not adversely influence the reaction. A liquid base or acid can also be used as a solvent. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually performed under cooling or heating. Examples of the reduction method that can be used in the elimination reaction include:
Mention may be made of chemical reduction and catalytic reduction. Suitable reducing agents used for chemical reduction include metals (eg tin, zinc, iron etc.) or metal compounds (eg chromium chloride, chromium acetate etc.) and organic or inorganic acids (eg formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoro). A combination of acetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, etc.). Suitable catalysts used for catalytic reduction include platinum catalysts (eg platinum plate, platinum sponge, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wire, etc.), palladium catalysts (eg palladium sponge, palladium black, palladium oxide,
Palladium-carbon, colloidal palladium, palladium-
Barium sulfate, palladium-barium carbonate, etc.), nickel catalyst (eg reduced nickel, nickel oxide, Raney-nickel etc.), cobalt catalyst (eg reduced cobalt, Raney-cobalt etc.), iron catalyst (eg reduced iron, Raney-iron etc.) ), A copper catalyst (for example, reduced copper, Raney copper, Ullmann copper, etc.) and the like. The reduction is usually carried out in a conventional solvent which does not adversely influence the reaction, such as water, methanol, ethanol, propanol, N, N-dimethylformamide, or a mixture thereof. Further, when the acid used for chemical reduction is liquid, these can be used as a solvent. Suitable solvents for the catalytic reduction include the above-mentioned solvents and other conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran and the like or a mixture thereof. The reaction temperature for reduction is not particularly limited, but the reaction is usually performed under cooling or heating.

【0032】製造法3 目的化合物(Id)またはその塩は、化合物(Ic)ま
たはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造することができる。この反応は、製造法2で
示す方法またはこれと同様の方法で行うことができる。
Production Method 3 The object compound (Id) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (Ic) or a salt thereof to a reaction for eliminating a carboxy-protecting group. This reaction can be carried out by the method shown in Production method 2 or a method similar thereto.

【0033】製造法4 化合物(Ie)またはその塩は、化合物(Id)または
その塩をエステル化反応に付すことにより製造すること
ができる。この反応に使用されるエステル化剤として
は、アルコールまたはその反応性等価物(例えば、ヨウ
化物等のハロゲン化物、スルホン酸エステル、硫酸エス
テル、ジアゾ化合物等)のような慣用のものが挙げられ
る。反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アルコー
ル、塩化エチレン、n−ヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルアルミドのよう
な慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他の
溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず、通常冷
却下ないし加温下の範囲で反応は行われる。
Production Method 4 Compound (Ie) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (Id) or a salt thereof to an esterification reaction. Examples of the esterifying agent used in this reaction include conventional ones such as alcohol or its reactive equivalent (for example, halide such as iodide, sulfonic acid ester, sulfuric acid ester, diazo compound, etc.). The reaction is usually carried out in a conventional solvent such as acetone, dioxane, alcohol, ethylene chloride, n-hexane, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformalide or other solvent which does not adversely influence the reaction. Be seen. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually performed in the range of cooling or heating.

【0034】製造法5 目的化合物(Ig)またはその塩は、化合物(If)ま
たはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造することができる。この反応は、通常加水分解、
還元等の常法によって行われる。加水分解および還元の
方法、ならびに例えば反応温度、溶媒等の反応条件は、
製造法2における化合物(Ia)のヒドロキシ保護基の
脱離反応で述べたものと実質的に同じであるので、その
説明を援用できる。
Production Method 5 The object compound (Ig) or a salt thereof can be produced by subjecting the compound (If) or a salt thereof to an elimination reaction of an amino-protecting group. This reaction usually involves hydrolysis,
It is carried out by a conventional method such as reduction. The method of hydrolysis and reduction, and the reaction conditions such as reaction temperature and solvent are
Since it is substantially the same as the one described in the elimination reaction of the hydroxy protecting group of compound (Ia) in production method 2, its explanation can be incorporated.

【0035】製造法A 化合物(II)またはその塩は、化合物(IV)または
その塩を化合物(V)またはその塩と反応させることに
よって製造することができる。この反応は下記製造例で
示す方法またはこれと同様の方法で行うことができる。
Production Method A Compound (II) or a salt thereof can be produced by reacting compound (IV) or a salt thereof with compound (V) or a salt thereof. This reaction can be carried out by the method shown in the following Production Example or a method similar thereto.

【0036】製造法B 化合物(IIa)またはその塩は、化合物(IIb)ま
たはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことによっ
て製造することができる。この反応は下記製造例で示す
方法またはこれと同様の方法で行うことができる。製造
法1−5およびA−Bにおける目的化合物および原料化
合物およびそれらの反応性誘導体の好適な塩としては、
化合物(I)で説明したものを参照することができる。
Production Method B Compound (IIa) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (IIb) or a salt thereof to an elimination reaction of an amino-protecting group. This reaction can be carried out by the method shown in the following Production Example or a method similar thereto. Suitable salts of the target compound and the starting compound and their reactive derivatives in the production methods 1-5 and AB include:
Reference can be made to those described for compound (I).

【0037】目的化合物(I)および医薬として許容さ
れるその塩は新規であり、かつ高い抗菌活性を有してグ
ラム陽性ならびにグラム陰性菌を含む広範囲の病原菌の
成育を阻止し、抗菌剤として有用である。
The object compound (I) and its pharmaceutically acceptable salts are novel and have high antibacterial activity and inhibit the growth of a wide range of pathogenic bacteria including Gram-positive and Gram-negative bacteria and are useful as antibacterial agents. Is.

【0038】ここに目的化合物(I)の有用性を示すた
めに、化合物(I)に属する代表的化合物のMIC(最
小発育阻止濃度)についての試験結果を以下に示す。試験法 :試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法に
より測定した。各試験菌株をトリプトケ−ス−ソイ−ブ
ロス中一夜培養してその1白金耳(生菌数108 個/
ml)を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むハ−ト
インフュ−ジョン寒天(HI−寒天)に接種し、37
℃、20時間インキュベ−トした 後、最小発育阻止濃
度(MIC)をμg/mlで表した。試験化合物 7β−[2−(2−アミノチアゾ−ル−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−
[(E)−2−[(1,2,3−チアジアゾール−5−
イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)試験結果 MIC(μg/ml)
In order to show the usefulness of the target compound (I), the test results for MIC (minimum inhibitory concentration) of representative compounds belonging to the compound (I) are shown below. Test method : In vitro antibacterial activity was measured by the following agar plate multiple dilution method. Each test strain was cultured overnight in tryptocase-soy-broth to give 1 platinum loop (10 8 viable cells /
ml) was inoculated on Heart Infusion Agar (HI-Agar) containing representative test compounds at each concentration step, 37
After incubating at 20 ° C. for 20 hours, the minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed in μg / ml. Test compound 7β- [2- (2-aminothiazol-4-
Il) -2-Methoxyiminoacetamide] -3-
[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazole-5-
Yiel] thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) test results MIC (μg / ml)

【表1】 [Table 1]

【0039】治療用として投与するために、この発明の
目的化合物(I)および医薬として許容されるその塩
は、経口投与、非経口投与および外用投与に適した有機
もしくは無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬と
して許容される担体と混合して、前記化合物を有効成分
として含有する常用の医薬製剤の形で使用される。医薬
製剤は錠剤、顆粒剤、粉末剤、カプセル剤のような固体
の形、または溶液、懸濁液、シロップ、エマルジョン、
レモネードなどのような液体の形とすればよい。必要に
応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤およびその
他、乳糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステアリ
ン酸マグネシウム、白陶土、ショ糖、コーンスターチ、
タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリー
ブ油、カカオバター、エチレングリコールなどの通常使
用される添加剤が含まれていてもよい。
For administration therapeutically, the object compound (I) of the present invention and pharmaceutically acceptable salts thereof are organic or inorganic solid or liquid forms suitable for oral, parenteral and topical administration. It is used in the form of a conventional pharmaceutical preparation containing the compound as an active ingredient in admixture with a pharmaceutically acceptable carrier such as an agent. Pharmaceutical formulations include solid forms such as tablets, granules, powders, capsules, or solutions, suspensions, syrups, emulsions,
It may be in the form of liquid such as lemonade. Auxiliary agents, stabilizers, wetting agents and others in the above-mentioned preparations as needed, lactose, citric acid, tartaric acid, stearic acid, magnesium stearate, white clay, sucrose, corn starch,
Additives commonly used such as talc, gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol and the like may be included.

【0040】化合物(I)の投与量は、患者の年齢、条
件、疾患の種類、使用する化合物(I)の種類などによ
って変化する。一般的には1日あたり1mg〜約4,0
00mgの範囲もしくはそれ以上を患者に投与すればよ
い。この発明の目的化合物(I)は平均1回投与量約5
0mg、100mg、250mg、500mg、100
0mgを病原菌感染症治療に使用すればよい。以下、実
施例に従ってこの発明をさらに詳細に説明する。
The dose of the compound (I) varies depending on the patient's age, condition, type of disease, type of compound (I) used, and the like. Generally 1 mg to about 4,0 per day
The range of 00 mg or more may be administered to the patient. The object compound (I) of the present invention is an average single dose of about 5
0 mg, 100 mg, 250 mg, 500 mg, 100
0 mg may be used to treat pathogenic infections. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

【0041】製造例1.7β−t−ブトキシカルボニル
アミノ−3−[(E)−2−(トシルオキシ)ビニル]
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(2
0,0g)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(12
0ml)溶液を5℃まで冷却する。この溶液にナトリウ
ム=1,2,3−チアジアゾール−5−チオラート
(6.35g)を加え、5℃に保ったまま、2.5時間
攪拌する。反応混合物を、酢酸エチル(1000ml)
と水(1000ml)の混液中に注ぐ。有機層を分取
し、水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
させ、溶媒を減圧下で留去する。生成した結晶を酢酸エ
チル−n−ヘキサンの混液(2:1)で洗浄し、濾取し
て、7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−
[(E)−2−[(1,2,3−チアジアゾール−5−
イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルを得る。 IR(Nujol,cm−1): 3300, 178
0, 1690, 1510 NMR(DMSO−d)δ: 1.42(9H,
s), 3.68および4.04(2H,ABq,J=
18Hz), 5.18(1H,d,J=5Hz),
5.59(1H,d,J=5.9Hz), 6.95
(1H,s), 7.02(1H,d,J=15H
z), 7.19(1H,d,J=15Hz), 7.
2−7.6(10H,m), 8.11(1H,d,J
=9Hz), 9.03(1H,s)
Production Example 1 7β-t-Butoxycarbonylamino-3-[(E) -2- (tosyloxy) vinyl]
-3-Cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (2
0.0 g) of N, N-dimethylformamide solution (12
0 ml) solution is cooled to 5 ° C. Sodium = 1,2,3-thiadiazole-5-thiolate (6.35 g) is added to this solution, and the mixture is stirred for 2.5 hours while being kept at 5 ° C. The reaction mixture was mixed with ethyl acetate (1000 ml)
Pour into a mixture of water and water (1000 ml). The organic layer is separated, washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated under reduced pressure. The formed crystals were washed with a mixed solution of ethyl acetate-n-hexane (2: 1), collected by filtration, and 7β-t-butoxycarbonylamino-3-.
[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazole-5-
Yil) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl is obtained. IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 178
0, 1690, 1510 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.42 (9H,
s), 3.68 and 4.04 (2H, ABq, J =
18Hz), 5.18 (1H, d, J = 5Hz),
5.59 (1H, d, J = 5.9Hz), 6.95
(1H, s), 7.02 (1H, d, J = 15H
z), 7.19 (1H, d, J = 15 Hz), 7.
2-7.6 (10H, m), 8.11 (1H, d, J
= 9 Hz), 9.03 (1H, s)

【0042】製造例2 製造例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(Z)−
2−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チ
オ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチル。 IR(Nujol,cm−1): 3300, 178
0, 1710, 1500 NMR(DMSO−d)δ: 1.41(9H,
s), 3.76(2H,s), 5.19(1H,
d,J=5Hz), 5.61(1H,dd,J=5.
9Hz), 6.64(1H,d,J=10Hz),
6.77(1H,d,J=10Hz), 6.89(1
H,s), 7.2−7.5(10H,m),8.09
(1H,d,J=9Hz), 8.87(1H,s)
Production Example 2 The following compound was obtained in the same manner as in Production Example 1. 7β-t-butoxycarbonylamino-3-[(Z)-
2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl. IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 178
0, 1710, 1500 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.41 (9H,
s), 3.76 (2H, s), 5.19 (1H,
d, J = 5 Hz), 5.61 (1H, dd, J = 5.
9Hz), 6.64 (1H, d, J = 10Hz),
6.77 (1H, d, J = 10 Hz), 6.89 (1
H, s), 7.2-7.5 (10H, m), 8.09.
(1H, d, J = 9Hz), 8.87 (1H, s)

【0043】製造例3 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−
2−(トシルオキシ)ビニル]−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチル(3.31g)とN,N−ジ
メチルホルムアミド(16.6ml)の溶液に6−メル
カプトテトラゾロ[1,5−b]ピリダジン(847m
g)とN,N−ジイソプロピルエチルアミン(0.87
ml)を5℃で加える。混合物を5℃で3時間攪拌した
後、一晩放置する。反応混合物を、酢酸エチル(200
ml)と氷水(200ml)の混液中に注ぐ。有機層を
分取し、希食塩水(2回)で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残渣に酢酸エチル
−n−ヘキサンの混液(1:1)を加え、結晶状物質を
濾取して、7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−
[(E)−2−[(テトラゾロ[1,5−b]ピリダジ
ン−6−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチル(580mg)を得る。濾液
の溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸エチルに溶解
し、nヘキサンで粉砕して、同じ化合物(2.28g)
を得る。 IR(Nujol,cm−1): 1770, 170
0, 1500 NMR(DMSO−d)δ: 1.42(9H,
s), 3.78および4.11(2H,ABq,J=
18Hz), 5.22(1H,d,J=5Hz),
5.62(1H,dd,J=5.9Hz), 6.99
(1H,s), 7.11(1H,d,J=16H
z), 7.3−7.5(1H,m), 7.88(1
H,d,J=10Hz), 8.13(1H,d,J=
9Hz), 8.70(1H,d,J=10Hz)
Production Example 3 7β-t-Butoxycarbonylamino-3-[(E)-
2- (Tosyloxy) vinyl] -3-cephem-4-carboxylate Diphenylmethyl (3.31 g) and N, N-dimethylformamide (16.6 ml) in a solution of 6-mercaptotetrazolo [1,5-b]. Pyridazine (847m
g) and N, N-diisopropylethylamine (0.87)
ml) at 5 ° C. The mixture is stirred at 5 ° C. for 3 hours and then left overnight. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate (200
(ml) and ice water (200 ml). The organic layer is separated, washed with diluted saline (twice), dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. A mixed solution of ethyl acetate-n-hexane (1: 1) was added to the residue, and the crystalline substance was collected by filtration to give 7β-t-butoxycarbonylamino-3-.
[(E) -2-[(tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (580 mg) is obtained. The solvent of the filtrate is distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate and triturated with n-hexane to give the same compound (2.28g)
To get IR (Nujol, cm -1 ): 1770, 170
0, 1500 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.42 (9H,
s), 3.78 and 4.11 (2H, ABq, J =
18Hz), 5.22 (1H, d, J = 5Hz),
5.62 (1H, dd, J = 5.9Hz), 6.99
(1H, s), 7.11 (1H, d, J = 16H
z), 7.3-7.5 (1H, m), 7.88 (1
H, d, J = 10 Hz), 8.13 (1H, d, J =
9Hz), 8.70 (1H, d, J = 10Hz)

【0044】製造例4 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−
2−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チ
オ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチル(10.0g)のアセトニトリル(100m
l)の混合物溶液にp−トルエンスルホン酸・一水和物
(6.24g)を加え、40℃で2.5時間攪拌する。
反応混合物を酢酸エチル(150ml)と水(150m
l)の混液に注ぐ。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でp
H7に調整する。有機層を分取し、水及び食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去す
る。残渣に酢酸エチル−n−ヘキサンの混液(2:1)
を加え、結晶化合物を濾取して、7β−アミノ−3−
[(E)−2−(1,2,3−チアジアゾール−5−イ
ル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチル(4.44g)を得る。 IR(Nujol,cm−1): 1760, 173
0, 1600 NMR(DMSO−d)δ: 2.41(2H,
s), 3.64および4.004(2H,ABq,J
=18Hz), 4.09(1H,d,J=5Hz),
5.10(1H,d,J=5Hz), 6.96(1
H,d,J=15Hz), 6.95(1H,s),
7.12(1H,d,J=15Hz), 7.2−7.
6(10H,m), 9.01(1H,s)
Production Example 4 7β-t-Butoxycarbonylamino-3-[(E)-
2-[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (10.0 g) in acetonitrile (100 m
p-Toluenesulfonic acid monohydrate (6.24 g) is added to the mixed solution of l), and the mixture is stirred at 40 ° C. for 2.5 hours.
The reaction mixture was mixed with ethyl acetate (150 ml) and water (150 m).
Pour into the mixture of l). P with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution
Adjust to H7. The organic layer is separated, washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. Ethyl acetate-n-hexane mixed solution (2: 1)
Was added, the crystalline compound was collected by filtration, and 7β-amino-3-
There is obtained [(E) -2- (1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (4.44 g). IR (Nujol, cm −1 ): 1760, 173
0, 1600 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.41 (2H,
s), 3.64 and 4.004 (2H, ABq, J
= 18 Hz), 4.09 (1H, d, J = 5 Hz),
5.10 (1H, d, J = 5Hz), 6.96 (1
H, d, J = 15 Hz), 6.95 (1 H, s),
7.12 (1H, d, J = 15Hz), 7.2-7.
6 (10H, m), 9.01 (1H, s)

【0045】製造例5−(1) 製造例4と同様にして下記化合物を得る。 7β−アミノ−3−[(Z)−2−[(1,2,3−チ
アジアゾール−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチル IR(Nujol,cm−1): 1755, 172
0, 1600 NMR(DMSO−d)δ: 2.37(2H,
s), 3.73(2H,s), 4.92(1H,d
−like), 5.11(1H,d,J=5Hz),
6.59(1H,d,J=10Hz), 6.72
(1H,d,J=10Hz), 6.89(1H,
s), 7.2−7.5(10H,m), 8.86
(1H,s)
Production Example 5- (1) In the same manner as in Production Example 4, the following compound is obtained. 7β-Amino-3-[(Z) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl IR (Nujol, cm −1 ). : 1755, 172
0, 1600 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.37 (2H,
s), 3.73 (2H, s), 4.92 (1H, d
-Like), 5.11 (1H, d, J = 5Hz),
6.59 (1H, d, J = 10 Hz), 6.72
(1H, d, J = 10 Hz), 6.89 (1H,
s), 7.2-7.5 (10H, m), 8.86
(1H, s)

【0046】製造例5−(2) 製造例4と同様にして下記化合物を得る。 7β−アミノ−3−[(E)−2−[(テトラゾロ
[1,5−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル]
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルIR
(Nujol,cm−1): 1770, 1705 NMR(DMSO−d)δ: 2.59(2H,br
s), 3.74および4.10(2H,ABq,J
=18Hz), 4.92(1H,d,J=5Hz),
5.13(1H,d,J=5Hz), 6.98(1
H,s), 7.04(1H,d,J=16Hz),
7.2−7.5(11H,m), 7.87(1H,
d,J=10Hz),8.69(1H,d,J=10H
z)
Production Example 5- (2) In the same manner as in Production Example 4, the following compound is obtained. 7β-amino-3-[(E) -2-[(tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl) thio] vinyl]
-3-Cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl IR
(Nujol, cm −1 ): 1770, 1705 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.59 (2H, br)
s), 3.74 and 4.10 (2H, ABq, J
= 18 Hz), 4.92 (1H, d, J = 5 Hz),
5.13 (1H, d, J = 5Hz), 6.98 (1
H, s), 7.04 (1H, d, J = 16Hz),
7.2-7.5 (11H, m), 7.87 (1H,
d, J = 10 Hz), 8.69 (1H, d, J = 10H)
z)

【0047】製造例6 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−
2−[(テトラゾロ[1,5−b]ピリダジン−6−イ
ル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチル(12.9g)の塩化メチレン(65m
l)中けん濁液に、アニソール(13ml)を加える。
混合物を5℃まで冷却した後、トリフルオロ酢酸(26
ml)を加える。混合物を5℃で、2.5時間攪拌す
る。反応混合物の溶媒を減圧下に留去し、残渣をジイソ
プロピルエーテルで粉砕する。析出物を濾取し、乾燥し
て、7β−アミノ−3−[(E)−2−[(テトラゾロ
[1,5−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル]
−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩
(10.1g)を得る。 NMR(DMSO−d)δ: 3.80および4.0
9(2H,ABq,J=17Hz), 5.02(1
H,d,5Hz), 5.18(1H,d,J=5H
z), 7.34(2H,s), 7.89(1H,
d,J=10Hz),8.70(1H,d,J=10H
z)
Production Example 6 7β-t-Butoxycarbonylamino-3-[(E)-
2-[(Tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (12.9 g) in methylene chloride (65 m
l) Add anisole (13 ml) to the suspension.
After cooling the mixture to 5 ° C., trifluoroacetic acid (26
ml) is added. The mixture is stirred at 5 ° C. for 2.5 hours. The solvent of the reaction mixture is distilled off under reduced pressure and the residue is triturated with diisopropyl ether. The precipitate was collected by filtration, dried, and 7β-amino-3-[(E) -2-[(tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl) thio] vinyl].
-3-Cephem-4-carboxylic acid / trifluoroacetic acid salt (10.1 g) is obtained. NMR (DMSO-d 6) δ : 3.80 and 4.0
9 (2H, ABq, J = 17Hz), 5.02 (1
H, d, 5Hz), 5.18 (1H, d, J = 5H
z), 7.34 (2H, s), 7.89 (1H,
d, J = 10 Hz), 8.70 (1H, d, J = 10H
z)

【0048】製造例7 製造例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−
2−[(1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル)チオ]
ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チル。 IR(Nujol,cm−1): 1780, 170
0, 1500 NMR(DMSO−d): δ 1.41(9H,
s), 3.64 および3.87 (2H,ABq,
J=17.0Hz),5.14(1H,d,J=4.
7Hs),5.49(1H,dd, J=9.0 an
d4.7Hx),6.86(1H,d,J=15,6H
x) 6.81(1H,s),7.11(1H,d,J
=15.6Hz),7.2−7.5(10H,m),
8.05(1H,d,J=9.0Hx),8.18(1
H,hrs)
Production Example 7 In the same manner as in Production Example 1, the following compound is obtained. 7β-t-butoxycarbonylamino-3-[(E)-
2-[(1,2,3-triazol-4-yl) thio]
Vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl. IR (Nujol, cm −1 ): 1780, 170
0, 1500 NMR (DMSO-d 6 ): δ 1.41 (9H,
s), 3.64 and 3.87 (2H, ABq,
J = 17.0 Hz), 5.14 (1H, d, J = 4.
7Hs), 5.49 (1H, dd, J = 9.0 an
d4.7Hx), 6.86 (1H, d, J = 15,6H
x) 6.81 (1H, s), 7.11 (1H, d, J
= 15.6 Hz), 7.2-7.5 (10H, m),
8.05 (1H, d, J = 9.0Hx), 8.18 (1
H, hrs)

【0049】製造例8 製造例6と同様にして下記化合物を得る。 7β−アミノ−3−[(E)−2−[(1,2,3−ト
リアゾ−ル−4−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム
−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 IR(Nujol,cm−1): 1790, 163
0, 1520 NMR(DMSO−d): δ 3.60 および
3.85(2H,ABq,J=17.5Hz),4.8
2(1H,d,J=5.0Hx),5.02(1H,
d,J=5.0Hx),6.5−7.0(2H,m),
8.20(1H,s)
Production Example 8 The following compound was obtained in the same manner as in Production Example 6. 7β-amino-3-[(E) -2-[(1,2,3-triazol-4-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid / trifluoroacetic acid salt. IR (Nujol, cm -1 ): 1790, 163
0, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 3.60 and 3.85 (2H, ABq, J = 17.5 Hz), 4.8.
2 (1H, d, J = 5.0Hx), 5.02 (1H,
d, J = 5.0Hx), 6.5-7.0 (2H, m),
8.20 (1H, s)

【0050】実施例1 7β−アミノ−3−[(E)−2−[(1,2,3−チ
アジアゾール−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(4.2g)の塩
化メチレン(63ml)溶液に、ビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド(6.12ml)を加える。室温で1
0分間攪拌し、5℃まで冷却する。反応混合物に2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−アセトキシ
イミノアセチルクロリド・塩酸塩(シン異性体)(2.
82g)を加え、混合物を5℃で3.5時間攪拌する。
反応混合物を酢酸エチル(60ml)と水(60ml)
の混合物中に注ぎ、結晶化合物を濾取し、減圧下に五酸
化リンで乾燥して、7β−[2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2−アセトキシイミノアセトアミド]
−3−[(E)−2−[(1,2,3−チアジアゾール
−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチル(シン異性体)(4.90g)
を得る 。 IR(Nujol,cm−1): 3300, 177
0, 1700, 1650, 1530 NMR(DMSO−d)δ: 2.23(3H,
s), 3.75および4.11(2H,ABq,J=
18Hz), 5.35(1H,d,J=5Hz),
5.97(1H,dd,J=5.8Hz), 6.97
(1H,s), 7.02(1H,d,J=15H
z), 7.21(1H,s), 7.22(1H,
d,J=15Hz), 7.2−7.5(12H,
m), 9.05(1H,s), 10.06(1H,
d,J=8Hz)
Example 1 Diphenylmethyl (4) of 7β-amino-3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate To a solution of 0.2 g) in methylene chloride (63 ml) is added bis (trimethylsilyl) acetamide (6.12 ml). 1 at room temperature
Stir for 0 minutes and cool to 5 ° C. 2-in the reaction mixture
(2-Aminothiazol-4-yl) -2-acetoxyiminoacetyl chloride hydrochloride (syn isomer) (2.
82 g) is added and the mixture is stirred at 5 ° C. for 3.5 hours.
The reaction mixture was mixed with ethyl acetate (60 ml) and water (60 ml).
Of the crystalline compound was collected by filtration, dried over phosphorus pentoxide under reduced pressure to give 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-acetoxyiminoacetamide].
-3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) (4.90 g)
Get IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 177
0, 1700, 1650, 1530 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.23 (3H,
s), 3.75 and 4.11 (2H, ABq, J =
18Hz), 5.35 (1H, d, J = 5Hz),
5.97 (1H, dd, J = 5.8Hz), 6.97
(1H, s), 7.02 (1H, d, J = 15H
z), 7.21 (1H, s), 7.22 (1H,
d, J = 15 Hz), 7.2-7.5 (12H,
m), 9.05 (1H, s), 10.06 (1H,
d, J = 8Hz)

【0051】実施例2−(1) 実施例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 3300−310
0, 1760, 1640, 1530 NMR(DMSO−d)δ: 3.68および4.0
2(2H,ABq,J=18Hz), 5.23(1
H,d,J=5Hz), 5.82(1H,dd,J=
5.8Hz), 6.82(1H,s), 7.09
(1H,d,J=15Hz), 7.20(1H,d,
J=15Hz), 9.05(1H,s),9.72
(1H,d,J=8Hz)
Example 2- (1) In the same manner as in Example 1, the following compound is obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (Nujol, cm -1 ): 3300-310
0, 1760, 1640, 1530 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.68 and 4.0.
2 (2H, ABq, J = 18Hz), 5.23 (1
H, d, J = 5 Hz), 5.82 (1H, dd, J =
5.8 Hz), 6.82 (1H, s), 7.09
(1H, d, J = 15 Hz), 7.20 (1H, d,
J = 15 Hz), 9.05 (1H, s), 9.72
(1H, d, J = 8Hz)

【0052】実施例2−(2) 実施例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(Z)−2−
[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 3200, 177
0, 1660, 1620, 1530 NMR(DMSO−d)δ: 3.80(2H,
s), 3.84(3H,s), 5.23(1H,
d,J=5Hz), 5.83(1H,dd,J=5.
8Hz), 6.72(1H,d,J=10Hz),
6.75(1H,s),6.89(1H,d,J=10
Hz), 7.25(2H,br s), 8.99
(1H,s), 9.65(1H,d,J=8Hz)
Example 2- (2) In the same manner as in Example 1, the following compound is obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (Nujol, cm- 1 ): 3200, 177.
0, 1660, 1620, 1530 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.80 (2H,
s), 3.84 (3H, s), 5.23 (1H,
d, J = 5 Hz), 5.83 (1H, dd, J = 5.
8Hz), 6.72 (1H, d, J = 10Hz),
6.75 (1H, s), 6.89 (1H, d, J = 10)
Hz), 7.25 (2H, br s), 8.99
(1H, s), 9.65 (1H, d, J = 8Hz)

【0053】実施例2−(3) 実施例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(テトラゾロ[1,5−b]ピリダジン−6−イル)
チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体) IR(Nujol,cm−1): 3400−320
0, 1765, 1660−1600, 1520 NMR(DMSO−d)δ: 3.77および4.0
8(2H,ABq,J=18Hz), 3.86(3
H,s),5.26(1H,d,J=5Hz),5.8
4(1H,dd,J=5.8Hz), 6.77(1
H,s), 7.24(2H,br s), 7.31
(2H,s), 7.89(1H,d,J=10H
z), 8.69(1H,d,J=10Hz), 9.
69(1H,d,J=8Hz)
Example 2- (3) In the same manner as in Example 1, the following compound is obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(Tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl)
Thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (Nujol, cm -1 ): 3400-320
0, 1765, 1660-1600, 1520 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.77 and 4.0.
8 (2H, ABq, J = 18Hz), 3.86 (3
H, s), 5.26 (1H, d, J = 5 Hz), 5.8
4 (1H, dd, J = 5.8Hz), 6.77 (1
H, s), 7.24 (2H, br s), 7.31
(2H, s), 7.89 (1H, d, J = 10H
z), 8.69 (1H, d, J = 10 Hz), 9.
69 (1H, d, J = 8Hz)

【0054】実施例3 7β−アミノ−3−[(Z)−2−[(1,2,3−チ
アジアゾール−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチル(シン異性体)
(2.50g)の塩化メチレン(38ml)溶液に、ビ
ス(トリメチルシリル)アセトアミド(3.64mg)
を加える。その反応混合物を、室温で10分間攪拌した
後、5℃に冷却する。反応混合物に、2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−アセトキシイミノアセチ
ルクロリド・塩酸塩(シン異性体)(1.95g)を加
え、5℃で2.5時時間攪拌する。その反応混合物を酢
酸エチル(80ml)と水(80ml)の混合物中に注
ぐ。混合物をpH6に調整し、不溶物質を濾取して、7
β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
アセトキシイミノアセトアミド]−3−[(Z)−2−
[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ル(シン異性体)(925mg)を得る。濾液の有機層
を分取し、水及び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを
使用するカラムクロマトグラフィーに付す。目的化合物
を含む画分に酢酸エチルを加え、不溶物質を濾取して、
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−[(Z)−2
−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル]チオ]
ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チル(シン異性体)(509mg)を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−アセトキシイミノアセトアミド]−3−[(Z)−2
−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]
ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チル(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 3300, 177
0, 1650, 1530 NMR(DMSO−d)δ: 2.21(3H,
s), 3.82(2H,s), 5.35(1H,
d,J=5Hz), 5.99(1H,dd,J=5.
8Hz), 6.67(1H,d,J=10Hz),
6.77(1H,d,J=10Hz), 6.9(1
H,s), 7.18(1H,s), 7.2−7.5
(12H,m),8.88(1H,s), 10.0
(1H,d,J=8Hz) 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−[(Z)−2
−[(1, 2, 3−チアジアゾール−5−イル)チ
オ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチル(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 3400−320
0, 1780, 1710, 1660, 161
0, 1520 NMR(DMSO−d)δ: 3.77(2H,
s), 5.29(1H,d,J=5Hz), 5.9
5(1H,dd,J=5.8Hz), 6.64(1
H,d,J=10Hz), 6.68(1H,s),
6.76(1H,d,J=10Hz), 6.90(1
H,s), 7.1−7.5(12H,m),8.87
(1H,s), 9.54(1H,d,J=8Hz),
11.3(1H,s)
Example 3 Diphenylmethyl (syn) 7β-amino-3-[(Z) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate Isomer)
To a solution of (2.50 g) in methylene chloride (38 ml) was added bis (trimethylsilyl) acetamide (3.64 mg).
Add. The reaction mixture is stirred at room temperature for 10 minutes and then cooled to 5 ° C. 2- (2-Aminothiazol-4-yl) -2-acetoxyiminoacetyl chloride hydrochloride (syn isomer) (1.95 g) is added to the reaction mixture, and the mixture is stirred at 5 ° C for 2.5 hr. The reaction mixture is poured into a mixture of ethyl acetate (80 ml) and water (80 ml). The mixture was adjusted to pH 6 and the insoluble material was filtered off,
β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-
Acetoxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) (925 mg) is obtained. The organic layer of the filtrate is separated, washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to column chromatography using silica gel. Ethyl acetate was added to the fraction containing the target compound, insoluble material was collected by filtration,
7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Hydroxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2
-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl] thio]
Vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) (509 mg) is obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Acetoxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2
-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio]
Vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 177
0, 1650, 1530 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.21 (3H,
s), 3.82 (2H, s), 5.35 (1H,
d, J = 5 Hz), 5.99 (1H, dd, J = 5.
8Hz), 6.67 (1H, d, J = 10Hz),
6.77 (1H, d, J = 10 Hz), 6.9 (1
H, s), 7.18 (1H, s), 7.2-7.5.
(12H, m), 8.88 (1H, s), 10.0
(1H, d, J = 8Hz) 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Hydroxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2
-[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) IR (Nujol, cm- 1 ): 3400-320
0, 1780, 1710, 1660, 161
0, 1520 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.77 (2H,
s), 5.29 (1H, d, J = 5 Hz), 5.9
5 (1H, dd, J = 5.8Hz), 6.64 (1
H, d, J = 10 Hz), 6.68 (1H, s),
6.76 (1H, d, J = 10Hz), 6.90 (1
H, s), 7.1-7.5 (12H, m), 8.87.
(1H, s), 9.54 (1H, d, J = 8Hz),
11.3 (1H, s)

【0055】実施例4 7β−アミノ−3−[(E)−2−[(テトラゾロ
[1,5−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル]
−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩
(4.91g)の塩化メチレン(150ml)中けん濁
液に、ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(7.4
2ml)を加え、室温にて20分間攪拌する。5℃まで
冷却した後、混合溶液に2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−アセトキシイミノアセチルクロリド・
塩酸塩(シン異性体)(3.41g)を加え、5℃で1
時間攪拌し、室温にて5時間攪拌する。反応混合物をジ
イソプロピルエーテルで粉砕し、析出物を濾取し、減圧
下に乾燥する。析出物の水(400ml)中けん濁液
に、塩化アンモニウム(1.61g)とメタノール(2
0ml)を加え、混合物をpH8に調整し、室温で2.
8時間攪拌する。不溶物質を濾過した後、濾液をpH6
に調整し、メタノールを減圧下に留去し、ダイヤイオン
HP−20(商標:三菱化成社製)を用いるクロマトグ
ラフィーに付し、10%イソプロピルアルコール水溶液
で溶出する。溶出液を減圧下に濃縮し、ダイヤイオンH
P−20(商標:三菱化成社製)を使用するクロマトグ
ラフィーに付し、5%イソプロピルアルコール水溶液で
溶出する。溶出液を減圧下に50mlに濃縮し、5℃に
冷却した後、pH3に調整する。析出物を濾取し五酸化
リンで減圧下に乾燥して、7β−[2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセトア
ミド]−3−[(E)−2−[(テトラゾロ[1,5−
b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル]−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)(847mg)を
得る。 IR(Nujol,cm−1): 3300, 178
0, 1760, 1660−1600, 1530 NMR(DMSO−d)δ: 3.76および4.0
6(2H,ABq,J=17Hz), 5.25(1
H,d,J=5Hz), 5.85(1H,dd,J=
5.8Hz), 6.68(1H,s), 7.14
(2H,br s),7.31(2H,s), 7.8
8(1H,d,J=10Hz), 8.69(1H,
d,J=10Hz), 9.54(1H,d,J=8H
z), 11.3(1H,s)
Example 4 7β-Amino-3-[(E) -2-[(tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl) thio] vinyl]
To a suspension of -3-cephem-4-carboxylic acid / trifluoroacetic acid salt (4.91 g) in methylene chloride (150 ml) was added bis (trimethylsilyl) acetamide (7.4
2 ml), and the mixture is stirred at room temperature for 20 minutes. After cooling to 5 ° C, 2- (2-aminothiazole-
4-yl) -2-acetoxyiminoacetyl chloride
Add the hydrochloride salt (syn isomer) (3.41 g) and add 1 at 5 ° C.
Stir for hours and at room temperature for 5 hours. The reaction mixture is triturated with diisopropyl ether, the precipitate is filtered off and dried under reduced pressure. A suspension of the precipitate in water (400 ml) was added with ammonium chloride (1.61 g) and methanol (2
0 ml) and the mixture is adjusted to pH 8 and 2.
Stir for 8 hours. After filtering the insoluble matter, the filtrate is adjusted to pH 6
Adjustment, the methanol is distilled off under reduced pressure, chromatography is carried out using Diaion HP-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Kasei Co.), and eluted with 10% aqueous isopropyl alcohol solution. Concentrate the eluate under reduced pressure and use Diaion H
Chromatography is performed using P-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Kasei) and eluted with 5% isopropyl alcohol aqueous solution. The eluate is concentrated under reduced pressure to 50 ml, cooled to 5 ° C. and then adjusted to pH 3. The precipitate was collected by filtration and dried under reduced pressure with phosphorus pentoxide to give 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-hydroxyiminoacetamide] -3-[(E) -2- [. (Tetrazolo [1,5-
b] Pyridazin-6-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (847 mg) is obtained. IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 178
0, 1760, 1660-1600, 1530 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.76 and 4.0.
6 (2H, ABq, J = 17Hz), 5.25 (1
H, d, J = 5 Hz), 5.85 (1H, dd, J =
5.8 Hz), 6.68 (1H, s), 7.14
(2H, br s), 7.31 (2H, s), 7.8
8 (1H, d, J = 10 Hz), 8.69 (1H,
d, J = 10 Hz), 9.54 (1H, d, J = 8H
z), 11.3 (1H, s)

【0056】実施例5 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−アセトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2
−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]
ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チル(シン異性体)(4.0g)の塩化メチレン(20
ml)中混合物にアニソール(4ml)を加え、混合物
を5℃まで冷却する。混合物を5℃で1時間攪拌する。
反応混合物をジイソプロピルエーテル(550ml)中
に滴下する。析出物を濾取して、7β−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]−3−[(E)−2−[(1,2,3−チ
アジアゾール−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩(シン異性
体)を得る。この塩に水(500ml)とメタノール
(50ml)を加え、混合物をpH8〜8.3、室温で
2.5時間攪拌する。反応混合物をpH6に調整し、有
機溶媒を減圧下に留去する。不溶物質を濾去し、濾液を
徐々にpH4.7に調整しダイヤイオンHP−20(商
標:三菱化成社製)のクロマトグラフィーに付し、10
%のイソプロピルアルコール水溶液で溶出する。溶出液
を濃縮し、5℃に冷却し、pH3に調整し、5℃で30
分間攪拌する。析出物を濾取して、7β−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]−3−[(E)−2−[(1,2,3−
チアジアゾール−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)(865mg)を
得る。 IR(Nujol,cm−1): 3200, 175
0, 1640−1580, 1520 NMR(DMSO−d)δ: 3.65および3.9
9(2H,ABq,J=18Hz), 5.22(1
H,d,J=5Hz), 5.82(1H,dd,J=
5.8Hz), 6.67(1H,s), 7.07
(1H,d,J=15Hz), 7.15(2H,
s), 7.19(1H,d,J=15Hz),9.0
4(1H,s), 9.51(1H,d,J=8H
z), 11.33(1H,s)
Example 5 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Acetoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2
-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio]
Vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) (4.0 g) in methylene chloride (20
Anisole (4 ml) is added to the mixture in (ml) and the mixture is cooled to 5 ° C. The mixture is stirred at 5 ° C for 1 hour.
The reaction mixture is added dropwise to diisopropyl ether (550 ml). The precipitate was collected by filtration to give 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-hydroxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazole- 5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid trifluoroacetate salt (syn isomer) is obtained. Water (500 ml) and methanol (50 ml) are added to this salt, and the mixture is stirred at pH 8-8.3 at room temperature for 2.5 hours. The reaction mixture is adjusted to pH 6 and the organic solvent is distilled off under reduced pressure. The insoluble material was removed by filtration, the filtrate was gradually adjusted to pH 4.7, and subjected to chromatography with Diaion HP-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Kasei Co., Ltd.).
Elute with a 1% aqueous solution of isopropyl alcohol. The eluate is concentrated, cooled to 5 ° C, adjusted to pH 3 and adjusted to 30 ° C at 5 ° C
Stir for minutes. The precipitate was collected by filtration, and 7β- [2- (2-
Aminothiazol-4-yl) -2-hydroxyiminoacetamido] -3-[(E) -2-[(1,2,3-
Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (865 mg) is obtained. IR (Nujol, cm -1 ): 3200, 175
0, 1640-1580, 1520 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.65 and 3.9.
9 (2H, ABq, J = 18Hz), 5.22 (1
H, d, J = 5 Hz), 5.82 (1H, dd, J =
5.8 Hz), 6.67 (1H, s), 7.07
(1H, d, J = 15Hz), 7.15 (2H,
s), 7.19 (1H, d, J = 15 Hz), 9.0
4 (1H, s), 9.51 (1H, d, J = 8H
z), 11.33 (1H, s)

【0057】実施例6 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−[(Z)−2
−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]
ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チル(シン異性体)(700mg)の塩化メチレン
(3.5ml)中混合物にアニソール(0.7ml)を
加え、5℃に冷却する。混合物にトリフルオロ酢酸
(1.4ml)を加え、5℃で2時間攪拌する。反応混
合物をジイソプロピルエーテル(100ml)中に滴下
する。不溶物質を濾取して、7β−[2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセト
アミド]−3−[(Z)−2−[(1,2,3−チアジ
アゾール−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−
4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩(シン異性体)
(675mg)を得る。この塩をpH7〜7.5で水に
溶解する。水溶液を徐々に1N塩酸でpH4.9に調整
する。水溶液をダイヤイオンHP−20(商標:三菱化
成社製)のクロマトグラフィーに付し、10%のイソプ
ロピルアルコール水溶液で溶出する。溶出液を濃縮し、
5℃まで冷却し、pH2.9に調整して、そして5℃で
30分間攪拌する。不溶物質を濾取して、7β−[2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシ
イミノアセトアミド]−3−[(Z)−2−[(1,
2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビニル]−
3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(244
mg)を得る。 IR(Nujol,cm−1): 3300, 176
0, 1660−1520 NMR(DMSO−d)δ: 3.78(2H,
s), 5.22(1H,d,J=5Hz), 5.8
4(1H,dd,J=5.8Hz), 6.66(1
H,s), 6.71(1H,d,J=10Hz),
6.89(1H,d,J=10Hz), 7.14(2
H,s), 8.99(1H,s), 9.51(1
H,d,J=8Hz), 11.3(1H,s9
Example 6 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Hydroxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2
-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio]
Anisole (0.7 ml) is added to a mixture of vinyl] -3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl (syn isomer) (700 mg) in methylene chloride (3.5 ml) and cooled to 5 ° C. Add trifluoroacetic acid (1.4 ml) to the mixture and stir at 5 ° C. for 2 hours. The reaction mixture is added dropwise to diisopropyl ether (100 ml). The insoluble material was collected by filtration to give 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-hydroxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2-[(1,2,3-thiadiazole- 5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-
4-carboxylic acid / trifluoroacetic acid salt (syn isomer)
(675 mg) is obtained. This salt is dissolved in water at pH 7-7.5. The aqueous solution is gradually adjusted to pH 4.9 with 1N hydrochloric acid. The aqueous solution is chromatographed on Diaion HP-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Kasei) and eluted with a 10% aqueous isopropyl alcohol solution. Concentrate the eluate,
Cool to 5 ° C, adjust to pH 2.9 and stir at 5 ° C for 30 minutes. The insoluble material is filtered off and 7β- [2-
(2-Aminothiazol-4-yl) -2-hydroxyiminoacetamide] -3-[(Z) -2-[(1,
2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl]-
3-Cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (244
mg) is obtained. IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 176
0, 1660-1520 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 3.78 (2H,
s), 5.22 (1H, d, J = 5 Hz), 5.8
4 (1H, dd, J = 5.8Hz), 6.66 (1
H, s), 6.71 (1H, d, J = 10 Hz),
6.89 (1H, d, J = 10Hz), 7.14 (2
H, s), 8.99 (1H, s), 9.51 (1
H, d, J = 8 Hz, 11.3 (1H, s9

【0058】実施例7 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)
(300mg)のN,N−ジメチルホルムアミド(3m
l)溶液に、炭酸カリウム(43mg)を加え、混合物
を5℃に冷却する。その混合物にピバル酸ヨードメチル
(138mg)を加え、5℃で1時間攪拌する。反応混
合物を酢酸エチル(50ml)と氷水(50ml)の混
合物中に注ぐ。有機層を分取し、水及び食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去す
る。残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕して、7β−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ピバロイルオキ
シメチル(シン異性体)(270mg)を得る。 IR(Nujol,cm−1): 1770, 175
0, 1660, 1520 NMR(DMSO−d)δ: 1.16(9H,
s), 3.70および4.10(2H,ABq,J=
18Hz), 3.84(3H,s), 5.26(1
H,d,J=5Hz), 5.81および5.92(2
H,ABq,J=6Hz), 5.9(1H,m),
6.77(1H,s), 7.06(1H,d,J=1
5Hz), 7.23(1H,d,J=15Hz),
7.24(2H,s), 9.07(1H,s),
9.67(1H,d,J=8Hz)
Example 7 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer)
(300 mg) of N, N-dimethylformamide (3 m
l) To the solution is added potassium carbonate (43 mg) and the mixture is cooled to 5 ° C. Iodomethyl pivalate (138 mg) is added to the mixture, and the mixture is stirred at 5 ° C for 1 hr. The reaction mixture is poured into a mixture of ethyl acetate (50 ml) and ice water (50 ml). The organic layer is separated, washed with water and brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue was triturated with diisopropyl ether to give 7β-
[2- (2-Aminothiazol-4-yl) -2-methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate pivaloyloxymethyl (syn isomer) (270 mg) is obtained. IR (Nujol, cm -1 ): 1770, 175
0, 1660, 1520 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.16 (9H,
s), 3.70 and 4.10 (2H, ABq, J =
18 Hz), 3.84 (3 H, s), 5.26 (1
H, d, J = 5 Hz), 5.81 and 5.92 (2
H, ABq, J = 6 Hz), 5.9 (1H, m),
6.77 (1H, s), 7.06 (1H, d, J = 1
5Hz), 7.23 (1H, d, J = 15Hz),
7.24 (2H, s), 9.07 (1H, s),
9.67 (1H, d, J = 8Hz)

【0059】実施例8−(1) 実施例7と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2
−[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]
ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ピバロイルオ
キシメチル(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 1770, 175
0, 1660, 1520 NMR(DMSO−d)δ: 1.16(9H,
s), 3.69および4.08(2H,ABq,J=
18Hz), 5.26(1H,d,J=5Hz),
5.81および5.92(2H,ABq,J=6H
z), 5.86(1H,dd,J=5.8Hz),
6.68(1H,s), 7.06(1H,d,J=1
5Hz), 7.14(2H,br s), 7.23
(1H,d,J=15hZ9, 9.07(1H,
s), 9.53(1H,d,J=8Hz),11.3
(1H,s)
Example 8- (1) In the same manner as in Example 7, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Hydroxyiminoacetamide] -3-[(E) -2
-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio]
Vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl (syn isomer) IR (Nujol, cm −1 ): 1770, 175
0, 1660, 1520 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.16 (9H,
s), 3.69 and 4.08 (2H, ABq, J =
18Hz), 5.26 (1H, d, J = 5Hz),
5.81 and 5.92 (2H, ABq, J = 6H
z), 5.86 (1H, dd, J = 5.8Hz),
6.68 (1H, s), 7.06 (1H, d, J = 1
5 Hz), 7.14 (2H, br s), 7.23
(1H, d, J = 15hZ9, 9.07 (1H,
s), 9.53 (1H, d, J = 8Hz), 11.3
(1H, s)

【0060】実施例8−(2) 実施例7と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾール−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸アセトキシメチ
ル(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 1765, 167
0, 1610, 1525 NMR(DMSO−d)δ: 2.09(3H,
s), 3.69および4.11(2H、ABq,J=
18Hz), 3.85(3H,s), 5.26(1
H,d,J=5Hz), 5.83(1H,m),
5.80および5.87(2H,ABq,J=6H
z), 6.76(1H,s), 7.09(1H,
d,J=15Hz), 7.24(2H,s), 7.
24(1H,d,J=15Hz), 9.08(1H,
s), 9.67(1H,d,J=8Hz)
Example 8- (2) In the same manner as in Example 7, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate acetoxymethyl (syn isomer) IR (Nujol, cm -1 ): 1765, 167
0, 1610, 1525 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 2.09 (3H,
s), 3.69 and 4.11 (2H, ABq, J =
18 Hz), 3.85 (3 H, s), 5.26 (1
H, d, J = 5 Hz), 5.83 (1 H, m),
5.80 and 5.87 (2H, ABq, J = 6H
z), 6.76 (1H, s), 7.09 (1H,
d, J = 15 Hz), 7.24 (2H, s), 7.
24 (1H, d, J = 15Hz), 9.08 (1H,
s), 9.67 (1H, d, J = 8Hz)

【0061】実施例8−(3) 実施例7と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(テトラゾロ[1,5−b]ピリダジン−6−イル)
チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸ピバロ
イルオキシメチル(シン異性体) IR(Nujol,cm−1): 3450, 330
0−3200, 1775, 1750, 1660,
1610, 1530 NMR(DMSO−d)δ: 1.17(9H,
s), 3.81および4.17(2H,ABq,J=
18Hz), 3.86(3H,s), 5.29(1
h,d,J=5Hz), 5.9(1H,m), 5.
84および5.95(2H,ABq,J=6Hz),
6.77(1H,s), 7.18(1H,d,J=1
6Hz), 7.24(2H,s), 7.48(1
H,d,J=16Hz), 7.92(1H,d,J=
9Hz), 8.71(1H,d,J=9Hz).
9.69(1H,d,J=8Hz)
Example 8- (3) In the same manner as in Example 7, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(Tetrazolo [1,5-b] pyridazin-6-yl)
Thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid pivaloyloxymethyl (syn isomer) IR (Nujol, cm -1 ): 3450, 330
0-3200, 1775, 1750, 1660,
1610, 1530 NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.17 (9H,
s), 3.81 and 4.17 (2H, ABq, J =
18Hz), 3.86 (3H, s), 5.29 (1
h, d, J = 5 Hz), 5.9 (1H, m), 5.
84 and 5.95 (2H, ABq, J = 6Hz),
6.77 (1H, s), 7.18 (1H, d, J = 1
6Hz), 7.24 (2H, s), 7.48 (1
H, d, J = 16 Hz), 7.92 (1H, d, J =
9 Hz), 8.71 (1H, d, J = 9 Hz).
9.69 (1H, d, J = 8Hz)

【0062】実施例9−(1) 実施例7と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾ−ル−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾ−ル−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸1−アセトキシ
エチル(シン異性体)。 IR(Nujol,cm−1): 1765, 166
0, 1610, 1520 NMR(DMSO−d): δ1.46 および1.
48 (total 3H,dx2,J=5Hx),
2.06(3H,s), 3.68 および4.10
(2H,ABq, J=18Hx), 3.84(3
H,s),5.24および5.27 (total 1
H,dx2, J=4Hz),5.8−5.9(1H,
m),6.75 および6.76(total 1H,
sx2),6.90 および6.99 (total
1H,qx2, J=5Hz),7.03 および7.
05 (total 1H, dx2, J=15H
z),7.25 および7.26(total 1H,
dx2, J=15Hz), 7.23 (2H,
brs),9.07 (1H,s), 9.66(1
H,d,J=8Hz)
Example 9- (1) In the same manner as in Example 7, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylate 1-acetoxyethyl (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 1765, 166
0, 1610, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 1.46 and 1.
48 (total 3H, dx2, J = 5Hx),
2.06 (3H, s), 3.68 and 4.10
(2H, ABq, J = 18Hx), 3.84 (3
H, s), 5.24 and 5.27 (total 1
H, dx2, J = 4 Hz), 5.8-5.9 (1H,
m), 6.75 and 6.76 (total 1H,
sx2), 6.90 and 6.99 (total
1H, qx2, J = 5 Hz), 7.03 and 7.
05 (total 1H, dx2, J = 15H
z), 7.25 and 7.26 (total 1H,
dx2, J = 15 Hz), 7.23 (2H,
brs), 9.07 (1H, s), 9.66 (1
H, d, J = 8Hz)

【0063】実施例9−(2) 実施例7と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾ−ル−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾ−ル−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸1−(テトラヒ
ドロピラン−4−イルオキシカルボニルオキシ)エチル
(シン異性体)。 IR(Nujol,cm−1): 3300, 178
0, 1750, 1670, 1610, 1520 NMR(DMSO−d): δ 1.49 および
1.51 (total3H,d,J=5Hz),
1.5−1.7(2H,m),1.8−2.0(2H,
m),3.3−3.5(2H,m),3.7−3.9
(2H,m), 3.84(3H.s),3.80 お
よび4.10(2H,ABq, J=17Hx)、4.
8−4。9(1H、m) ,5.25 および5.27
(total1H,d, J−5Hx),5.8−
5.9(1H,,),6.75(1H,s.), 6.
83 および6.90 (total 1H、q, J
=5Hx),7.04(1H,d,J=15Hx),
7.19(1H,d,J=15Hz),7.23(2
H,brs),9.09(1H,s),9.65 およ
び9.66 (total 1H,d,J=8Hz)
Example 9- (2) In the same manner as in Example 7, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid 1- (tetrahydropyran-4-yloxycarbonyloxy) ethyl (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 3300, 178
0, 1750, 1670, 1610, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 1.49 and 1.51 (total 3H, d, J = 5 Hz),
1.5-1.7 (2H, m), 1.8-2.0 (2H,
m), 3.3-3.5 (2H, m), 3.7-3.9.
(2H, m), 3.84 (3H.s), 3.80 and 4.10 (2H, ABq, J = 17Hx), 4.
8-4.9 (1H, m), 5.25 and 5.27.
(Total1H, d, J-5Hx), 5.8-
5.9 (1H ,,), 6.75 (1H, s.), 6.
83 and 6.90 (total 1H, q, J
= 5Hx), 7.04 (1H, d, J = 15Hx),
7.19 (1H, d, J = 15Hz), 7.23 (2
H, brs), 9.09 (1H, s), 9.65 and 9.66 (total 1H, d, J = 8Hz)

【0064】実施例9−(3) 実施例7と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾ−ル−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾ−ル−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸シクロヘキシル
カルボニルオキシメチル(シン異性体)。 IR(Nujol,cm−1): 1780, 176
0, 1680, 1620, 1530 NMR(DMSO−d): δ 1.1−1.9(1
0H,m),2.3−2.4(1H,m) ,3.70
および4.10(2H, ABq, J=18H
z), 3.85(3H.s),5.26 (1H,
d,J=5Hz), 5.81 および5,90 (2
H, ABq, J=6Hz),5.85 (1H,d
d, J=5,8Hz), 6.77(1H,s),
7.07(1H,d, J=15Hz),7.23
(1H,d,J=15Hx),7.24(2H,br
s),9.07(1H,s),9.66(1H,d,J
=8Hz)
Example 9- (3) In the same manner as in Example 7, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Methoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid cyclohexylcarbonyloxymethyl (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 1780, 176
0, 1680, 1620, 1530 NMR (DMSO-d 6 ): δ 1.1-1.9 (1
0H, m), 2.3-2.4 (1H, m), 3.70
And 4.10 (2H, ABq, J = 18H
z), 3.85 (3H.s), 5.26 (1H,
d, J = 5 Hz), 5.81 and 5,90 (2
H, ABq, J = 6 Hz), 5.85 (1H, d
d, J = 5, 8 Hz), 6.77 (1H, s),
7.07 (1H, d, J = 15 Hz), 7.23
(1H, d, J = 15Hx), 7.24 (2H, br
s), 9.07 (1H, s), 9.66 (1H, d, J
= 8Hz)

【0065】実施例10−(1) 実施例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−
ル−3−イル)−2−エトキシイミノアセトアミド]−
3−[(E)−2−[(1,2,3−チアジアゾール−
5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体)。 IR(Nujol,cm−1): 1760, 166
5, 1505 NMR(DMSO−d): δ 1.27 (3H,
t,J=7Hz), 3.64 および4.02 (2
H, ABq J=18Hz), 4.19 (2H,
q, J=7Hz), 5.22(1H, d,J=5
Hz), 5.85(1H,dd. J=5.8H
z),7.06(1H,d, J=15Hz),7.1
9(1H,d, J=15Hz), 8.16(2H,
brs),9.04(1H,s),9.62(1H,
d,J=5.8Hz)
Example 10- (1) In the same manner as in Example 1, the following compound is obtained. 7β- [2- (5-amino-1,2,4-thiadiazo-
L-3-yl) -2-ethoxyiminoacetamide]-
3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazole-
5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 1760, 166
5, 1505 NMR (DMSO-d 6 ): δ 1.27 (3H,
t, J = 7 Hz), 3.64 and 4.02 (2
H, ABq J = 18 Hz), 4.19 (2H,
q, J = 7 Hz), 5.22 (1H, d, J = 5)
Hz), 5.85 (1H, dd. J = 5.8H
z), 7.06 (1H, d, J = 15 Hz), 7.1
9 (1H, d, J = 15Hz), 8.16 (2H,
brs), 9.04 (1H, s), 9.62 (1H,
d, J = 5.8 Hz)

【0066】実施例10−(2) 実施例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−トリフェニルメチルアミノチアゾ−
ル−4−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(E)−2−[(1,2,3−チアジ
アゾ−ル−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。 IR(Nujol,cm−1): 1770, 168
0, 1520 NMR(DMSO−d): δ 3.65 amd
4.00(2H,ABq,J=18Hz),5.22
(1H,d,J=5Hz),5.74(1H,dd,J
=5.8Hz),6.99(1H,s),6.7−7.
8(19H,m),9.14(1H,s),9.15
(1H,s),9.94(1H,d,J=8Hz)
Example 10- (2) In the same manner as in Example 1, the following compounds are obtained. 7β- [2- (2-triphenylmethylaminothiazo-
Lu-4-yl) -2-difluoromethoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-
4-carboxylic acid (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 1770, 168
0, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 3.65 amd
4.00 (2H, ABq, J = 18Hz), 5.22
(1H, d, J = 5Hz), 5.74 (1H, dd, J
= 5.8 Hz), 6.99 (1H, s), 6.7-7.
8 (19H, m), 9.14 (1H, s), 9.15
(1H, s), 9.94 (1H, d, J = 8Hz)

【0067】実施例10−(3) 実施例1と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(5−トリフェニルメチルアミノ−1,
2,4−チアジアゾ−ル−3−イル)−2−ジフルオロ
メトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2−
[(1,2,3−チアジアゾ−ル−5−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 IR(Nujol,cm−1): 1770, 168
0, 1520 NMR(DMSO−d): δ 3.63 および
4.01 (2H< ABq,J=18Hz), 5.
21(1H,d,J=5Hx),5.82(1H,d,
J=5,8Hz), 7.21 (1H,t, J=7
0Hz), 7.0−7.4(17H,m), 9.0
4 (1H,s),9.90(1H,d,J=8H
z),10.17(1H,brs)
Example 10- (3) In the same manner as in Example 1, the following compounds are obtained. 7β- [2- (5-triphenylmethylamino-1,1,
2,4-thiadiazol-3-yl) -2-difluoromethoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-
[(1,2,3-Thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 1770, 168
0, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 3.63 and 4.01 (2H <ABq, J = 18 Hz), 5.
21 (1H, d, J = 5Hx), 5.82 (1H, d,
J = 5,8 Hz), 7.21 (1H, t, J = 7
0 Hz), 7.0-7.4 (17 H, m), 9.0
4 (1H, s), 9.90 (1H, d, J = 8H
z), 10.17 (1H, brs)

【0068】実施例11 7β−[2−(2−トリフェニルメチルアミノチアゾ−
ル−4−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(E)−2−[(1,2,3−チアジ
アゾ−ル−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)のジクロロメタン(10
ml)とアニソ−ル(2ml)の溶液(1.89g)に
5℃でトリフルオロ酢酸(4ml)を加える。混合物を
5℃で1.5時間攪拌する。反応混合物をジイソプロピ
ルエ−テル中に滴下し、沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥
する。沈殿物の水(70ml)中けん濁液をpH7に調
整し、溶解し、そしてpH5.8に調整する。溶液を
HP−20(70 ml)を使用するクロマトグラフィ
に付し、7%イソプロピルアルコ−ル水溶液で溶離す
る。溶離液の有機溶媒を除去し、60mlまで濃縮す
る。水溶液を、5℃でpH3に調整し、沈殿物を濾取
し、氷水で洗浄し、五酸化リンで、減圧下で乾燥して、
7β−[2−(2−アミノチアゾ−ル−4−イル)−2
−ジフルオロメトキシイミノアセトアミド]−3−
[(E)−2−[(1,2,3−チアジアゾ−ル−5−
イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)を得る。 IR(Nujol,cm−1):1770,1760,
1660,1620,1520 NMR(DMSO−d): δ 3.67 および
4.02 (2H,ABq,J=18Hz),5.25
(1H,d, J=5Hz),5.84 (1H,d
d, J=5.8Hz),7.02(1H,s),
7.08 (1H,d, J=15Hz),7.14
(1H,t, J=71Hz), 7.21(1H,
d, J=15Hz), 7.38(2H,brs),
9.05 (1H,s), 10.00 (1H,d,
J=8Hz)
Example 11 7β- [2- (2-triphenylmethylaminothiazo-
Lu-4-yl) -2-difluoromethoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-
4-carboxylic acid (syn isomer) in dichloromethane (10
ml) and anisole (2 ml) solution (1.89 g) at 5 ° C. with trifluoroacetic acid (4 ml). The mixture is stirred at 5 ° C. for 1.5 hours. The reaction mixture is dropped into diisopropyl ether, the precipitate is filtered off and dried under reduced pressure. A suspension of the precipitate in water (70 ml) is adjusted to pH 7, dissolved and adjusted to pH 5.8. Solution
Chromatograph using HP-20 (70 ml), eluting with 7% aqueous isopropyl alcohol. Remove the organic solvent of the eluent and concentrate to 60 ml. The aqueous solution was adjusted to pH 3 at 5 ° C, the precipitate was filtered off, washed with ice water, dried over phosphorus pentoxide under reduced pressure,
7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Difluoromethoxyiminoacetamide] -3-
[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazole-5-
Yil) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) is obtained. IR (Nujol, cm- 1 ): 1770, 1760,
1660, 1620, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 3.67 and 4.02 (2H, ABq, J = 18 Hz), 5.25.
(1H, d, J = 5Hz), 5.84 (1H, d
d, J = 5.8 Hz), 7.02 (1H, s),
7.08 (1H, d, J = 15Hz), 7.14
(1H, t, J = 71 Hz), 7.21 (1H,
d, J = 15 Hz), 7.38 (2H, brs),
9.05 (1H, s), 10.00 (1H, d,
J = 8Hz)

【0069】実施例12 実施例11と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−
ル−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(E)−2−[(1,2,3−チアジ
アゾ−ル−5−イル)チオ]ビニル]−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。 IR(Nujol,cm−1):1775,1760,
1660,1615,1520 NMR(DMSO−d): δ 3.65 および
4.00 (2H, ABq, J=18Hz),
5.23(1H,d, J=5Hz),5.86 (1
H,dd, J=5.8Hz),7.04 (1H,
d, J=15Hz),7.22 (1H,d, J=
15Hz),7.25(1H,t, J=71Hz),
8.31(2H,brs),9.03(1H,s),
9.95(1H,d,J=8Hz)
Example 12 In the same manner as in Example 11, the following compound is obtained. 7β- [2- (5-amino-1,2,4-thiadiazo-
Lu-3-yl) -2-difluoromethoxyiminoacetamide] -3-[(E) -2-[(1,2,3-thiadiazol-5-yl) thio] vinyl] -3-cephem-
4-carboxylic acid (syn isomer). IR (Nujol, cm −1 ): 1775, 1760,
1660, 1615, 1520 NMR (DMSO-d 6 ): δ 3.65 and 4.00 (2H, ABq, J = 18 Hz),
5.23 (1H, d, J = 5Hz), 5.86 (1
H, dd, J = 5.8 Hz), 7.04 (1H,
d, J = 15 Hz), 7.22 (1H, d, J =
15Hz), 7.25 (1H, t, J = 71Hz),
8.31 (2H, brs), 9.03 (1H, s),
9.95 (1H, d, J = 8Hz)

【0070】実施例13 実施例4と同様にして下記化合物を得る。 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−ヒドロキシイミノアセトアミド]−3−[(E)−2
−[(1,2,3−トリアゾ−ル−4−イル)チオ]ビ
ニル]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性
体)。 IR(Nujol,cm−1): 1750, 163
0 NMR(DMSO−d): δ 3.45 および
3.60 (2H, ABq, J=16.8Hz),
5.04(1H,d, J=4.9Hz), 5.63
(1H,dd, J=8.2 および4.9Hz),
6.38 (1H,d, J=15.7Hz),
6.65 (1H,s) 7.15 (2H,br
s),7.24(1H,d, J=15.7Hz),
8.03(1H,s),9.45(1H,d, J=
8.2Hz)
Example 13 The following compound was obtained in the same manner as in Example 4. 7β- [2- (2-aminothiazol-4-yl) -2
-Hydroxyiminoacetamide] -3-[(E) -2
-[(1,2,3-Triazol-4-yl) thio] vinyl] -3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer). IR (Nujol, cm -1 ): 1750, 163
0 NMR (DMSO-d 6 ): δ 3.45 and 3.60 (2H, ABq, J = 16.8 Hz),
5.04 (1H, d, J = 4.9Hz), 5.63
(1H, dd, J = 8.2 and 4.9 Hz),
6.38 (1H, d, J = 15.7Hz),
6.65 (1H, s) 7.15 (2H, br
s), 7.24 (1H, d, J = 15.7Hz),
8.03 (1H, s), 9.45 (1H, d, J =
8.2 Hz)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 501:00) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display area C07D 501: 00)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式: 【化1】 [式中、R1 はアミノ基または保護されたアミノ基、R
2 は水素または有機基、R3 はカルボキシ基または保護
されたカルボキシ基、R は1,2,3−チアジアゾ
リル基、トリアゾリル基またはテトラゾロピリダジニル
基、およびZはNまたはCHを意味する]で示される新
規セフェム化合物およびその塩。
1. A general formula: [Wherein R 1 is an amino group or a protected amino group, R 1
2 is hydrogen or an organic group, R 3 is a carboxy group or a protected carboxy group, R 4 is a 1,2,3-thiadiazolyl group, a triazolyl group or a tetrazolopyridazinyl group, and Z is N or CH. The novel cephem compound and a salt thereof.
【請求項2】一般式: 【化2】 [式中、R はカルボキシ基または保護されたカルボ
キシ基、およびR は1,2,3−チアジアゾリル
基、トリアゾリル基またはテトラゾロピリダジニル基を
意味する]で示される新規セフェム化合物およびその
塩。
2. A general formula: [Wherein R 3 represents a carboxy group or a protected carboxy group, and R 4 represents a 1,2,3-thiadiazolyl group, a triazolyl group or a tetrazolopyridazinyl group], and a novel cephem compound represented by the following: Its salt.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998029416A1 (en) * 1996-12-25 1998-07-09 Zenyaku Kogyo Kabushiki Kaisha Cephem compounds
WO1999019330A1 (en) * 1997-10-10 1999-04-22 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Novel cephem compounds
US5948774A (en) * 1995-05-29 1999-09-07 Takeda Chemical Industries, Ltd. Cephem compounds, their production and use

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