JPS6233153A

JPS6233153A - ピペリジン誘導体、その製造法およびこれを有効成分とする有機物質用安定剤

Info

Publication number: JPS6233153A
Application number: JP60173817A
Authority: JP
Inventors: Yuko Takahashi; 祐幸高橋; Yuzo Maekawa; 裕三前川; Hiroki Yamamoto; 山本　浩喜; Tatsuo Kanechika; 達夫金親; Haruki Okamura; 春樹岡村; Shinichi Yago; 八児　真一; Tamaki Ishii; 石井　玉樹
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1985-08-07
Filing date: 1985-08-07
Publication date: 1987-02-13
Anticipated expiration: 2010-03-22
Also published as: JPH0725735B2; EP0211572A1; CA1288778C; US4719037A; DE3671745D1; EP0211572B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明はプラスチック、ゴムおよび塗料などに使用され
る立体障害アミン系耐候剤に関する。

ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
ウレタン、ＡＢＳ樹脂等の合成樹脂および塗料などの有
機物質は光により劣化し、軟化、脆化または変色などの
現象を伴って、その物性が著しく低下することがよく知
られている。

このような光による劣化を防止する目的で、従来より各
種の光安定剤、たとえば２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ヘンシフエノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベン
ゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジペン
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シア
ノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２．４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチルー４−ヒド
ロキシベンゾエート、（２゜２′−チオビス（４−ｔ−
オクチルフェノラド））−Ｒ６−ブチルアミン−Ｎ１（
ＩＩ）、ビス（３゜５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホリックアシットモノエチルエステル）
のＮｉ塩またはビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）セバケート等を使用することが知られ
ている。しかしながら、これらの光安定剤はいまだ充分
満足すべきものではない。

このような事情に鑑み、本発明者らはこれらの点に解決
を与えるべく鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（１）
で示されるピペリジン誘導体が合成樹脂および塗料なと
の有機物質に刻する光による劣化の防止に非常にすぐれ
た効果を有することを見出し、本発明に到った。

すなわち、本発明は、一般式（１）（式中、Ｒ，は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基ま
たは炭素数２〜１８のアシル基を示し、ｋ、ｍおよびｎ
はそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）て示されるピペリジン誘導体、その製造法およびこれを
有効成分とする有機物質用安定剤に関するものである。

本発明の前記一般式（１）で示されるピペリジン誘導体
は本発明者らによって初めて合成された化合物であり、
例えは一般式〈２）（式中Ｒ２は水酸基、炭素数１〜４のアルコキシル基ま
たはＣＩ　＋　Ｂ　ｒもしくは１なとのハロゲン原子を
示し、また、ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜３の
整数を示す。）て示されるカルボン酸誘導体と一般式（３）（式中、Ｒ
１は炭素数ｌから３のアルキル基または炭素数２〜１８
のアシル基を示す。）で示されるピペリジツール誘導体
を反応させることにより容易に製造できる。

ここで、Ｒ１として具体的にはメチル基、エチル基、プ
ロピル基等のアルキル基またはアセチル基、プロピオニ
ル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、デカノイル基、
ドデカノイル基、オクタデカノイル基等のアシル基が例
示される。また、Ｒ２として具体的にはメトキシ基、エ
トキシ基、ブトキシ基等のアルコキシル基またはＣ１，
ＢｒもしくはＩ等のハロゲン原子が例示される。

一般式（２）のＲ２が水酸基の場合、反応は無溶媒また
は溶媒中で行うことができる。溶媒としてはｎ−ヘキサ
ン、イソオクタン、シクロペンタン、シクロヘキサンな
との環式または非環式脂肪族炭化水素類、ヘンゼン、ト
ルエン、キシレン、プロピルベンゼンなとの芳香族炭化
水素類等が例示され、これらは複数を混合使用すること
もてきる。また、通常は酸性触媒を使用し、たとえば、
塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等の芳
香族スルホン酸類またはメタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸なとの脂肪族スルホン酸類が例示される。

かかる触媒の使用量は出発原料の一般式（３）で示され
るピペリジツール誘導体に刻して、０゜０１−１０モル
倍、好ましくは０．３〜３モル倍の範囲である。

反応温度は０〜２００℃、好ましくは６０〜１６０℃の
範囲であるが通常は用いる溶媒の沸点て行われる。

一般式（２）で示されるカルボン酸誘導体と一般式（３
）で示されるピペリジツール誘導体の反応モル比は、ｎ
＝１のときは、（２）：　（３）＝１：４．５〜】０の
範囲、ｎ＝２のときは、（２）：　（３）＝１　：５．
５〜１２の範囲、ｎ＝３のときは（２）：　（３）＝１
　：６．５〜１４の範囲である。

溶媒の使用量は任意であるが、通常は一般式（２）で示
されるカルボン酸誘導体に対して０〜２０重量倍である
。

反応終了後は、使用した触媒をろ別あるいは水洗なとの
方法により除去し、溶媒を留去し生成物を得る。

一般式（２）のＲ２がアルコキシル基の場合、反応はｇ
ＨＢ媒または溶媒中で行うことができる。

溶媒としてはｎ−ヘキサン、イソオクタン、シクロペン
タン、シクロヘキサンなとの環式または非環式脂肪族炭
化水素類、プロピルエーテル、アミルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メチルセルソルブなとの環
状または非環状脂肪族エーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレン、プロピルベンゼンなとの芳香族炭化水素類
、メタノール、エタノール、プロパツール、イソプロパ
ツール、ブタノール、イソブタノールなとのアルコール
類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルホキ
ント、スルホラン等の水溶性極性溶媒類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等を用いる
事ができる。

この反応はエステル交換反応であり、通常塩基性触媒を
用いることによって反応を促進させることができる。塩
基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化リチウム等の金属水酸化物、水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化
物、ナトリウムアミド、カリウムアミド、リチウムアミ
ド等の金属アミド、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムフェノキシト等のアルカリ金
属アルコキシド、アルカリ金属フェノキシト等が例示さ
れる。これらの中で好ましい触媒はカリウムｔ−ブトキ
シド、リチウムアミド、水酸化ナトリウム等である。

かかる触媒の使用量は出発原料の一般式（３）で示され
るピペリジツール誘導体に対して、０゜００１〜１０モ
ル倍、好ましくは０．００３〜３モル培の範囲である。

反応温度は０〜２００℃、好ましくは６０〜１６０℃の
範囲である。

一般式（２）で示されるカルボン酸誘導体と一般式（３
）で示されるピペリジツール誘導体の反応モル比は、ｎ
＝１のときは、（２）：　（３）＝１：４．５〜１０の
範囲、ｎ＝２のときは、（２）：　（３）＝１　：５．
５〜１２の範囲、ｎ＝３のときは、（２）：　（３）＝
１　：６．５〜１４の範囲である。

反応終了後は、使用した触媒をろ別あるいは水洗などの
方法により除去し、溶媒を留去し生成物を得る。

一般式（２）のＲ２がハロゲン原子の場合には不活性溶
媒中、脱ハロゲン化水素剤の存在下に行う。

不活性溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン、イ
ソオクタン、ノナン、シクロペンタン、シクロヘキサン
なとの環式または非環式脂肪族炭化水素類、プロピルエ
ーテル、アミルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、メチルセルソルブなとの環状または非環状脂肪族
エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、プロピル
ベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類等が例示される。

これらの溶媒は単独または複数を併用することができる
。

脱ハロゲン化水素剤としては、トリエチルアミン、ジメ
チルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン、テト
ラメチル尿素等の三級アミン類、ピリジン、４−　（Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン等のピリジン誘導体、
炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩等が例示
されろ。また、さらにここに挙げた脱ハロゲン化水素剤
のかわりに一般式（３）で示されるピペリジツール誘導
体を脱ハロゲン化水素剤そのものとして使用することも
いっこうに差し支えない。かかるカルボン酸ハライドは
対応するカルボン酸より公知の方法によって合成される
。

この場合の一般式（２）で示されるカルボン酸誘導体と
一般式く３）で示されるピペリジツール誘導体の反応モ
ル比は、ｎ＝１のときは、（２）：　（３）＝＝ｌ　：
４．５〜６．０の範囲、ｎ＝２のときは、（２）：　　
（３）＝１　：５．４〜７，２の範囲、Ｉ）＝３のとき
は、（２）　　：　　（３）　＝１　：６．３〜８．４
の範囲である。

反応温度は−３０〜】２０℃、好ましくは一１０〜８０
°Ｃの範囲である。

溶媒の使用量は任意であるが、通常は一般式（２）で示
されるカルボン酸誘導体に対して０．　１〜３０重量培
である。

反応終了後は、反応の進行に伴って生成したハロゲン化
水素と脱ハロゲン化水索の塩等をろ別あるいは水洗等の
方法によって除き、改に溶媒を留去して生成物を得る。

上記の方法で得られた生成物は再結晶、溶媒洗浄、クロ
マト分離などの公知の方法により精製することができる
。

かくして得られる本発明のピペリジン透導体としては例
えばペンタキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジニル）ジエチレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　
、Ｎ”　、Ｎ”−ペンタアセテート、ペンタキス（１，
２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジニル）ジ
エチレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、ｌ’Ｊ”　、Ｎ
”−ペンタアセテート、ペンタキス（１−プロピル−２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジエ
チレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ“　　Ｎｌｌ、Ｎ１”−
ペンタアセテート、ペンタキス（１−アセチル−２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジエチレ
ントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’Ｎｌ！、Ｎｌ″−ペンタア
セテート、ペンタキス（１−ブタノイル−２，２，８，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジエチレントリ
アミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ’“−ペンタアセ
テート、ペンタキス（１−才クタノイル−２，２゜６．
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジエチレントリ
アミノ−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ’′−ペンタアセ
テート、ペンタキス（１−ドデカノイル−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジエチレントリ
アミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ＋　、　Ｎ　Ｉ　Ｉ　、　Ｎ　ｌ　
＋−ペンタアセテート、ペンタキス（Ｉ−オクタデカノ
イル−２，２，６，８−テトラメチル−４−ピペリジニ
ル）ジエチレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、
Ｎ”−ペンタアセテ−１・、ペンタキス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ジプロピレント
リアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ’”−ペンタア
セテート、ペンタキス（１，２，２，６，６−ベンタメ
チルー４−ピペリジニル）ジプロピレントリアミン−Ｎ
、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ”　−ペンタアセテート、ペ
ンタキス（ｌ−アセチル−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）ジプロピレントリアミン−Ｎ、
Ｎ、Ｎ’　、Ｎｌｌ、Ｎｌｌ−ペンタアセテート、ペン
タキス（］−］オクタデカノイルー２．２，６．６テト
ラメチル−４−ピペリジニル）ジプロピレントリアミン
−、Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ”−ペンタアセテート
、ペンタキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジニル）ジエチレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、
Ｎ”　、Ｎ′′−ペンタプロピオネート、ペンタキス（
１，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジニル
）ジエチレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ
”−ペンタプロピオネート、ペンタキス（１−オクタデ
カノイル−２，２，６，６−ナトラメナル−４−ピペリ
ジニル）ジエチレントリアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ９、Ｎ′、
Ｎ“′−ペンタプロピオネート、ｌ＼キサキス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル〉トリエチ
レンテトラアミン−Ｎ。

Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”ｌ、Ｎ＋Ｉｌ、Ｎ１１１−へキサアセ
テート、ヘキサキス（１，２，２，６，６−ベンタメチ
ルー４−ピペリジニル）トリエチレンテトラアミン−Ｎ
、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ”　’Ｎｌｌ＋−へキサアセ
テート、ヘキサキス（１−プロピル−２，２，６，６−
ベンタメチルー４−ピペリジニル）トリエチレンテトラ
アミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ″２′　Ｎｌ＋１
−へキサアセテート、ヘキサキス（１−ア七チル−２゜
２．６．６−ベンタメチルー４−ピペリジニル）トリエ
チレンテトラアミン−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ’１　、　Ｎ
　ｌ　ｌ　＋　、　Ｎ　＋　Ｉ　＋−へキサアセテート
、ヘキサキス（ｌ−オクタノイル−２，２，６，６−ベ
ンタメチルー４−ピペリジニル）トリエチレンテトラア
ミン−Ｎ　、　Ｎ　、　Ｎ　ｌ　、　Ｎ　ｌ　ｌ　、　
Ｎ　＋　ｌ　ｌＮ１１＋−へキサアセテート、ヘキサキ
ス（１−ドデカノイル−２，２，６，６−ベンタメチル
ー４−ピペリジニル）トリエチレンテトラアミン−Ｎ、
Ｎ、Ｎ”　Ｎ　ｌ　ｌ　、　Ｎ　ｌ　ｌ　Ｉ　、　Ｎ”
゛−ヘキサアセテート、ヘキサキス（１−オクタデカノ
イル−２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジニ
ル）トリエチレンテトラアミン−Ｎ、ＮＮ　ｌ　、　Ｎ
　ｌ　１　、　Ｎ　＋　＋　”　Ｎ＋＋＋　−へキサア
セテート、ヘキサキス（２，２，６，６−チトラメチル
ー４−ピペリジニル）トリプロピレンテトラアミン−Ｎ
、Ｎ、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ”　’　、Ｎ″”−へキサプ
ロピオネート、ヘキサキス（１，２，，２，６，６−ベ
ンタメチルー４−ピペリジニル）トリプロピレンテトラ
アミン−Ｎ、Ｎ、Ｎｌ、Ｎｌｌ、Ｎ′′、Ｎ“′”−へ
キサプロピオネート、ヘキサキス（１−オクタデカノイ
ル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル
）トリプロピレンテトラアミン＝Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ′Ｎ
　Ｉ　Ｉ　ｌ　、　Ｎ　ｌ　ｌ　＋−へキサプロピオネ
ート、ヘプタキス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジニル）テトラエチレンペンタアミン−Ｎ、Ｎ
、Ｎ’　、Ｎ”　、Ｎ”　’　、Ｎ’”′−へブタプロ
ピオネート、ヘプタキス（２゜２．６．６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）テトラプロピレンペンタアミン
−Ｎ、Ｎ、Ｎ’　。

Ｎ　Ｉ　ｌ　、　Ｎ　＋　’“　Ｎ　ｌ　ｌ　１−ヘブ
タアセート、ヘプタキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）テトラエチレンペンタアミン−
Ｎ＋Ｎ＋Ｎ’、Ｎ”＋Ｎ”’＋Ｎ”’−へブタプロピオ
ネートおよびヘプタキス（２，２゜６．６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）テトラプロピレンペンタアミン
−Ｎ、Ｎ、Ｎ“　Ｎ　＋１　、　Ｎｌ　１　＋　、　Ｎ
ｌ　“′−へブタプロピオネート等が例示される。

本発明のピペリジン誘導体を合成樹脂および塗料用安定
剤として使用する場合、合成樹脂および塗料への配合量
は合成樹脂１００重量部に対して通常０．０１〜５重量
部、好ましくは、０．０５〜２重量部であり、その配合
方法としては合成樹脂中に安定剤、顔料、充填剤等を混
和配合するための公知の装置および操作法が殆どそのま
ま適用できる。

本発明の合成樹脂および塗料用安定剤を使用するにあた
っては他の添加剤、例えば酸化防止剤、光安定剤、金属
不活性剤、金属石鹸類、造核剤、滑剤、帯電防止剤、難
燃剤、顔料および充填剤等を併用してもよい。

とりわけフェノール系酸化防止剤を併用することによっ
て熱および酸化安定性を改善することができる。これら
のフェノール系酸化防止剤とじては、例えば、２，６−
ジーｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｎ−オクタデ
シル３−　（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート、１，１．３−１リス（２−
メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブ
タン、１，３．５−）ジメチル−２１４１６）リス（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベン
ゼン、１，３．５−）リス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシヘンシル）イソシアヌレート、１，３．
５−トリス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル）イソシア
ヌレート、１，３．５−）リス（２，６−ジメチル−３
＝ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレ
ート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート）、テトラキス（３−（３−ｔ−ブチル−５−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、２
，２′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノール）モノアクリレート等が例示される。

また、ホスファイト系酸化防止剤を併用することによっ
て、その色相を改善することができる。

これらのホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、
トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリル
ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２
−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、ビ
ス（２，４−ジー１−ブチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）−４，４’　−ビフエニレンジボスフ
ォナイトなどが挙げられる。

また、ジラウリルチオジブロビオネ−！・、シミリスチ
ルチオジプロピオネート、システアリルチオシブロビオ
ネート、ペンタエリスリトール　テトラキス（３−ラウ
リルチオプロピオネート）なとのイオウ系酸化防止剤を
併用することも可能である。

本発明の合成樹脂および塗料用安定剤により安定化され
る合成樹脂としては、低密度ポリエチレン、高密度ポリ
エチレン、リニアー低密度ポリエチレン、塩素化ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ＥＶＡ樹脂
、Ｐ　Ｍ　Ｍ　Ａ樹脂、ポリスチレン、耐衝撃性ポリス
チレン、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアセ
タール、ポリウレタン、不飽和ポリエステル樹脂および
などが例示される。更に、これらの樹脂とイソプレンゴ
ム、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共
重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム、エチレン
−プロピレン共重合ゴムなとのゴム類とのブレンド品で
あってもよい。

塗料としては、油性塗料、酒精塗料、繊維素訴導体塗料
、合成樹脂塗料、合成樹脂エマルジョンペイント、水性
焼付塗料等が挙げられる。

以下に実施例によって本発明を具体的に説明するが、本
発明は何等これらに限定されるものではない。

実施例　１　　（１−１化合物の製造）温度計、攪はん
Ｈ置およびディーンスタークトラップをそなえた１１フ
ラスコに、ペンタメチルジエチレンドリアミンベンタア
セテート４６．３５ｇ（０，１モル）、２，２，６．６
−テトラメチル−４−ピペリジツール８６．４９ｇ　（
０，５５モル）、ｎ−へブタン２００ｇおよびリチウム
アミド０．ｌ１ｇ（０，００δモル）を仕込み、昇温し
、還流温下ディーンスタークトラップにて反応の進行に
伴って生成してくるメタノールを除去し更に４時間還流
下反応させた反応終了後、６０℃まで冷却し、６０℃温水５０ｇを加
え、ｎ−へブタン層を洗浄し、次いて水層な分液した。

ｎ−へブタン層は溶媒を減圧留去し、次いで再結晶する
ことにより白色結晶のペンタキス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）ジエチレントリアミンペ
ンタアセテ−）８７．１７ｇ　（収率８０％）を得た。

融点　　　８７〜８９℃ 元素分析　Ｃ５９Ｈ＋ｏｅＮｓＯｔｏ　　□内計算値Ｃ
：６５．　１０％　　（６５，０４％）Ｈ：１０．０４
％　　　（９，９９％）Ｎ；１０．２９　％　　　（１
０，２８％）ＦＤ−マス　１０８８（親ピーク）を確認
実施例　２　　（［−２化合物の製造）温度計、攪はん
装置および冷却管をそなえたｌＩフラスコに、２，２，
６．６−テトラメチル−４−ピペリジツール８９．４９
ｇ　（０，５５モル）、トリエチルアミン５５．６５ｇ
　（０，５５モル）およびトルエン４００ｍ１を仕込み
、室温にて攪はんを始める。これにトリエチレンテトラ
ミンヘキサアセチルクロリト４８．５６ｇ　（０，１モ
ル）のトルエン１００　ｍ　ｌ溶液を２時間かけて滴下
した。この間反応熱によって昇温するので水浴にて６０
℃以下に保った。

滴下終了後６０°Ｃ温水にて水洗し、分ｉ夜し、トルエ
ン層は減圧留去し、黄色油状物を得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトにて精製することにより淡黄色ガラス
状のへキサキス（２，２，６゜６−テトラメチル−４−
ピペリジル）トリエチレンテトラミンヘキサアセテート
８１．［３３ｇ　（収率６２％）を得た。

元素分析　Ｃ７２Ｈ１３２Ｎ１００１２　０内計算値Ｃ
；６５．０９％　（６５，０３％）Ｈ：　　９．９８％　（１０，００％）Ｎ；１０．４９
％　（１０，５３％）ＦＤ−マス　１３２Ｂ　＜ｖＪＡピー’７）２［ｆ実施
例　３　　（１−３化合物の製造）実施例２と同様な１
１フラスコに、１，２，２゜６．６−ベンタメチルー４
−ピペリジツール８９．９２ｇ　（０，５２５モル）、
ピリジン４１．５３ｇ　（０，５２５モル）および酢酸
エチル４００ｍ１を仕込み、室温にて攪はんを始める。

これにトリエチレンテトラミンヘキサアセチルクロリト
ロ１、ｌ１ｇ（０，１モル）の酢酸エチル１００ｍ１溶
液を３時間かけて滴下した。この間反応熱によって昇温
するので水浴にて６０℃以下に保った。

滴下終了後６０℃温水にて水洗し、分液し、酢酸エチル
層は減圧留去し、黄色油状物を得た。これをシリカゲル
カラムクロマトにて精製することにより淡黄色油状のへ
キサキス（１，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ピ
ペリジル）トリエチレンテトラミンヘキサアセテ−）９
９．６８ｇ　（収率７１％）を得た。

元素分析　Ｃ７５Ｈ＋３４Ｎ＋ｏＣｈ２０内計算値Ｃ；
Ｇ６．２９％　（６６，２５％）Ｈ；１０．３１％　（１０，２６％）Ｎ；　　９．９９％　（９，９１％）ＦＤ−マス　１４１２　（親ピーク）を確認実施例　４下記配合物をミキサーで５分間混和後１８０℃ミキソン
グロールで溶融混練し得たコンパウンドを２１０″Ｃ熱
ブレスで厚さ１ｍｍのシートに成型し、１５０Ｘ３０Ｘ
１ｍｍの試験片を作成した。

この試験片をサンシャインウエザーー〇−メーター（九
Ｒ：カーボンアーク、ブラックパネル温度：８３±３°
Ｃ、スプレー周間：１２０分、スプレ一時間：１８分）
中で光照射させ、６０時間毎にエビ状に折りまげ、折り
切れるまでの時間を測定し、耐候性を評価した。

その結果を表−１に示す。

（配合）未安定化ポリプロピレン　　ｔｏｏｔ量部ステアリン酸
カルシウム　　０．１　〃２．６−ジーｔ−ブチル −４−メチルフェノール　　０．０５／／供試化合物　
　　　　　　　０．１５／／なお、表においてＬＳ−１
および２は以下の化合物を示すものである。

ＬＳ−１２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）−５− クロロベンゾトリアゾールＬＳ−２ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート表−１実施例　５下記配合物を２００℃で押し出し加工してベレットを作
成し、このベレットを用い２３０℃で射出成型して厚さ
２　ｍ　ｍの試験片を作成した。

この試験片をフェートメーター（光源：紫外線カーボン
アーク、ブラックパネル温度：６３±３℃）で１５００
時間ｐｇ、射し、変色度を未叩剥試験片との色差ΔＹｌ
て評価した。

その結果を表−２に示す。

（配合）〉ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１００重量部ペンタエリ
スリトール　テトラキス［３−（３，５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート１０．０５／／ジステアリル
−３，３′−チオジプロピオネート　　　　　０．２　〃供試化合物　
　　　　　　　　０．２７表−２

Claims

【特許請求の範囲】１）一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１）（式中、Ｒ＿１は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基
または炭素数２〜１８のアシル基を示し、ｋ、ｍおよび
ｎはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）で示されるピペリジン誘導体２）一般式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼（２）（式中、Ｒ＿２は水酸基、炭素数１〜４のアルコキシル
基またはＣｌ、ＢｒもしくはＩなどのハロゲン原子を示
し、また、ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ独立に１〜３の整
数を示す。）で示されるカルボン酸誘導体と一般式（３）▲数式、化
学式、表等があります▼（３）（式中、Ｒ＿１は炭素数１から３のアルキル基または炭
素数２〜１８のアシル基を示す。）で示されるピペリジノール誘導体とを反応させることを
特徴とする一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１）を有する。）で示されるピペリジン誘導体の製造法。３）一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１）（式中、Ｒ＿１は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基
または炭素数２〜１８のアシル基を示し、ｋ、ｍおよび
ｎはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。）で示されるピペリジン誘導体を有効成分とする有機物質
用安定剤。