JPS6232305A - 高精度干渉計装置 - Google Patents

高精度干渉計装置

Info

Publication number
JPS6232305A
JPS6232305A JP60171420A JP17142085A JPS6232305A JP S6232305 A JPS6232305 A JP S6232305A JP 60171420 A JP60171420 A JP 60171420A JP 17142085 A JP17142085 A JP 17142085A JP S6232305 A JPS6232305 A JP S6232305A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
splitter
optical path
beam splitter
mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60171420A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0711406B2 (ja
Inventor
Takeshi Sudo
武司 須藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
Priority to JP60171420A priority Critical patent/JPH0711406B2/ja
Publication of JPS6232305A publication Critical patent/JPS6232305A/ja
Publication of JPH0711406B2 publication Critical patent/JPH0711406B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、干渉計、特に干渉計を用いた物体の移動量を
検出するための干渉計装置に関する。
〔発明の背景〕
従来、物体の位置や移動量を正確に計測するために干渉
計を用いた装置が種々実用化されている。
第6図はマイケルソンの干渉計の原理的構成を示してい
る。レーザー光源1からの光束は光分割器としてのハー
フミラ−2で反射光と透過光とに分割される。レーザー
光源としてはHe−Neレーザー等の安定なものが用い
られる。ハーフミラ−2で反射された光束は参照波とな
るもので、固定鏡3で反射されて戻りハーフミラ−2を
透過する。他方、レーザー光源1から供給されてハーフ
ミラ−2を透過する光束は移動鏡4で反射されて戻り、
ハーフミラ−2で更に反射され、前述の固定鏡からの光
束と干渉してディテクター5上で干渉縞を形成する。移
動鏡4は被測定物体4aを載置する部材と一体となって
おり、被測定物体の移動量と同量だけ移動する。移動鏡
4が動くとディテクター上での干渉縞の明暗が変化し、
その明暗の変化量によって移動鏡、部ち被測定物体の移
動量を測定することが可能である。
このような干渉計によれば、信号分割精度により使用波
長を16分割した程度までの精度で計測を行うことが可
能であり、例えば波長λ−633r+lIIのtle−
Neレーザーを用いる場合には、0,04μm程度の測
定精度が可能となる。しかし、これよりも高精度が要求
される場合には、固定鏡及び被検物体側の移動鏡での光
束の反射回数を増す、二とが必要となるため、光学系が
複雑となって干渉縞を形成する光量が減少し、信号強度
が低下して検出精度を高めることが難しくなり、また装
置全体の複雑化・大型化が避けられなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、比較的小型でありながら信号分割精度
を同一としても測定精度を格段に向上させることのでき
る干渉計装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明による干渉計装置は、被測定物体と一体的に移動
する移動鏡の移動量に対し、検出系での干渉縞の変化量
が4倍となるよう構成したものである。即ち、コヒーレ
ント光束を供給する光源手段、該光源手段からの光束を
所定の入射面内にて移動鏡に向かう第1光路10と固定
鏡に向かう第2光路20とに分割する光分割器、前記第
1光路上に配置され前記移動鏡との間で4つの往復光路
を形成し、これら4つの光路に沿って前記光分割器から
の光束を該移動鏡上にて4回反射させた後に前記光分割
器へ戻すための第1往復光路形成手段、前記第2光路上
に配置され前記固定鏡との間で4つの往復光路を形成し
、これら4つの光路に沿って前記光分割器からの光束を
該固定鏡上にて4回反射させた後に前記光分割器へ戻す
ための第2往復光路形成手段、とを有するものである。
ここで、「入射面」は、該光分割器に入射する光線と、
透過及び反射する光線とを含む平面として定義されるも
のである。
そして、第1往復光路形成手段は、前記光分割器の入射
面と光学的に一致する第1入射面と該第1入射面と平行
な第2入射面とを有する第1偏光ビームスプリッタ−と
、該第1偏光ビームスプリッタ−の一方の入射面内にて
反射された光束を他方の入射面内へ導(光束移送部材と
、前記第2の入射面内にて前記移動鏡から反射して該第
1偏光ビームスプリッタ−を通過する光束を再度前記移
動鏡へ向ける往復反射部材と、前記第1偏光ビームスプ
リッタ−8と前記移動鏡との間の光路中に配置された四
分の一波長板とを有している。同様に、第2往復光路形
成手段は、前記光分割器の入射面と光学的に一致する第
1入射面と該第1入射面と平行な第2入射面とを有する
第2偏光ビームスプリッタ−と、該第2偏光ビームスプ
リッタ−の一方の入射面内にて反射された光束を他方の
入射面内へ轟く光束移送部材と、前記第2の入射面内に
て前記固定鏡から反射して該第1偏光ビームスプリッタ
−を通過する光束を再度前記移動鏡へ向ける往復反射部
材ど、前記第2偏光ビームスプリッタ−と前記固定鏡と
の間の光路中に配置された四分の一波長板とを有してい
る。
尚、第1ビームスプリッタ−の入射面と第1偏光ビーム
スプリッタ−の入射面とが「光学的に一敗する」とは、
両ど−ムスプリッターの間に介在する反射部材等の光学
素子を経由しても実質的に第1ビームスプリッタ−の入
射面が第1偏光ビームスプリッタ−の入射面と合致して
いることを意味する。第2偏光ビームスプリッタ−につ
いても同様である。
〔実施例〕
以下、図示した実施例について説明する。第1図は、本
発明による第1実施例の構成を示す斜視図である。第1
図中には、光線の進行方向を矢印で示すと共に、各位置
における偏光の偏光方向を示すための矢印と記号S(入
射面に垂直)、P(入射面に平行)により偏光方向の識
別を示した。
レーザー光源1から発するコヒーレント光束は、移動鏡
4と固定鏡3とに向かう第1と第2の光路に分割するた
めの光分割器としての半透過プリズム2に入射する。こ
のとき光源1からの光束は、半透過プリズム2の入射面
に平行な偏光成分のみの光線、即ちP偏光となっており
、そのうち50%が半透過プリズム2を透過して第1光
路10に沿って進み移動鏡へ向けられ、他の50%が半
透過プリズム2の半透過部2aで反射されて第2光路2
0に沿って進み固定鏡へ向けられる。
第1光路10′I:には、第1偏光ビームスプリッタ−
FBIが配置されており、第1偏光ビームスプリッタ−
と移動鏡4との間の光路中にはλ24板Qが配置されて
いる。第1偏光ビームスプリッタ−FBIは入射面に平
行なP偏光を透過し、入射面に垂直なS偏光を反射する
特性を有している。従って、第1光路10に沿って半透
過プリズム2からこの第1偏光ビームスプリッターPB
Xに入射するP偏光は、半透過プリズム2の入射面と実
質的に一致する第1入射面内を透過して移動鏡4を往復
する第1の止l友路旦に沿って進み、移動鏡4上の点A
tで反射された後第1偏光ビームスプリツタ−PBIに
戻ってくる。第1偏光ビームスプリッタ−FBIに戻っ
てきた光線は、その途中でλ/4板Qを2回通過してい
るので偏光方向が90度変換されてS偏光となっており
、このため第1偏光ビームスプリッタ−FBIの第1入
射面内で反射される。
この反射されたS偏光は、光束移送部材としての直角プ
リズム6に入射する。直角プリズム6は第1@光ビーム
スプリッタ−の第1入射面に対して45度傾斜した2つ
の反射面6a、6bを有している。
これに入射するS偏光は、直角プリズム6の各斜面で反
射されて、第1偏光ビームスプリッタ−PBlの第2入
射面に導かれる。そしてS偏光は、第2入射面内で反射
され、移動鏡4を往復するl止1人夜4に沿って進み、
移動鏡上の点A、で反射された後第1偏光ビームスプリ
ツタ−FBIに戻る。
このとき第2往復光路中にもλ/4板Qが配置されてい
るので、偏光方向が90度変換されたP偏光となってお
り、このため第1偏光ビームスプリフタ−FBIを第2
入射面に沿って透過する。
第2入射面に沿って第1偏光ビームスプリッタ−FBI
を透過したP偏光は、往復反射部材としての直角プリズ
ム7の互いに直交する2つの反射面で反射されて第1偏
光ビームスプリッタ−に戻ってくる。この往復反射部材
7によって、P偏光は進行方向を180度変換されると
共に平行移動されて第2入射面内で異なる位置、図中で
は下方に変位されてくる。このP偏光は第1偏光ビーム
スプリッタ−をその第2入射面に沿って通過して、玉−
LΩ11L工乃遷に導かれ、移動鏡4上の点^、で反射
された後第1偏光ビームスプリ、ターPBlに戻ってく
る。第3往復光路13中にもλ/4板Qが配置されてい
るので、偏光方向が90度変換されたS偏光となって、
第2入射面内で反射され、直角プリズム6の各斜面で反
射されて、今度は逆に第1偏光ビームスプリッターFB
Iの第1入射面に導かれる。第1入射面に達するS偏光
の位置器よ、前記往復反射部材7による光線の変位量に
等しい量だけ移動しており、この位置で移動鏡4に向か
う第±11友路旦に沿って移動鏡へ向けて反射される。
移動鏡4の点^4で反射されて第1偏光ビームスプリッ
ターFBIに戻ってくる光線は、第4光路中にも配置さ
れたλ/4板Qによって偏光方向が90度変換されてP
偏光となり、第1偏光ビームスプリッタ−FBIを第1
入射面に沿って透過する。このi3遇P偏光は、半透過
プリズム2を通過して、後記する固定鏡からの光線と共
に検出器5に入射する。
尚、第2A図は入射面に平行な面での光線の進行順序を
示す側面図であり、第2B図は入射面に垂直な面での第
2光路中の光線の進行順序を示す平面図である。各図に
おいて、光線の進む経路に沿って矢印を記したが、実際
には同一直線上に重複する光路を、分かり易くするため
に故意に分離して示すと共に、移動鏡と固定鏡での光線
の入射角・反射角も実際の垂直状態から故意にずらして
示した。
以上が、光分割器としての半透過プリズム2を通過して
移動反射鏡4に向かい、4回の反射を受けて戻ってくる
ための光学系である。そして、半透過プリズム2の半透
過面2aで反射される第2光路20、即ち、固定鏡3で
4回の反射を受けて戻ってくるための光学系は、光路屈
曲用の反射鏡Mを介してはいるが、実質的に前記の第1
光路と等価である。具体的には、第1図に示した如く、
第1光路10における第1偏光ビームスプリッタ−PB
Iが第2偏光ビームスプリッタ−PH2に対応し、光束
移送部材としての直角プリズム6が直角プリズム8に対
応し、さらに往復反射部材としての直角プリズム7が直
角プリズム9に対応する。そして、第2偏光ビームスプ
リッターPR2と固定鏡3との間の各光路中に、λ/4
板Qが配置されtおり、これを往復通過する直線偏光が
その偏光方向を90度変換されることも同様である。
従って、半透過プリズム2で反射されて第2光路を進む
P偏光は、反射鏡Mで反射された後、第2偏光ビームス
プリッタ−PH1の第1入射面を透過し、まず固定鏡上
の点B1で反射され、λ/4板Qを往復通過して(第1
往復光路21)S偏光となり、光束移送部材としての直
角プリズム8を通って第2偏光ビームスプリッタ−の第
2入射面内に導かれる。そして固定鏡上の点B2で反射
され、λ/4仮Qを往復通過して(第2往復光路22)
P偏光となり、往復反射部材としての直角プリズム9を
経由し、点B、での反射を受けてλ/4板Qを往復通過
して(第3往復光路23)S偏光となる。次に、再び光
束移送部材としての直角プリズム8を通って第2偏光ビ
ームスプリッタ−PH2の第1入射面内に戻り、固定鏡
上の点B4で反射されてλ/4板、Qを往復通過して(
第4往復光路24)P偏光となった後、第2偏光ビーム
スプリッタ−PH2を透過する。そして、反射鏡Mを経
てビームスプリッタ−2に戻り、ここで反射されて第2
光路に沿って移動鏡4から戻ってくる光線とともに検出
器5に入射する。
上記の構成において、各偏光ビームスプリッタ−FBI
 、 I’B2の第1入射面は、第1往復光路11゜2
1と第4往復光路14.24とを含む面であり、第2入
射面は、第2往復光路12.22と第3往復光路13゜
23とを含む面である。そして、第1偏光ビームスプリ
ッタ−P、B1と移動鏡4、及び第2偏光ビームスプリ
ッタ−PH2と固定鏡3との間に配置されるλ/4板Q
を、第1図に示したごとく第1と第4の往復光路で共用
すると共に、第2と第3の往復光路で共用するのみなら
ず、第1から第4までの4つの往復光路を横切るように
配置された大きなλ/4板Qとして一体的に設けること
も可能である。
さて、第3図の斜視図に示した本発明による第2実施例
は、上記第1実施例と基本的には同一であるが、移動鏡
4での第2往復光路12から第3往復光路13へ光線を
反射するための往復反射部材(直角ブ11ズム7)と、
固定鏡3での第2往復光路22から第3往復光路23へ
光線を反射するための往復反射部材(直角プリズム9)
とを1つの直角プリズムで共用する構成とした点で異な
っている。
そして、このために移動鏡4側の第1光路中における往
復反射部材に達する光路と、固定鏡3の第2光路中にお
ける往復反射部材に達する光路とを第3の偏光ビームス
プリッタ−PB3で交差させると共に、第3偏光ビーム
スプリッタ−PB3の移動鏡4側、即ち第1偏光ビーム
スプリッタ−FBI との間に、λ/2板Hが挿入され
ている。
第4A図は入射面に平行な面での光線の進行順序を示す
側面図であり、第4B図は入射面に垂直な面での第2光
路中の光線の進行順序を示す平面図である。これらの図
においても、光線の進む経路に沿って矢印を記したが、
実際には同一直線上に重複する光路を、分かり易くする
ために故意に分離して示すと共に、移動鏡と固定鏡での
光線の入射角・反射角も実際の垂直状態から故意にずら
して示した。
このような第2実施例の構成において、移動鏡4例の第
2往復光路12を経て、第1偏光ビームスプリッタ−P
alを透過したP偏光は、λ/2板Hを通過することに
よって、偏光方向が90度変換されてS偏光となり、第
3偏光ビームスプリ・7ターPB3で反射されて、直角
プリズム30に入射する。
直角プリズム30では、各反射面で反射されることによ
って進行方向が180度変換されると共に、同−入射面
内での位置が変位され、再び第3偏光ビームスプリッタ
−PB3で反射されて、λ/2板Hを通過する。λ/2
板Hを通過した光線は、P偏光となって第1偏光ビーム
スプリ・ツタ−PBIを透過して、第3往復光路に沿っ
て移動鏡4に達するつ他方、固定鏡3側の第2往復光路
22を経て、第2偏光ビームスプリッタ−PB2を透過
したP偏光は、反射鏡Mで反射されて、第3偏光ビーム
スプリッターPB3を透過して直角プリズム30に入射
し、同様に各反射面で反射されることによって進行方向
が180度変換されると共に、同−入射面内での位置が
変位され、再び第3偏光ビームスプリッタ−PB3を透
過する。そして反射鏡Mで反射されてそのまま第2偏光
ビームスプリッタ−PI’12に達し、これを透過して
第3往復光路23に沿って固定鏡3に達する。
第5図の斜視図に示した第3実施例では、光源手段1か
ら、P偏光とS偏光との互いに直交する直線偏光のコヒ
ーレント光束を供給する構成とし、このために光源から
の光束を移動m4と固定鏡3とに分離する光分割器2を
も偏光ビームスプリッターで構成したものである。従っ
て、前述の第2実施例における光分割器2と第3偏光ビ
ームスプリッタ−PB3とを一体の偏光ビームスプリッ
タ−として構成し、また固定鏡3例の第2光路上に新た
にλ/2板)Iを配置したものである。
このような第3実施例の構成において、光源手段1から
供給されるP偏光は、光分割器2としての偏光ビームス
プリッタ−を透過して第1偏光ビームスプリッタ−FB
Iに達し、以降の光路は前述の第2実施例と全く同様に
して、移動uI4での4回の反射を受けた後、再び光分
割器2に戻り、これを通過して検出器5に入射する。他
方、光源手段1から供給されるS偏光は、光分割器2と
しての偏光ビームスプリッタ−で反射された後に、λ/
2板Hを通過し、ここで偏光方向の90度の回転を受け
てP偏光となり、第2偏光ビームスプリッタ−PB2に
達する。第2偏光ビームスプリッタ−PB2以降の光路
は前述の第2実施例と全く同様であり、固定鏡3での4
回の反射の受けた後、再び第2偏光ビームスプリッター
PB2に戻りP偏光の状態でこれを通過し、λ/2板I
4に達する。そしてλ/2板Hで偏光方向の90度の回
転を受けてS偏光に戻り、ビームスプリッタ−2として
の偏光ビームスプリッタ−によって反射されて、検出器
5に入射する。
上記第3実施例の如く、光源手段lからあらかじめP偏
光及びS偏光を供給する場合には、両部光の周波数を若
干具なる値としておき、検出器5によってこれらの干渉
による唸りを検出することによって、干渉縞の測定精度
を高めることも可能である。
〔発明の効果〕
以上の如く、本発明によれば移動鏡及び固定鏡において
、おのおの4回の反射を行うことができるため、従来と
同程度の波長分解能を有する場合にも、−挙に4倍の精
度での測定が可能となり、掻めて精度の高い測定が可能
となる。しかも、光学系の構成を余り複雑化することな
く、また偏光によって光束を繰り返し各反射面へ効率良
<4<構成であるため、4回反射に必要な長い光路の割
には光量の減衰が少す<、信号強度を大きく低下させる
恐れもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による第1実施例の構成を示す斜視図、
第2A図は第1実施例において入射面に平行な面での光
線の進行順序を示す側面図であり、第2B図は入射面に
垂直な面での第2光路中の光線の進行順序を示す平面図
、第3図は第2実施例の構成を示す斜視図、第4A図は
第2実施例において入射面に平行な面での光線の進行順
序を示す側面図であり、第4B図は入射面に垂直な面で
の第2光路中の光線の進行順序を示す平面図、第5図は
第3実施例の構成を示す斜視図、第6図はマイケルソン
の干渉計の原理的構成図である。 〔主要部分の符号の説明〕 l・・・光源手段 2・・・ビームスプリッター 3・・・固定鏡 4・・・移動鏡 5・・・検出器 FBI・・・第1偏光ビームスプリッタ−PH1・・・
第2偏光ビームスプリッタ−PH1・・・第3偏光ビー
ムスプリッタ−6,8・・・光束移送部材 7.9.30・・・往復反射部材 Q・・・λ/4板 H・・・λ/2板 出廓人  日本光学工業株式会社 代理人 弁理士 渡 辺 隆 男 第ZA図 第4A図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)コヒーレント光束を供給する光源手段、該光源手
    段からの光束を所定の入射面内にて移動鏡に向かう第1
    光路と固定鏡に向かう第2光路とに分割する光分割器、
    前記第1光路上に配置され前記移動鏡との間で4つの往
    復光路を形成し、これら4つの光路に沿って前記ビーム
    スプリッターからの光束を該移動鏡上にて4回反射させ
    た後に前記光分割器へ戻すための第1往復光路形成手段
    、前記第2光路上に配置され前記固定鏡との間で4つの
    往復光路を形成し、これら4つの光路に沿って前記光分
    割器からの光束を該固定鏡上にて4回反射させた後に前
    記光分割器へ戻すための第2往復光路形成手段、とを有
    することを特徴とする高精度干渉計装置。
  2. (2)前記第1往復光路形成手段は、前記光分割器の入
    射面と光学的に一致する第1入射面と該第1入射面と平
    行な第2入射面とを有する第1偏光ビームスプリッター
    と、該第1偏光ビームスプリッターの一方の入射面内に
    て反射された光束を他方の入射面内へ導く光束移送部材
    と、前記第2の入射面内にて前記移動鏡から反射されて
    該第1偏光ビームスプリッターを通過する光束を前記移
    動鏡の異なる位置へ向けて反射する往復反射部材と、前
    記第1偏光ビームスプリッターと前記移動鏡との間の光
    路中に配置された四分の一波長板とを有し、 前記第2往復光路形成手段は、前記光分割器の入射面と
    光学的に一致する第1入射面と該第1入射面と平行な第
    2入射面とを有する第2偏光ビームスプリッターと、該
    第2偏光ビームスプリッターの一方の入射面内にて反射
    された光束を他方の入射面内へ導く光束移送部材と、前
    記第2の入射面内にて前記固定鏡から反射されて該第2
    偏光ビームスプリッターを通過する光束を前記固定鏡の
    異なる位置へ向けて反射する往復反射部材と、前記第2
    偏光ビームスプリッターと前記固定鏡との間の光路中に
    配置された四分の一波長板とを有することを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の高精度干渉計装置。
JP60171420A 1985-08-03 1985-08-03 高精度干渉計装置 Expired - Lifetime JPH0711406B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60171420A JPH0711406B2 (ja) 1985-08-03 1985-08-03 高精度干渉計装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60171420A JPH0711406B2 (ja) 1985-08-03 1985-08-03 高精度干渉計装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6232305A true JPS6232305A (ja) 1987-02-12
JPH0711406B2 JPH0711406B2 (ja) 1995-02-08

Family

ID=15922800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60171420A Expired - Lifetime JPH0711406B2 (ja) 1985-08-03 1985-08-03 高精度干渉計装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0711406B2 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5631523A (en) * 1979-08-17 1981-03-30 Lemfoerder Metallwaren Ag Ball joint
JPS58169004A (ja) * 1982-03-31 1983-10-05 Agency Of Ind Science & Technol 大気中での高精度干渉測長法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5631523A (en) * 1979-08-17 1981-03-30 Lemfoerder Metallwaren Ag Ball joint
JPS58169004A (ja) * 1982-03-31 1983-10-05 Agency Of Ind Science & Technol 大気中での高精度干渉測長法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0711406B2 (ja) 1995-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4859066A (en) Linear and angular displacement measuring interferometer
US6897962B2 (en) Interferometer using beam re-tracing to eliminate beam walk-off
US7440113B2 (en) Littrow interferometer
US4883357A (en) Dual high stability interferometer
US7355719B2 (en) Interferometer for measuring perpendicular translations
US5847828A (en) Michelson interferometer using matched wedge-shaped beam splitter and compensator
EP0250306A2 (en) Angle measuring interferometer
US20050259268A1 (en) Heterodyne laser interferometer for measuring wafer stage translation
EP0244275A2 (en) Angle measuring interferometer
US20070188767A1 (en) Optics system for an interferometer
JPH07101166B2 (ja) 干渉計
US7705994B2 (en) Monolithic displacement measuring interferometer with spatially separated but substantially equivalent optical pathways and optional dual beam outputs
US5305089A (en) Laser interferometer including an optical unit having a corner cube prism, a parallelogram prism, a triangle prism, and a polarizing plate intergrated to form one body
US4807997A (en) Angular displacement measuring interferometer
JPS61219803A (ja) 物理量測定装置
CN108286943B (zh) 应用于光刻系统工作台的位移测量光学系统
US6483593B1 (en) Hetrodyne interferometer and associated interferometric method
CN109855530B (zh) 干涉仪系统及其使用方法
US6519042B1 (en) Interferometer system for displacement and straightness measurements
JPS62233704A (ja) 差動平面鏡干渉計システム
JPS6232305A (ja) 高精度干渉計装置
US6717678B2 (en) Monolithic corrector plate
US6876451B1 (en) Monolithic multiaxis interferometer
JPH0463305A (ja) 偏光ビームスプリッタ及びレーザ干渉測長計
JP3141363B2 (ja) 干渉計

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term