JPS6230895A - ニツケル−硼素合金めつき方法 - Google Patents
ニツケル−硼素合金めつき方法Info
- Publication number
- JPS6230895A JPS6230895A JP17012885A JP17012885A JPS6230895A JP S6230895 A JPS6230895 A JP S6230895A JP 17012885 A JP17012885 A JP 17012885A JP 17012885 A JP17012885 A JP 17012885A JP S6230895 A JPS6230895 A JP S6230895A
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- JP
- Japan
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- plating
- nickel
- boron
- boron alloy
- alloy plating
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ニッケル−硼素合金めっきを行なうに当たっ
て電解法の適用を可能としたことにより、種々の利益を
享受し得る様になったニッケル−硼素合金めっき方法に
関するものである。
て電解法の適用を可能としたことにより、種々の利益を
享受し得る様になったニッケル−硼素合金めっき方法に
関するものである。
［従来の技術］
ニッケル−硼素合金めっきは耐熱性の高い被覆層をグえ
るというヰ、ν性を発揮する為、今日多方面に亘って応
用されている。ところで該ニッケル−１Ｉｎ素合金めっ
きを施すに当たっては、（ａ）低濃度のニッケルイオン
を含む水溶液に、塁元剤及び硼素供与作用の両機濠を発
揮し得る薬剤とじてジメチルアミンポラン又は水素化硼
素ナトリウムを加え、（ｂ）該ジメチルアミンポラン又
は水素化硼素ナトリウムの還元作用及び硼素供与作用を
有効に発揮させるというのが一般的である。
るというヰ、ν性を発揮する為、今日多方面に亘って応
用されている。ところで該ニッケル−１Ｉｎ素合金めっ
きを施すに当たっては、（ａ）低濃度のニッケルイオン
を含む水溶液に、塁元剤及び硼素供与作用の両機濠を発
揮し得る薬剤とじてジメチルアミンポラン又は水素化硼
素ナトリウムを加え、（ｂ）該ジメチルアミンポラン又
は水素化硼素ナトリウムの還元作用及び硼素供与作用を
有効に発揮させるというのが一般的である。
ところがこうした従来法では、必要１１、つト分なめっ
き層厚を確保するのに極めて長い時間を要してしまい、
この為めっき作業の生産性が低くなるといった小態に陥
っていた。この理由については概ね以下の様に考えられ
る。即ちニー２ケル−硼素合金めっきを施すに当たって
は、めっき溶液中のニッケルイオン及びジメチルアミン
ポランに酸化Ω元反応を起こさしめ、該ｍ村上にニッケ
ル−硼素合金を析出させるのであるが、該ニジケルイオ
ン及びジメチルアミンポラン等にこうした作用を発揮さ
せる為に必要なエネルギー（駆動力）としては、めっき
溶液を構成する諸１表分が未来イｆしているエネルギー
しか利用することができず（外部からは、熱エネルギー
以外に格別のエネルギーが加わることかないので）、従
ってめっき析出速度かどくなったものと考えられる。こ
れを改善しようとすれば、二元力の強い二元剤を使用し
なければならないが、５元作用の強いものを使用すると
めっき浴を侵食するといった弊害を生じ易く、めっき浴
のノｆ命及び連続使用に！５影響を与えるという弊害が
予測される。その為現状では、前述のジメチルアミンポ
ラン等を使用せざるを得す、析出速度の遅い点について
はこれを甘受している。
き層厚を確保するのに極めて長い時間を要してしまい、
この為めっき作業の生産性が低くなるといった小態に陥
っていた。この理由については概ね以下の様に考えられ
る。即ちニー２ケル−硼素合金めっきを施すに当たって
は、めっき溶液中のニッケルイオン及びジメチルアミン
ポランに酸化Ω元反応を起こさしめ、該ｍ村上にニッケ
ル−硼素合金を析出させるのであるが、該ニジケルイオ
ン及びジメチルアミンポラン等にこうした作用を発揮さ
せる為に必要なエネルギー（駆動力）としては、めっき
溶液を構成する諸１表分が未来イｆしているエネルギー
しか利用することができず（外部からは、熱エネルギー
以外に格別のエネルギーが加わることかないので）、従
ってめっき析出速度かどくなったものと考えられる。こ
れを改善しようとすれば、二元力の強い二元剤を使用し
なければならないが、５元作用の強いものを使用すると
めっき浴を侵食するといった弊害を生じ易く、めっき浴
のノｆ命及び連続使用に！５影響を与えるという弊害が
予測される。その為現状では、前述のジメチルアミンポ
ラン等を使用せざるを得す、析出速度の遅い点について
はこれを甘受している。
ところで−Ｌ：述の如き析出速度の遅延を回避する１段
としては電解法を挙げることができる。そこで本発明者
等はこの電解法に着目し、従来法で用いるめっき液に電
解法を付加することを試みたところ以下の如き結果を得
た。即ち元々前記ジメチルアミンボラン（又は水素化硼
素ナトリウム）は、めっき液中に共存する金属イオンや
不純物等によって分解されるという傾向を有しているが
、この傾向が電気化学的ｆ１川の付加によって更に顕々
となり、しかもいったん１１材表面にニンケルーｌａｌ
、ｌ：合金めっき層が形成されると、これがヒ記ジメ
チルアミンポラン等の分解活性点となって、史に・層激
しくめっき用薬剤の分解反応を促進するということが分
かった。従って未発明者等は、ジメチルアミンポラン等
を含む従来のめっきに電解法を付加することを断念し、
新たな観点から検討を進めていく必要性を痛感した。
としては電解法を挙げることができる。そこで本発明者
等はこの電解法に着目し、従来法で用いるめっき液に電
解法を付加することを試みたところ以下の如き結果を得
た。即ち元々前記ジメチルアミンボラン（又は水素化硼
素ナトリウム）は、めっき液中に共存する金属イオンや
不純物等によって分解されるという傾向を有しているが
、この傾向が電気化学的ｆ１川の付加によって更に顕々
となり、しかもいったん１１材表面にニンケルーｌａｌ
、ｌ：合金めっき層が形成されると、これがヒ記ジメ
チルアミンポラン等の分解活性点となって、史に・層激
しくめっき用薬剤の分解反応を促進するということが分
かった。従って未発明者等は、ジメチルアミンポラン等
を含む従来のめっきに電解法を付加することを断念し、
新たな観点から検討を進めていく必要性を痛感した。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明はこうした事情を考１１１してなされたものであ
って、電解法の適用に耐え得るめっき液を開発すること
により、ニッケル−硼素合金めっき法と電解法の結合を
Ｏｆ能なものとし、もってめっき析出速度の向上を図る
ことができ、しかもめっき浴の長ノ；命化及び正統使用
に資することのできるニッケル−硼素合金めっき法を提
供しようとするものである。
って、電解法の適用に耐え得るめっき液を開発すること
により、ニッケル−硼素合金めっき法と電解法の結合を
Ｏｆ能なものとし、もってめっき析出速度の向上を図る
ことができ、しかもめっき浴の長ノ；命化及び正統使用
に資することのできるニッケル−硼素合金めっき法を提
供しようとするものである。
［問題点を解決するための手段］
本発明に係るニッケル−硼素合金めっき方法と（Ａ）ニ
ッケルイオン含有水溶液二ニアケルイオン換算量で１〜 １００ ｇ／見 及び （Ｂ）トリメチルアミンボラン：０．５ｇ／１以上を用
いて電解めっきを施すところにその来旨が存在するもの
である。
ッケルイオン含有水溶液二ニアケルイオン換算量で１〜 １００ ｇ／見 及び （Ｂ）トリメチルアミンボラン：０．５ｇ／１以上を用
いて電解めっきを施すところにその来旨が存在するもの
である。
［作用］
本発明者等は、従来のニー、ケル−硼素合金めっき法に
電解法を結合することについて検討した前記結果（ジメ
チルアミンポランがＴｒＬ場印加時に特に不安定である
という結果）を谷酌し、該結果に基づき広範囲に亘る実
証的な検討を進めていたところ、硼素供与体としてトリ
メチルアミンボランを用いて電解めっきを行なえばジメ
チルアミンポランを用いたときの様な不都合が生じない
のではないかとの指針を得るに至った。該トリメチルア
ミンボランは、ジメチルアミンポランに比較して還元作
用が劣る上に化合物としての安全性が高いという特性を
有している為、ニッケル−１麦合金めっき法への適用に
ついては従来よりほとんど顧慮されなかった化合物であ
るが、’ｉ［解法の実現化に際し本発明者等は敢えて該
トリメチルアミンボランに着［１し、該トリメチルアミ
ンボランの実用可能性を引き出すへ〈鋭意研究を重ねて
本発明を完成するに至った。
電解法を結合することについて検討した前記結果（ジメ
チルアミンポランがＴｒＬ場印加時に特に不安定である
という結果）を谷酌し、該結果に基づき広範囲に亘る実
証的な検討を進めていたところ、硼素供与体としてトリ
メチルアミンボランを用いて電解めっきを行なえばジメ
チルアミンポランを用いたときの様な不都合が生じない
のではないかとの指針を得るに至った。該トリメチルア
ミンボランは、ジメチルアミンポランに比較して還元作
用が劣る上に化合物としての安全性が高いという特性を
有している為、ニッケル−１麦合金めっき法への適用に
ついては従来よりほとんど顧慮されなかった化合物であ
るが、’ｉ［解法の実現化に際し本発明者等は敢えて該
トリメチルアミンボランに着［１し、該トリメチルアミ
ンボランの実用可能性を引き出すへ〈鋭意研究を重ねて
本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、（Ａ）ニッケルイオン含有水溶液：ニッ
ケルイオン換算量で１〜１００ｇ／文。
ケルイオン換算量で１〜１００ｇ／文。
（Ｂ） ｌ−ジメチルアミンポラン・０．５ｇ／ｆ１
以上を用いて電解めっきを施すところに最大の特徴を有
するものである。
以上を用いて電解めっきを施すところに最大の特徴を有
するものである。
以下（Ａ）及び（Ｂ）の夫々についてｔ！！値限定根拠
を踏まえつつ説明する。
を踏まえつつ説明する。
（Ａ）ニッケルイオン含有水溶液二ニーｔケルイオン換
算−１で１−ＬＯＯｒ／１ 該ニッケルイオンは、硫酸ニンケル ｌｉ４化ニー。
算−１で１−ＬＯＯｒ／１ 該ニッケルイオンは、硫酸ニンケル ｌｉ４化ニー。
ケル、スルファミン醇ニッケル、酢酸ニッケル。
クエン酸ニッケル、蟻酸ニッケル、硫酸ニッケルアンモ
ニウトおよび水酸化二１．ケル等の溶解性ニッケル化合
物（以下ニッケルイオン濃度源という場合もある）より
供給される。
ニウトおよび水酸化二１．ケル等の溶解性ニッケル化合
物（以下ニッケルイオン濃度源という場合もある）より
供給される。
下限を１ｇ／ｌと規定したのは、これ未満であるとニッ
ケル−硼素合金めっき層としての要求特性を十分に満足
しないからであるが、該下限を５ｇ／ｌとすればより好
ましいめっき層を形成する。一方上限をｌｏｏｇ／文と
したのは、これを越えるｋを添加したとしても、その添
加量に見合う効果が得られず経済性等を考慮したからで
ある。しかし１００ｇ／Ｑｔ越えた場合であっても、ニ
ッケル−硼素合金めっき層としての南効な特性を満足す
る。
ケル−硼素合金めっき層としての要求特性を十分に満足
しないからであるが、該下限を５ｇ／ｌとすればより好
ましいめっき層を形成する。一方上限をｌｏｏｇ／文と
したのは、これを越えるｋを添加したとしても、その添
加量に見合う効果が得られず経済性等を考慮したからで
ある。しかし１００ｇ／Ｑｔ越えた場合であっても、ニ
ッケル−硼素合金めっき層としての南効な特性を満足す
る。
（Ｂ）トリメチルアミンボラン：０．５ｇ／ｌ以北トリ
メチルアミンボランは前述の如く硼素供ケ体としての作
用を有しているが、０．５ ｇ／１未満であると、該硼
素供与体としての作用を十分有効に発揮するには至らず
、ニッケル−硼素合金めっき層としての要求特性を十分
に満足し得なかった。一方り限を規定しなかった理由に
ついては以下の通りである。トリメチルアミンボランの
ニッケルイオン濃度（水溶液に、？、ｌする溶解度は１
３ｇ／ｑであり、この溶解範囲はもとより過飽和に添加
した場合でもニドケル−硼４８合金めつき層としての吹
求特性を十分に発揮するため、特に北限を規定すること
が困難でおり、またその必“妥がないと考えられたから
である。またａｍ和に添加した場合であっても、′電解
によってトリメチルアミンボランが消耗するにつれて過
飽和のトリメチルアミンボランか溶解するから、めっき
特性に（＝）ら？５影警をおよぼさないということが分
かった。不必要に飽和（結晶の析出分離を含む）させる
ことはかえってトリメチルアミンボランの自然分解や飛
散等により無駄に消耗を進める結果を招き、経済性の点
で好ましくないということができる。従って北限につい
ては特に規定する必要はないが２０ｇ／ｎとすることが
好ましいものと判断された。
メチルアミンボランは前述の如く硼素供ケ体としての作
用を有しているが、０．５ ｇ／１未満であると、該硼
素供与体としての作用を十分有効に発揮するには至らず
、ニッケル−硼素合金めっき層としての要求特性を十分
に満足し得なかった。一方り限を規定しなかった理由に
ついては以下の通りである。トリメチルアミンボランの
ニッケルイオン濃度（水溶液に、？、ｌする溶解度は１
３ｇ／ｑであり、この溶解範囲はもとより過飽和に添加
した場合でもニドケル−硼４８合金めつき層としての吹
求特性を十分に発揮するため、特に北限を規定すること
が困難でおり、またその必“妥がないと考えられたから
である。またａｍ和に添加した場合であっても、′電解
によってトリメチルアミンボランが消耗するにつれて過
飽和のトリメチルアミンボランか溶解するから、めっき
特性に（＝）ら？５影警をおよぼさないということが分
かった。不必要に飽和（結晶の析出分離を含む）させる
ことはかえってトリメチルアミンボランの自然分解や飛
散等により無駄に消耗を進める結果を招き、経済性の点
で好ましくないということができる。従って北限につい
ては特に規定する必要はないが２０ｇ／ｎとすることが
好ましいものと判断された。
尚トリメチルアミンボランの下限を０．５ｇ／ｌと規定
することによって硼素供ダ１体としての上述の如き作用
を有効に発揮させることができるが、該下限を１．０ｇ
／ｌに設定してやれば、該電解めっき作業の連続化とい
う利益を一層有利に享受することができる。
することによって硼素供ダ１体としての上述の如き作用
を有効に発揮させることができるが、該下限を１．０ｇ
／ｌに設定してやれば、該電解めっき作業の連続化とい
う利益を一層有利に享受することができる。
尚本発明に係るニッケル−硼素合金めっき方法を′ｙ施
するに当っては、次の様な理由により′ｗｃ衝剤及び錯
化剤を併用することが推奨される。即ち緩衝剤は、めっ
き液のｐＨを一定に保ち、均一なめつき特性を得るため
に添加される。そしてその添加量は１０〜１００ｇ／文
の範囲が好ましい。
するに当っては、次の様な理由により′ｗｃ衝剤及び錯
化剤を併用することが推奨される。即ち緩衝剤は、めっ
き液のｐＨを一定に保ち、均一なめつき特性を得るため
に添加される。そしてその添加量は１０〜１００ｇ／文
の範囲が好ましい。
一方錯化剤は、ニッケルイオン濃度を一足に保ち、若干
のｐＨ変化による沈殿生成を抑制するために、必要に応
じ添加される。そしてその濃度は１〜１００ ｇ／見の
範囲が好ましい、該緩衝剤としては、［酸、蟻酸、酢酸
、フタル酸、クエン酸及びこれらのナトリウム塩或はア
ンモニウム塩等を例示することができ、該錯化剤として
は、クエン酸、酢酸、乳酸、シュウ酸、酒石酸及びこれ
らのナトリウム塩或はアンモニウム塩等を挙げることが
できる。
のｐＨ変化による沈殿生成を抑制するために、必要に応
じ添加される。そしてその濃度は１〜１００ ｇ／見の
範囲が好ましい、該緩衝剤としては、［酸、蟻酸、酢酸
、フタル酸、クエン酸及びこれらのナトリウム塩或はア
ンモニウム塩等を例示することができ、該錯化剤として
は、クエン酸、酢酸、乳酸、シュウ酸、酒石酸及びこれ
らのナトリウム塩或はアンモニウム塩等を挙げることが
できる。
［実施例］
銅合金板を用いてこれに通常のめつき前処理を施した後
、ド記めっき条件にてめっき作業を実行し、（１）ニッ
ケル−硼素合金めっき層の確認、（２）めっき析出速度
を夫々調査した。
、ド記めっき条件にてめっき作業を実行し、（１）ニッ
ケル−硼素合金めっき層の確認、（２）めっき析出速度
を夫々調査した。
くめつき条件〉
浴 温・ ４０″Ｃ
電流密度＝２〜４ Ａ／ｄｍ７
くめっき液組成〉
ｔｉ）Ｎ ｉ ＳＯ４１１６Ｈ２０・・・１００〜２５
０ ｇ ／立（Ｎｉイオン：２２〜５５ ｇ／２） トリメチルアミンボラン・・・１〜１０ｇ／ｌ（リスル
ファミン酩、ニッケル・・・１００〜２５０ｇ／愛（Ｎ
ｉイオン・２２〜 ５５ｇ／交） トリメデルアミンポラン・・・１〜ｌｏｇ／１（３）Ｎ
ＩＳＯ，ｉ・６Ｈ２０・・・１００〜２５０ｇ／文（Ｎ
ｉイオン：２２〜５５ ｇ／又） 硼 酸・・・１０〜５０ｇ／′見 トリメチルアミンボラン・・・１〜ＩＯｇ、／１ｒ４＋
Ｎｉ５Ｏ４・６Ｈ２０・・・１００〜２５０ｇ／交（Ｎ
ｉイオン：２２〜５５ ｇ／文） 蟻 酸・・・１０〜５０ｇ／交 クエン酸ナトリウム・・・１０〜５０ｇ／ｌトリメチル
アミンボラン・・・１〜ＩＯｇ／ｌ比較の為手記（０及
び（６）の市販めっき液を用いてめっきを行なった（尚
条件も同時に記載した）。
０ ｇ ／立（Ｎｉイオン：２２〜５５ ｇ／２） トリメチルアミンボラン・・・１〜１０ｇ／ｌ（リスル
ファミン酩、ニッケル・・・１００〜２５０ｇ／愛（Ｎ
ｉイオン・２２〜 ５５ｇ／交） トリメデルアミンポラン・・・１〜ｌｏｇ／１（３）Ｎ
ＩＳＯ，ｉ・６Ｈ２０・・・１００〜２５０ｇ／文（Ｎ
ｉイオン：２２〜５５ ｇ／又） 硼 酸・・・１０〜５０ｇ／′見 トリメチルアミンボラン・・・１〜ＩＯｇ、／１ｒ４＋
Ｎｉ５Ｏ４・６Ｈ２０・・・１００〜２５０ｇ／交（Ｎ
ｉイオン：２２〜５５ ｇ／文） 蟻 酸・・・１０〜５０ｇ／交 クエン酸ナトリウム・・・１０〜５０ｇ／ｌトリメチル
アミンボラン・・・１〜ＩＯｇ／ｌ比較の為手記（０及
び（６）の市販めっき液を用いてめっきを行なった（尚
条件も同時に記載した）。
（５）Ｎ ｉ ＳＯ４＠６Ｈ２０・・・４５０ｇ／文（
Ｎｉイオン：１００ｇ ／見） トリメチルアミンボラン・・・２０ｇ／ｌ（過飽和） （６）市販無電解Ｎ１−Ｂめっき液（日本カニゼン社シ
ューマー５Ｂ−５５浴）二６５℃、１４分処理 （Ｖ市敗無’＋ｌｉ＠Ｎ１−Ｂめっき液（上材工業社Ｂ
ＥＬ−８０１浴）：６５℃、１４分処理以トで験結果を
ボす。
Ｎｉイオン：１００ｇ ／見） トリメチルアミンボラン・・・２０ｇ／ｌ（過飽和） （６）市販無電解Ｎ１−Ｂめっき液（日本カニゼン社シ
ューマー５Ｂ−５５浴）二６５℃、１４分処理 （Ｖ市敗無’＋ｌｉ＠Ｎ１−Ｂめっき液（上材工業社Ｂ
ＥＬ−８０１浴）：６５℃、１４分処理以トで験結果を
ボす。
（１）ニングルー硼、＋：合金めつき層の確認ｌｔｉ記
（１）〜（５）で得られためっき処理材及び前記（６）
、 （Ｚｌで得られた無電解Ｎｉ −Ｂめっき材の夫
々について夫々のめっき層中における硼素含有の有無を
ＥＳＣＡＳＣ法によって確認し、その結果を第１１；４
に示した。尚（ａ）は本発明、（ｂ）は従来法によるも
のである。いずれのめっき層中にも所望星の［素が存在
していることが分かった６従ってニッケル−硼、に合金
めっき方法に゛電解法を適用するという未発明の方法は
、ニッケル−硼素合金めっき層を形成する上で有効であ
ることが確認できた。
（１）〜（５）で得られためっき処理材及び前記（６）
、 （Ｚｌで得られた無電解Ｎｉ −Ｂめっき材の夫
々について夫々のめっき層中における硼素含有の有無を
ＥＳＣＡＳＣ法によって確認し、その結果を第１１；４
に示した。尚（ａ）は本発明、（ｂ）は従来法によるも
のである。いずれのめっき層中にも所望星の［素が存在
していることが分かった６従ってニッケル−硼、に合金
めっき方法に゛電解法を適用するという未発明の方法は
、ニッケル−硼素合金めっき層を形成する上で有効であ
ることが確認できた。
（２）めっき析出速度
前記（す〜■のめっき液を用いた場合、及び（Φ。
（７）のめっき液を用いた場合におけるめっき析出速度
を調査し、その結果を第２図に示す、この図から明白な
様に、電流密度４ Ａ／ｄｍ２の場合におけるめっき析
出速度は従来法の約６倍であるという結果が得られた。
を調査し、その結果を第２図に示す、この図から明白な
様に、電流密度４ Ａ／ｄｍ２の場合におけるめっき析
出速度は従来法の約６倍であるという結果が得られた。
［発明の効果］
本発明は以上の様に構成されているので、ニッケル−硼
素合金めっき方法への電解法の適用を可能とし、もって
めっき析出速度の向上を図ることができ、しかもめっき
浴の長寿命化及び連続使用に資することのできるニー、
ケル−硼素合金めっき方法を提供することができた。
素合金めっき方法への電解法の適用を可能とし、もって
めっき析出速度の向上を図ることができ、しかもめっき
浴の長寿命化及び連続使用に資することのできるニー、
ケル−硼素合金めっき方法を提供することができた。
第１図はＥＳＣＡ分析による硼素の確認結果を示すグラ
フ、第２図はめっき析出速度を示すグラフである。
フ、第２図はめっき析出速度を示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ａ）ニッケルイオン含有水溶液：ニッケルイオン換算
量で１〜 １００ｇ／ｌ 及び （Ｂ）トリメチルアミンボラン：０．５ｇ／ｌ以上を用
いて電解めっきを施すことを特徴とするニッケル−硼素
合金めっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17012885A JPS6230895A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | ニツケル−硼素合金めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17012885A JPS6230895A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | ニツケル−硼素合金めつき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6230895A true JPS6230895A (ja) | 1987-02-09 |
Family
ID=15899166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17012885A Pending JPS6230895A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | ニツケル−硼素合金めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6230895A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01320134A (ja) * | 1988-06-23 | 1989-12-26 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 重合体積層物 |
| JPH07243246A (ja) * | 1994-03-05 | 1995-09-19 | Akimi Suzawa | 融雪屋根 |
| CN105887148A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-24 | 河海大学 | 一种海洋装备用Ni-B/SiC CMMA涂层及其制备方法 |
| KR20220038196A (ko) * | 2020-09-18 | 2022-03-28 | 공주대학교 산학협력단 | Tbab를 포함한, 리튬 이온 전지의 전극 단자 도금용 니켈-보론 무전해 도금액, 이를 이용한 니켈-보론 무전해 도금 방법, 및 이를 이용하여 제조된 니켈-보론 무전해 도금층이 형성된 리튬 이온 전지의 전극 단자 |
-
1985
- 1985-08-01 JP JP17012885A patent/JPS6230895A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01320134A (ja) * | 1988-06-23 | 1989-12-26 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 重合体積層物 |
| JPH07243246A (ja) * | 1994-03-05 | 1995-09-19 | Akimi Suzawa | 融雪屋根 |
| CN105887148A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-24 | 河海大学 | 一种海洋装备用Ni-B/SiC CMMA涂层及其制备方法 |
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