JPS62298122A - Manufacture of semiconductor integrated circuit device - Google Patents
Manufacture of semiconductor integrated circuit deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路装置の製造方法に関し、特に
、半導体集積回路装置のエージングに適用して有効な技
術に関するものである。Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device, and particularly relates to a technique effective when applied to aging of a semiconductor integrated circuit device. It is something.
LSI等の半導体集積回路装置の製造工程においては、
通常、半導体集積回路装置の組み立て後にエージング(
加速寿命試験)を行い、これにより初期不良を生ずる半
導体集積回路装置を不良品として除外する。半導体集積
回路装置の信頼性に関する試験については、例えば、日
経マグロウヒル社発行「日経エレクトロニクス4 19
84年7月16日号、P221〜228に記載されてい
る。In the manufacturing process of semiconductor integrated circuit devices such as LSI,
Usually, after assembling a semiconductor integrated circuit device, aging (
(accelerated life test), and semiconductor integrated circuit devices that exhibit initial failure are excluded as defective products. For testing on the reliability of semiconductor integrated circuit devices, see Nikkei Electronics 4 19 published by Nikkei McGraw-Hill.
It is described in the July 16, 1984 issue, pages 221-228.
本発明者は、このエージングについて検討した。The present inventor has studied this aging.
以下は公知とされた技術ではないが、本発明者によって
検討された技術であり、その概要は次のとおりである。Although the following is not a publicly known technique, it is a technique studied by the present inventor, and its outline is as follows.
すなわち、まずウェハー上の多数のベレットのそれぞれ
に半導体集積回路装置を同時に作り込み、その配線工程
まで終了後、ウェハーの状態でプローブ検査を行うこと
により良品ペレットの選別を行う。次にウェハーをダイ
シングしてペレットに切断した後、良品ペレットを用い
て組み立てを行う。次にこの組み立てた半導体集積回路
装置の全数の電気特性を検査することにより一次選別を
行う。次にこの一次選別で残された良品の半導体集積回
路装置のエージングを行い、これにより劣化を生じた不
良の半導体集積回路装置を除外する。That is, first, semiconductor integrated circuit devices are simultaneously fabricated on each of a large number of pellets on a wafer, and after the wiring process is completed, a probe test is performed on the wafer to select good pellets. Next, the wafer is diced and cut into pellets, and then the good pellets are used for assembly. Next, a primary selection is performed by inspecting the electrical characteristics of all the assembled semiconductor integrated circuit devices. Next, the good semiconductor integrated circuit devices left after this primary sorting are aged, and defective semiconductor integrated circuit devices that have deteriorated are excluded.
この後、最終選別を行うことにより、最終的に良品の半
導体集積回路装置を得る。Thereafter, a final selection is performed to finally obtain a semiconductor integrated circuit device of good quality.
しかしながら、上述のように半導体集積回路装置の組み
立て後にエージングを行う場合には、エージングにより
劣化を生じてしまう不良の半導体集積回路装置も組み立
てなければならず、このため半導体集積回路装置の製造
原価が高くなるという問題がある。また、半導体集積回
路装置を組み立てた状態でエージングを行うので、エー
ジング装置が大型化したり、エージングの処理能力に限
界があるという問題がある。However, when aging is performed after assembling a semiconductor integrated circuit device as described above, it is also necessary to assemble defective semiconductor integrated circuit devices that deteriorate due to aging, which reduces the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit device. The problem is that it gets expensive. Furthermore, since aging is performed in an assembled state of the semiconductor integrated circuit device, there are problems in that the aging device becomes large and the aging processing capacity is limited.
本発明の目的は、半導体集積回路装置の製造原価の低減
が可能な技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a technique that can reduce manufacturing costs of semiconductor integrated circuit devices.
本発明の他の目的は、エージング装置を小型化すること
が可能な技術を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a technique that allows the aging device to be miniaturized.
本発明の他の目的は、エージングの処理能力を大幅に向
上させることが可能な技術を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a technique that can significantly improve aging processing capacity.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本発明者は、エージングにより劣化が生ずる原因の大部
分が半導体集積回路装置の組み立て工程よりも前の製造
工程にあることに着眼し、本発明を案出するに到った。The present inventor has devised the present invention by paying attention to the fact that most of the causes of deterioration due to aging are in the manufacturing process prior to the assembly process of a semiconductor integrated circuit device.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を説明すれば、下記のとおりである。Outline of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、ウェハー状態において少なくとも良品ペレッ
トの電源パッド間を相互に接続し、前記電源パッドに電
源を供給しながら前記ウェハー状態においてエージング
を行うようにしている。That is, in the wafer state, at least the power supply pads of good pellets are connected to each other, and aging is performed in the wafer state while supplying power to the power supply pads.
上記した手段によれば、ウェハー状態でエージングを行
うことができるので、このニーソングにより劣化が生じ
なかった半導体集積回路装置だけを組み立てればよくな
り、このため半導体集積回路装置の製造原価を大幅に低
減することができる。According to the above-mentioned method, aging can be performed in the wafer state, so it is only necessary to assemble semiconductor integrated circuit devices that have not deteriorated due to this knee song, and therefore, the manufacturing cost of semiconductor integrated circuit devices can be significantly reduced. can do.
また、エージング装置を小型化することができると共に
、エージングの処理能力を大幅に向上させろことができ
る。Furthermore, the aging device can be downsized and the aging processing capacity can be significantly improved.
以下、本発明の構成について、一実施例に基づき図面を
参照しながら説明する。Hereinafter, the configuration of the present invention will be described based on one embodiment with reference to the drawings.
なお、全図において、同一の機能を有するものには同一
の符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。In addition, in all the figures, parts having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.
第1図に示すように、例えばシリコンウェハーのような
半導体ウェハー1の各ペレット1aに半導体集積回路装
置を同時に作り込み、その配線(図示せず)及び一対の
電源パッド2a、2bその他のポンディングパッド(図
示せず)を各ペレット1aに形成した後、全面にパッシ
ベーション膜3を形成する。なお、例えば前記電源パッ
ド2aには電源電圧v0゜が印加され、前記電源パッド
2bは接地電位となる。次にこのパッシベーション膜3
の所定部分をエツチング除去して、前記電源パッド2a
、2bその他のポンディングパッドを露出させる。As shown in FIG. 1, a semiconductor integrated circuit device is simultaneously fabricated on each pellet 1a of a semiconductor wafer 1 such as a silicon wafer, and its wiring (not shown), a pair of power supply pads 2a, 2b, and other bonding. After forming a pad (not shown) on each pellet 1a, a passivation film 3 is formed on the entire surface. Note that, for example, a power supply voltage v0° is applied to the power supply pad 2a, and the power supply pad 2b has a ground potential. Next, this passivation film 3
A predetermined portion of the power supply pad 2a is removed by etching.
, 2b and other bonding pads are exposed.
次にこの状態で半導体ウェハー1の各ペレット1a毎に
プローブ検査を行って良品ペレットを選別する。なお本
実施例においては、第1図のX印を付けたペレット1a
が不良ペレットであるとする。次に前記パッシベーショ
ン膜3の全面に例えばA1膜を形成した後、このAl膜
の上にレジストを塗布する。次に、良品ペレットlaの
半導体ウェハー1上でのアドレスデータを例えば電子線
直接描画装置に入力し、このデータに基づいて電子線に
より前記レジストを所定形状にパターンニングする。次
にこのパターンニングされたレジストをマスクとして前
記A1膜をエツチングすることにより、良品ペレット1
aのf!!!パッド2a、2b間を相互に接続する配線
パターン4を形成する。なお、通常各ペレット1aの周
囲には多数の電源パッド2a、2bが設けられているの
で、これらの電源パッド2a、2bのうち最適な位置に
あるものを用いる。また符号4a、4bは、配線パター
ン4を通じて外部から前記電源パッド2a、2bに電源
を供給するための電極であり、例えば電極4aには電源
電圧■。Cが印加され、電極4bは接地電位となる。Next, in this state, a probe test is performed for each pellet 1a of the semiconductor wafer 1 to select non-defective pellets. In this example, the pellet 1a marked with an X in FIG.
Suppose that is a defective pellet. Next, after forming, for example, an A1 film on the entire surface of the passivation film 3, a resist is applied on the Al film. Next, the address data of the good pellets la on the semiconductor wafer 1 is inputted into, for example, an electron beam direct drawing device, and the resist is patterned into a predetermined shape using an electron beam based on this data. Next, by etching the A1 film using this patterned resist as a mask, a good pellet 1 is etched.
f of a! ! ! A wiring pattern 4 is formed to interconnect the pads 2a and 2b. Note that since a large number of power supply pads 2a, 2b are usually provided around each pellet 1a, one of these power supply pads 2a, 2b located at an optimal position is used. Further, reference numerals 4a and 4b are electrodes for supplying power to the power supply pads 2a and 2b from the outside through the wiring pattern 4. For example, the electrode 4a is supplied with a power supply voltage ■. C is applied, and the electrode 4b becomes the ground potential.
次にこの状態で半導体ウェハー1を第2図に示すように
エージング基板5に立て、これをエージング装置に入れ
て所定のニーソングを行う。このニーソングの際には、
前記電極4a、4bを所定の電源に接続し、前記配線パ
ターン4を通じて全ての良品ペレット1aの前記電源パ
ッド2a、2bに電源を供給しながら、半導体集積回路
装置の通常の使用温度よりも高い所定温度に保持する。Next, in this state, the semiconductor wafer 1 is stood on the aging substrate 5 as shown in FIG. 2, and placed in an aging device to perform a predetermined knee song. During this knee song,
The electrodes 4a, 4b are connected to a predetermined power supply, and while power is supplied to the power supply pads 2a, 2b of all non-defective pellets 1a through the wiring pattern 4, the temperature is set at a predetermined temperature higher than the normal operating temperature of the semiconductor integrated circuit device. Hold at temperature.
このエージング終了後、再度プローブ検査を行うことに
より、前記エージングにより特性の劣化が生じなかった
良品ペレット1aを選別する。この場合、半導体ウェハ
ー1の状態でニーソングを行うことができるので、エー
ジング装置を小型にすることができると共に、エージン
グの処理能力を大幅に向上させることができる。After this aging is completed, a probe test is performed again to select good pellets 1a whose properties have not deteriorated due to the aging. In this case, since the knee song can be performed in the state of the semiconductor wafer 1, the aging apparatus can be downsized and the aging processing capacity can be greatly improved.
次に前記半導体ウェハー1をスクライブ線1bに沿って
ダイシングして各ペレット1aに切断した後、良品ペレ
ット1aを用いて組み立てを行う。Next, the semiconductor wafer 1 is diced along the scribe lines 1b and cut into pellets 1a, and then assembled using the good pellets 1a.
これによって、エージングにより劣化した不良品ペレッ
ト1aを組み立てる必要がなくなるので。This eliminates the need to assemble defective pellets 1a that have deteriorated due to aging.
半導体集積回路装置の製造原価を大幅に低減することが
可能である。なお前記ダイシングの際に前記配線パター
ン4も切断されるので、この配線パターン4により後に
支障が生ずることがない。It is possible to significantly reduce the manufacturing cost of semiconductor integrated circuit devices. Note that since the wiring pattern 4 is also cut during the dicing, this wiring pattern 4 will not cause any trouble later.
次に良品ペレット1aを用いて組み立てを行った後に半
導体集積回路装置の選別を行い、最終的に良品の半導体
集積回路装置を得る。Next, after assembly is performed using the non-defective pellets 1a, the semiconductor integrated circuit devices are sorted, and finally non-defective semiconductor integrated circuit devices are obtained.
以上、本発明者によってなされた発明を前記実施例に基
づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において
種々変形し得ることは勿論である。As above, the invention made by the present inventor has been specifically explained based on the above embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the gist of the invention. It is.
例えば、上述の実施例においては、最初のプローブ検査
により選別された良品ペレット1aの電源パッド2a、
2b間のみを配線パターン4により相互に接続している
が、必要に応じて不良品ペレットを含む全てのペレット
1aの電源パッド2a、2b間を配線パターン4により
相互に接続してもよい、また、本発明は、各種の半導体
集積回路装置の製造に適用することが可能である。For example, in the above embodiment, the power supply pad 2a of the good pellet 1a selected by the first probe test,
Although only the wiring patterns 2b are connected to each other by the wiring pattern 4, the power supply pads 2a and 2b of all the pellets 1a including defective pellets may be connected to each other by the wiring pattern 4 if necessary. , the present invention can be applied to the manufacture of various semiconductor integrated circuit devices.
本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。Among the inventions disclosed in this application, the effects obtained by typical inventions are briefly described below.
すなわち、半導体集積回路装置の製造原価を大幅に低減
することができる。また、エージング装置を小型化する
ことができると共に、エージングの処理能力を大幅に向
上させることができる。That is, the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit device can be significantly reduced. Furthermore, the aging device can be downsized and the aging processing capacity can be significantly improved.
第1図は、本発明の一実施例による半導体集積回路装置
の製造方法を説明するための平面図。
第2図は、半導体ウェハーの状態でエージングを行う方
法を説明するための断面図である。
図中、1・・・半導体ウェハー、1a・・・ペレット、
2a、2b・・・電源パッド、3・・・パッシベーショ
ン膜、4・・・配線パターン、5・・・エージング基板
である。FIG. 1 is a plan view for explaining a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining a method of aging a semiconductor wafer. In the figure, 1... semiconductor wafer, 1a... pellet,
2a, 2b...power supply pad, 3...passivation film, 4...wiring pattern, 5...aging board.
Claims (1)
半導体集積回路装置の製造方法であって、ウェハー状態
において少なくとも良品ペレットの電源パッド間を相互
に接続し、前記電源パッドに電源を供給しながら前記ウ
ェハー状態において前記エージングを行うようにしたこ
とを特徴とする半導体集積回路装置の製造方法。 2、前記良品ペレットの前記ウェハー上でのアドレスデ
ータに応じて前記良品ペレットの前記電源パッド間を相
互に接続するようにしたことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路装置の製造方法。 3、前記ウェハーの全てのペレットの前記電源パッド間
を相互に接続したことを特徴とする特許請求の範囲第1
項又は第2項記載の半導体集積回路装置の製造方法。[Scope of Claims] 1. A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device in which the semiconductor integrated circuit device is aged, the method comprising: interconnecting at least power pads of good pellets in a wafer state; A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device, characterized in that the aging is performed in the wafer state while power is supplied. 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the power supply pads of the non-defective pellets are connected to each other according to address data of the non-defective pellets on the wafer. manufacturing method. 3. Claim 1, characterized in that the power supply pads of all the pellets of the wafer are interconnected.
A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to item 1 or 2.
Priority Applications (1)
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JP61140125A JPH0754818B2 (en) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device |
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JPS62298122A true JPS62298122A (en) | 1987-12-25 |
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JP61140125A Expired - Fee Related JPH0754818B2 (en) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device |
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- 1986-06-18 JP JP61140125A patent/JPH0754818B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPH0754818B2 (en) | 1995-06-07 |
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