JPS62295064A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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Publication number
JPS62295064A
JPS62295064A JP13817786A JP13817786A JPS62295064A JP S62295064 A JPS62295064 A JP S62295064A JP 13817786 A JP13817786 A JP 13817786A JP 13817786 A JP13817786 A JP 13817786A JP S62295064 A JPS62295064 A JP S62295064A
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JP
Japan
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layer
photoreceptor
surface layer
amorphous silicon
range
Prior art date
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Pending
Application number
JP13817786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Karakida
唐木田 健一
Shigeru Yagi
茂 八木
Yuzuru Fukuda
福田 讓
Masayuki Nishikawa
雅之 西川
Yasuo Ro
盧 泰男
Noriyoshi Takahashi
高橋 徳好
Masahito Ono
雅人 小野
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Priority to US07/368,103 priority patent/US4965154A/en
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/08Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
    • G03G5/082Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
    • G03G5/08214Silicon-based
    • G03G5/08235Silicon-based comprising three or four silicon-based layers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a high-quality initial image and to enhance stability against the lapse of time and printing resistance by forming a photoconductive layer composed essentially of amorphous silicon, and the second surface layer containing nitrogen higher in concentration than N contained in the first surface layer. CONSTITUTION:The photoconductive layer 3 is formed on an electric charge injection blocking layer 2 formed on a substrate 1, the layer 3 is composed essentially of amorphous silicon containing elements of group III of the periodic table in the range of 0.1-100ppm, and the layer 3, preferably, has a film thickness of 1-100mum. The first surface layer 4 and the second surface layer 5 are composed essentially of amorphous silicon containing nitrogen in a concentration higher in the layer 5 than in the layer 4. It is preferred to control the nitrogen concentration of the layer 4 in the range of 10-100atom% of Si, and its film thickness in the range of 0.01-5mum. On the other hand, it is preferred to control the nitrogen concentration of the layer 5 in the range of 50-130atom% of Si, and its film thickness in the range of 0.01-5mum.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 本発明は、非晶質ケイ素を含む電子写真用感光体に関す
る。
Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention Field of Industrial Application The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor containing amorphous silicon.

従来の技術 電子写真用感光体の寿命は主として電気持l生上の劣化
、表面における傷の発生、感光体材料自体の変質(特に
熱的変化)などの要因によって支配されていることが知
られている。近年、非晶質ケイ素を主体とする材料を用
いた感光体が注目されているのは、その材料が従来の感
光体のもつ上記寿命要因を根本的に除去できる可能性を
有しているからである。すなわち、非晶質ケイ素材料は
電気特性上安定な繰返し特性を有し、高硬度かつ熱的に
も安定であり、極めて長寿命な感光体を提供できるポテ
ンシャルを有している。
Conventional Technology It is known that the lifespan of electrophotographic photoreceptors is mainly controlled by factors such as deterioration in electrical life, occurrence of scratches on the surface, and deterioration of the photoreceptor material itself (especially thermal changes). ing. In recent years, photoreceptors using materials mainly composed of amorphous silicon have been attracting attention because these materials have the potential to fundamentally eliminate the above-mentioned lifespan factors of conventional photoreceptors. It is. That is, the amorphous silicon material has stable repeatability in terms of electrical properties, high hardness and thermal stability, and has the potential to provide a photoreceptor with an extremely long life.

また、非晶質ケイ素は単に長野命を期待させるばかりで
なく、従来の感光体材料に比較すると、長波長側まで高
い光感度を呈し、また適切な処方によってその感度をざ
らに長い波長領域まで延ばすこともできる。従って、小
型かつ低コストな半導体レーザーを光源としたプリンタ
ーにも適用が可能である。
In addition, amorphous silicon not only holds promise for Nagano Life, but also exhibits high photosensitivity up to long wavelengths compared to conventional photoreceptor materials, and with appropriate formulations, the sensitivity can be extended to even longer wavelengths. It can also be extended. Therefore, it can also be applied to printers that use a small and low-cost semiconductor laser as a light source.

発明か解決しようとする問題点 非晶質ケイ素は、感光体用材料としてこのように浸れた
ポテンシャルを有するものでおるが、現実には118抵
抗、長波長における光感度、機械的強度(とりわけ延性
)、経時安定性、ざらには画質のli境雰囲気(温度、
湿度)依存性において問題を有している。
Problems to be Solved by the Invention Although amorphous silicon has great potential as a material for photoreceptors, in reality it has low resistance, 118 resistance, photosensitivity at long wavelengths, mechanical strength (especially ductility). ), stability over time, and image quality (temperature,
There are problems with humidity) dependence.

非晶質ケイ素材料は確かに高硬度で必って、ウィッカー
ス硬度は1000オーダーの値を示すが、それよりも低
硬度の材料(たとえば、複写用紙端あるいは複写機内の
クリーニング ブレードなど)と接触することによって
その接触部分が画像ぬけを呈するという問題を有してい
る。
Amorphous silicon materials do have a high hardness, with a Wickers hardness of the order of 1000, but they do not come into contact with materials of lower hardness (for example, the edge of copy paper or the cleaning blade in a copy machine). As a result, there is a problem in that the contact portion exhibits image omission.

ざらに、非晶質ケイ素感光体は、複写該(又はプリンタ
ー)内で比較的長期にわたって繰り返し使用した場合、
解像度の低下(画像流れ)を引ぎ起こすことが知られて
いる。この原因は感光体表面への異物の付着及び/必る
いは感光体自身の変質によるものと考えられる。
In general, when an amorphous silicon photoreceptor is used repeatedly in a copying machine (or printer) for a relatively long period of time,
This is known to cause a decrease in resolution (image deletion). The cause of this is thought to be the attachment of foreign matter to the surface of the photoreceptor and/or deterioration of the photoreceptor itself.

ざらに、画@流れ現象は、感光体への異物の付着や変質
によるもののほかに、感光体の構成上の理由、(例えば
不適切な表面層の使用)によっても生じるが、この場合
には画像流れは、初期時、すなわち、数サイクルないし
vll 0サイクル程度以内で発生する。
Roughly speaking, the image flow phenomenon occurs not only due to the adhesion of foreign matter to the photoconductor or deterioration of its quality, but also due to structural reasons of the photoconductor (for example, the use of an inappropriate surface layer), but in this case, Image deletion occurs at the initial stage, that is, within about a few cycles to vll0 cycles.

本発明は、上記非晶質ケイ素感光体の諸問題を解決しよ
うとするものである。
The present invention attempts to solve the problems of the amorphous silicon photoreceptor described above.

すなわち、本発明の目的は、高品位の初期画像を与え、
かつ経時安定性および削り11性にすぐれた電子写真用
感光体を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to provide a high-quality initial image,
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having excellent stability over time and resistance to scraping.

本発明の別の目的は、暗抵抗が高く帯電能力にすぐれた
電子写真用感光体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor with high dark resistance and excellent charging ability.

本発明の他の目的は、可視光領域の全範囲に光感度の高
い電子写真用感光体を提供することにおる。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having high photosensitivity over the entire visible light range.

本発明の他の目的は、使用環境に対する特性の依存性の
小ざい感光体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a photoreceptor whose characteristics are less dependent on the environment in which it is used.

本発明のざらに他の目的は、すべての使用環境において
安定かつ高品位な初明画買を与え、かつ、繰返し使用に
よっても劣化を生じない電子写真用感光体を提供するこ
とにある。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that provides stable and high-quality initial image acquisition in all usage environments and that does not deteriorate even after repeated use.

問題点を解決するための手段 本発明の前記諸口的は次の電子写真用感光体によって達
成できる。すなわち、本発明の電子写真用感光体は、支
持体上に光導電層、第一の表面層、および第二の表面層
を順次積層することにより偶成され、かつ該光導電層は
非晶質ケイ素を主体としてなり、また該第一の表面層お
よび第二の表面層はそれぞれ窒素原子が添加された非晶
質ケイ素を主体としてなり、かつ第二の表面層にあける
窒素原子濃度か第一の表面層における窒素原子濃度より
も高いことを特徴とする。また、本発明の目的は、前記
感光体において、光導電層に0.11−1O0DDの第
■族原子を添加することにより一層効果的に達成できる
。また、支持体と光導電層との間に100−5000p
Dの第■族原子または第V族原子を添加された非晶質ケ
イ素からなる電荷注入阻止層を設けることのよって本発
明の効果は一層21′7著となる。
Means for Solving the Problems The above aspects of the present invention can be achieved by the following electrophotographic photoreceptor. That is, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is formed by sequentially laminating a photoconductive layer, a first surface layer, and a second surface layer on a support, and the photoconductive layer is amorphous. The first surface layer and the second surface layer are each mainly made of amorphous silicon to which nitrogen atoms are added, and the nitrogen atom concentration in the second surface layer is the same as that of the first surface layer. The nitrogen atom concentration is higher than that in the surface layer of Further, the object of the present invention can be more effectively achieved by adding 0.11-1O0DD of group (I) atoms to the photoconductive layer of the photoreceptor. Also, between the support and the photoconductive layer, 100-5000p
By providing a charge injection blocking layer made of amorphous silicon doped with D group I atoms or V group atoms, the effects of the present invention are further enhanced.

以下、図面に従い本発明の電子写真用感光体について詳
細に説明する。
Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、本発明の電子写真用感光体の典型的構造を例
示覆る、模′式図である。図中の1は支持体、2は電荷
注入阻止層、3は光導電層、そして4および5はそれぞ
れ第一の表面1:苫および第二の表面層ておる。2の電
荷注入用J1層は110−5000ppの第1H’Aま
たは第V族137子か添加された非晶質ケイ素である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a typical structure of the electrophotographic photoreceptor of the present invention. In the figure, 1 is a support, 2 is a charge injection blocking layer, 3 is a photoconductive layer, and 4 and 5 are a first surface layer 1 and a second surface layer, respectively. The charge injection J1 layer of No. 2 is amorphous silicon doped with 110-5000 pp of H'A or Group V 137 atoms.

添加物のより望ましい量は50−1 oooppmの範
囲である。3の光導電層は0.11−100ppmの第
■族原子が添加された非晶質ケイ素である。添加物のよ
り望ましい量は0.55−5oppの範囲である。4及
び5の表面層は、窒素原子が添加された非晶質ケイ素で
必って、第二の表面層5における窒素原子濃度が第一の
表面層4における窒素原子濃度よりも高い。
A more desirable amount of additive is in the range of 50-1 oooppm. Photoconductive layer No. 3 is amorphous silicon doped with 0.11-100 ppm of Group I atoms. A more desirable amount of additive is in the range of 0.55-5 opp. The surface layers 4 and 5 are made of amorphous silicon doped with nitrogen atoms, and the nitrogen atom concentration in the second surface layer 5 is necessarily higher than that in the first surface layer 4.

支持体1としてはアルミニウム、ニッケル、クロム、ス
テンレス鋼等の金属類、または導電膜を有するプラスチ
ックシート、ガラス、紙、など目的に応じて適宜選択す
ることができる。
The support 1 can be appropriately selected depending on the purpose, such as metals such as aluminum, nickel, chromium, and stainless steel, or plastic sheets with conductive films, glass, and paper.

上記2から5までの各層は非晶質ケイ素を主体とする層
であって、グロー放電分解法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法、真空蒸着法などの手段によって形
成することができる。グロー放電分解を例にとってその
製造法を示すと次のようになる。まず、原料ガスとして
は、ケイ素原子を含む主原料ガスと必要な添加物原子を
含む原料ガスの混合体を用いる。この場合、必要によっ
て、この混合体に、ざらに水素ノjスあるいは不活性ガ
スなどのキャリアガスを混合してもよい。成膜条件は交
流放電を例とすると、周波数50Hz−5GH2、反応
器内圧10’−5Torr、放電電力1O−2000W
、また支持体温度は30−300℃である。各層の膜厚
は放電時間の調整により適宜設定することができる。ま
た、上記ケイ素原子を含む主原料ガスとしてはシラン類
、持にSiH4および/あるいはS!2H6が用いられ
る。
Each of the layers 2 to 5 above is a layer mainly composed of amorphous silicon, and can be formed by a glow discharge decomposition method, a sputtering method, an ion blasting method, a vacuum evaporation method, or the like. Taking glow discharge decomposition as an example, the manufacturing method is as follows. First, as the raw material gas, a mixture of a main raw material gas containing silicon atoms and a raw material gas containing necessary additive atoms is used. In this case, if necessary, a carrier gas such as hydrogen gas or an inert gas may be mixed into this mixture. Taking AC discharge as an example, the film forming conditions are: frequency 50Hz-5GH2, reactor internal pressure 10'-5 Torr, discharge power 1O-2000W.
, and the support temperature is 30-300°C. The thickness of each layer can be appropriately set by adjusting the discharge time. The main raw material gases containing silicon atoms include silanes, especially SiH4 and/or S! 2H6 is used.

電荷注入阻止層2は、第■族元素または第V族元素が添
加された非晶71ケイ素よりなる。添加物の量は110
−5000DDの範囲か好ましい。
The charge injection blocking layer 2 is made of amorphous 71 silicon doped with a group Ⅰ element or a group V element. The amount of additives is 110
-5000DD range is preferred.

また膜厚は0.01−5μmの範囲が好ましい。Further, the film thickness is preferably in the range of 0.01-5 μm.

添加物として第■族元素を用いるかめるいは第V族元素
を用いるかは、感光体の帯電符号によって決められる。
Whether a Group 1 element or a Group V element is used as an additive is determined by the charge sign of the photoreceptor.

層形成にざいして第■族元索を含む原料カスとしては典
型的にはジボラン(82H6)が、また、第V族元素を
含む原料カスとしては典型的にはホスフィン(PH3>
が用いられる。非晶質ケイ素を主体とするこの電荷注入
阻止層には、第■族必るいは第V族元素に加え、さまざ
まな目的で、更に弛の元素を添加することも可能である
For layer formation, diborane (82H6) is typically used as the raw material waste containing Group I elements, and phosphine (PH3>) is typically used as the raw material waste containing Group V elements.
is used. In addition to the Group I or Group V elements, a relaxation element can be added to this charge injection blocking layer mainly composed of amorphous silicon for various purposes.

光導電層3は、0.11−1O0Dpの範囲の第m族原
子が添加された非晶質ケイ素でおる。膜厚は1−100
μmの範囲が望ましい。、第■族原子を含む原料カスと
しては、典型的にはジポランか用いられる。非晶質ケイ
素を主体とするこの光導電図には、さまざまな目的で第
■族原子に加えざらに他の元素を添加することも可能で
ある。
The photoconductive layer 3 is made of amorphous silicon doped with m-group atoms in the range of 0.11-100Dp. Film thickness is 1-100
A range of μm is desirable. , Diporan is typically used as the raw material waste containing Group (I) atoms. In addition to Group I atoms, other elements can also be added to this photoconductive diagram, which is mainly composed of amorphous silicon, for various purposes.

また、この光導電層は電荷発生層と電荷輸送層との二層
から構成されていてもよい。
Further, this photoconductive layer may be composed of two layers: a charge generation layer and a charge transport layer.

表面層4及び5は窒素原子が添加された非晶質ケイ素を
主体としてなる。層形成に際して、窒素原子を含む原料
ガスとしては、窒素原子を構成要素とし気相で使用し得
る単体あるいは化合物であればずぺて用いることができ
るか、例としては、N2単体カス必るいはNH3、N 
2 H4、HN3等の水素化窒素化合物のガスを挙げる
ことができる。第一及び第二の表面、芒4及び5で使用
される窒素原子を含む原料カスは同一でおってもあるい
は異なっていてもよい。ただし、第二の表面層5におけ
る窒素濃度は第一の表面層4にあける窒素原子)開度よ
りも高くなければならない。また、非晶質ケイ素を主体
とするこれら第一及び第二の表面層4及び5には、さま
ざまな目的で、窒素原子に加えざらに他の元素を添加す
ることも可能である。
The surface layers 4 and 5 are mainly composed of amorphous silicon doped with nitrogen atoms. In layer formation, any raw material gas containing nitrogen atoms can be used as long as it is a single substance or compound that has nitrogen atoms as a constituent and can be used in a gas phase. NH3, N
2 Hydrogenated nitrogen compound gases such as H4 and HN3 can be mentioned. The nitrogen atom-containing raw material scraps used on the first and second surfaces, awns 4 and 5, may be the same or different. However, the nitrogen concentration in the second surface layer 5 must be higher than the degree of opening of nitrogen atoms in the first surface layer 4. In addition to nitrogen atoms, other elements can also be added to the first and second surface layers 4 and 5, which are mainly composed of amorphous silicon, for various purposes.

第一の表面層4における窒素原子濃度はケイ素原子に対
する原子数比として、0.1−71.0の範囲にあるの
か好ましい。また、その膜厚は0.01=5μ7nの範
囲であることか望ましい。
The nitrogen atom concentration in the first surface layer 4 is preferably in the range of 0.1 to 71.0 as an atomic ratio to silicon atoms. Further, it is desirable that the film thickness is in the range of 0.01=5μ7n.

第二の表面層5における窒素原子濃度はケイ素原子に対
する原子数比として、0.5−1.3の範囲におるのが
好ましい。また、その膜厚は0.01−5μmの範囲で
あることか望ましい。
The nitrogen atom concentration in the second surface layer 5 is preferably in the range of 0.5-1.3 as an atomic ratio to silicon atoms. Further, it is desirable that the film thickness is in the range of 0.01-5 μm.

本発明の電子写真用感光体は、どのような電子写真プロ
セスにおいても使用できるか、持に、感光体の少なくと
も表面か35〜50″C1,: 7JO熱された状態で
操作する電子写真プロセスにおいて、一層有利に使用す
ることができる。なぜならば、感光体表面か上記の範囲
に加熱された状態で用いると、どのような使用環境の下
でも安定かつ高品位な初期画像を与え、かつ繰り返し使
用しても画質の劣化を生じることがないからである。
The electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used in any electrophotographic process, especially in an electrophotographic process in which at least the surface of the photoreceptor is heated to 35 to 50 inches. can be used more advantageously.This is because when used with the photoreceptor surface heated to the above range, a stable and high-quality initial image can be obtained under any usage environment, and it can be used repeatedly. This is because image quality does not deteriorate even when the image quality is changed.

この様な電子写真プロセスについて、第2図によって説
明する。
Such an electrophotographic process will be explained with reference to FIG.

第2図は、本発明の電子写真用感光体を使用した電子写
真装置の概略の構成を示すもので、6は本発明の電子写
真用感光体であり、7は感光体を暗所にて一様帯電する
ための帯電手段、8は原画像に対応する光像を感光体に
露光して潜像を形成するための潜像形成手段、9は潜像
をトナー粉末により顕像化するための現像手段、10は
現像した像を転写部材上に転写するための転写手段、1
1は転写画像を定着するための定着手段、12はクリー
ニング手段、13は転写紙、14は感光体加熱手段で、
回動軸中に石英ランプが取り付けられている。
FIG. 2 shows a schematic configuration of an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photoreceptor of the present invention, 6 is the electrophotographic photoreceptor of the present invention, and 7 is the photoreceptor in a dark place. Charging means for uniformly charging; 8 is a latent image forming means for exposing a photoreceptor to a light image corresponding to the original image to form a latent image; 9 is for making the latent image visible with toner powder; developing means, 10 is a transfer means for transferring the developed image onto a transfer member, 1
1 is a fixing means for fixing the transferred image, 12 is a cleaning means, 13 is a transfer paper, 14 is a photoreceptor heating means,
A quartz lamp is installed in the rotating shaft.

感光体を加熱する手段は任意の位置に設けることができ
る。第2図においては、感光体加熱手段14は、感光体
を回動するための回動軸内部に設けられているが、その
ほか、現像手段、帯電手段、転写手段などと同様に感光
体周面の適当な位置に設けてもよい。また、感光体層側
だけでなく、支持体側に設けることも可能でおる。支持
体側に設ける場合、その位置は任意に設定できるが、例
えば、感光体支持体側に一様に密着して感光体を加熱す
る面状のヒーターの形態が好ましい。
The means for heating the photoreceptor can be provided at any position. In FIG. 2, the photoreceptor heating means 14 is provided inside the rotation shaft for rotating the photoreceptor, but in addition, the photoreceptor heating means 14 is provided on the circumferential surface of the photoreceptor as well as the developing means, charging means, transfer means, etc. It may be provided at an appropriate position. Further, it is possible to provide it not only on the photoreceptor layer side but also on the support body side. When provided on the support side, the position can be set arbitrarily, but for example, a planar heater that uniformly contacts the photoreceptor support side and heats the photoreceptor is preferable.

感光体加熱手段としては、加熱ランプ、例えば石英ガラ
ス中にニクロム線を設けてなる石英ランプ(クォーツラ
ンプ)おるいはシリコーンゴム等の耐熱可撓性ゴム中に
ニクロム線を配置した面状ヒーター等があげられ、その
他、熱風送風型のヒー、ター、赤外線などの輻射熱を利
用したもの、定着部の熱を利用したもの等が適用可能で
ある。これ等感光体加熱手段への通電手段としては、任
意のものが使用できるが、特に加熱手段が感光体支持体
よりも内側に設けられる場合には、感光体が回動するた
め、′スリップリングを介して通電するようなものが好
ましい。
As a means for heating the photoreceptor, a heating lamp such as a quartz lamp (quartz lamp) in which a nichrome wire is disposed in a quartz glass, a sheet heater in which a nichrome wire is disposed in a heat-resistant flexible rubber such as silicone rubber, etc. In addition, a hot air blower type heater, a heater, a heater that uses radiant heat such as infrared rays, a heater that uses heat from a fixing section, etc. are also applicable. Any means can be used to supply electricity to the photoreceptor heating means, but especially when the heating means is provided inside the photoreceptor support, the photoreceptor rotates, so the 'slip ring' It is preferable to use one that conducts electricity through the .

実施例 以下、実施例と比較例とにより本発明を具体的に説明す
る。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained using examples and comparative examples.

円筒上支持体上への非晶質ケイ素膜の生成が可能な容量
結合型プラズマCVD装置を用い、シラン(SiH4)
ガス、水素(H2)ガス、及びジボラン(82H6)ガ
スの混合体をグロー放電分解することにより、円筒上ア
ルミニウム支持体上に約0.5μmの膜厚を有する電荷
注入阻止層を生成した。このときの製造条件は次の通り
でめった。
Silane (SiH4) was
A charge injection blocking layer having a thickness of about 0.5 μm was produced on a cylindrical aluminum support by glow discharge decomposition of a mixture of gas, hydrogen (H2) gas, and diborane (82H6) gas. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流量:  100cm3/min、
100 p p m * 素希釈ジボランガス流”jL
 :  200Cyj3/m’+眠反応器内圧:  0
.5 rorr、 放電型カニ100W。
100% silane gas flow rate: 100cm3/min,
100 p p m * Prime diluted diborane gas flow "jL
: 200Cyj3/m'+ sleep reactor internal pressure: 0
.. 5 rorr, discharge type crab 100W.

放電時間:30m1n。Discharge time: 30m1n.

放電周波fi :  13.56 MH2、支持体:晶
i宴:250°C0 (なお、以下に記)ホする実施例及び比較例において、
各層の製造条件における放電周波数及び支持体温度は、
上記の値に固定した。) 電荷注入阻止層生成ののち、反応器内を十分に排気し、
次いでシランガス、水素ガス、及びジボランガスの混合
体を導入してグロー放電分解することにより電荷注入阻
止層上に約20μmの膜厚を有する光導電層を生成した
。このときの製造条件は次の通りであった。
Discharge frequency fi: 13.56 MH2, support: crystal temperature: 250°C0 (described below) In the following examples and comparative examples,
The discharge frequency and support temperature under the manufacturing conditions of each layer are as follows:
Fixed to the above value. ) After the charge injection blocking layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated,
Next, a mixture of silane gas, hydrogen gas, and diborane gas was introduced and decomposed by glow discharge to form a photoconductive layer having a thickness of about 20 μm on the charge injection blocking layer. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流m :  200CH3/mi眠
ioo%水素ガス流fji :  1800m3/mi
n。
100% silane gas flow m: 200CH3/mi Hydrogen gas flow fji: 1800m3/mi
n.

1ooppm水素希釈ジポランガス流ffi : 20
cm3/1in、反応器内圧:  1.5 Torr 
1ooppm hydrogen diluted diporan gas flowffi: 20
cm3/1in, reactor internal pressure: 1.5 Torr
.

放電型カニ300W、 放電時間: 240 m1n0 光導電層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次いで
シランカス、水素ガス、及びアンモニア(N H3)カ
スの混合体を導入してグロー放電分解することにより光
導電層上に約0.3μ7nの膜厚を石する第一の表面層
を生成した。このときの製造条件は次の通りでめった。
Discharge type crab 300W, discharge time: 240 m1n0 After the photoconductive layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia (NH3) gas is introduced to perform glow discharge decomposition. This produced a first surface layer on the photoconductive layer having a thickness of approximately 0.3 μ7. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流量:  30 に1B3/mi眠
iooχ水素ガス流量:  2000m3/min、1
00%アンモニアガス流m :  30 cm3/mi
n、反応器内圧:  0.5 Torr 。
100% silane gas flow rate: 30 to 1B3/mi hydrogen gas flow rate: 2000m3/min, 1
00% ammonia gas flow m: 30 cm3/mi
n, reactor internal pressure: 0.5 Torr.

放電箱カニ50W、 放電時間:6omin0 この表面層の組成分析を行ったところ、ケイ素原子に対
する窒素原子の原子数比は約0.6であった。
Discharge box crab 50W, discharge time: 6omin0 When the composition of this surface layer was analyzed, the atomic ratio of nitrogen atoms to silicon atoms was about 0.6.

第一の表面層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次
いでシランガス、水素ガス、及びアンモニアガスの混合
体を導入してグロー放電分解することにより、第一の表
面層上に約0.1μmの膜厚を有する第二の表面層を生
成した。このときの製造条件は次の通りであった。
After the formation of the first surface layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia gas is introduced for glow discharge decomposition, so that about 0% A second surface layer was produced with a thickness of .1 μm. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流% :  17 cm3/min
100% silane gas flow%: 17 cm3/min
.

100%水素カス流fii−:  2000m3/mi
n。
100% hydrogen waste flow fii-: 2000m3/mi
n.

ioo%アンモニアカス流Li :  43 cm3/
min。
ioo% Ammonia gas flow Li: 43 cm3/
min.

反応器内圧:  0.5 Torr 。Reactor internal pressure: 0.5 Torr.

放電箱カニ50−1 放電時間:20m1n。Discharge box crab 50-1 Discharge time: 20m1n.

この表面層の組成分析を行ったところ、ケイ素原子に対
する窒素原子の原子数比は約0.8であった。
When the composition of this surface layer was analyzed, the atomic ratio of nitrogen atoms to silicon atoms was approximately 0.8.

以上のようにして得られたアルミニウム支持体上に電荷
注入阻止層、光導電層、第一の表面層、及び第二の表面
層を有する電子写真用感光体を複写機の中で画質評価を
行った。複写機の設定環境は30℃/85%RH120
℃150%RH1及び10℃/15%RHの三種とした
。(以下、これ等3種の環境を総称して三環境という。
The electrophotographic photoreceptor having the charge injection blocking layer, the photoconductive layer, the first surface layer, and the second surface layer on the aluminum support obtained as described above was subjected to image quality evaluation in a copying machine. went. The setting environment of the copying machine is 30℃/85%RH120
Three types were used: 150% RH at 10° C. and 15% RH at 10° C./15% RH. (Hereinafter, these three types of environments will be collectively referred to as the three environments.

)また、複写機内のドラム加熱装置は、ドラム表面が約
45℃となるように作動させた。
) Furthermore, the drum heating device in the copying machine was operated so that the drum surface was at about 45°C.

表面が加熱された上記感光体は、初期時では三環境にお
いて鮮明゛な画像を形成した。また、初期画質評価の後
、20℃150%RHの環境下で約20000枚の複写
試験を行い、その後複写機の設置環境を変えて画質評価
を行ったところ、三環境のいずれにおいても鮮明な画像
が得られた。
The photoreceptor whose surface was heated formed clear images in three environments at the initial stage. After the initial image quality evaluation, we conducted a copying test of approximately 20,000 sheets in an environment of 20°C and 150% RH, and then changed the installation environment of the copying machine and evaluated the image quality. Image obtained.

ざらにこの評価試験で得られた複写物は、初期時及び2
0000枚複写後、いずれの環境においてもかぶりのな
い高い像濃度を示し、また、感光体表面の傷などに基づ
く画質欠陥は82められなかった。
Roughly, the copies obtained in this evaluation test were
After 0,000 copies were made, high image density with no fog was observed in any environment, and no image quality defects due to scratches on the surface of the photoreceptor were observed.

比較例1 実施例と同一の装置、同一の条件・方法によって、アル
ミニウム支持体上に電荷注入阻止層及び光導電層を順次
生成させた。
Comparative Example 1 A charge injection blocking layer and a photoconductive layer were sequentially formed on an aluminum support using the same apparatus, the same conditions, and the same method as in Example.

光導電層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次いで
シランガス、水素ガス、及びアンモニアガスの混合体を
導入してグロー放電分解することにより光導電層上に約
0.3μmの膜厚を有する表面層を生成した。このとき
の製造条件は次の通りであった。
After forming the photoconductive layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia gas is introduced and decomposed by glow discharge to form a film with a thickness of approximately 0.3 μm on the photoconductive layer. A surface layer with . The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流量:  17 cm3/mi眠1
00%水素カス流fi :  2000m3/min。
100% silane gas flow rate: 17 cm3/mi 1
00% hydrogen sludge flow fi: 2000m3/min.

ioo%アンモニアガス流ta :  43 cm3/
min。
ioo% ammonia gas flow ta: 43 cm3/
min.

反応器内圧:  0.5 Torr 。Reactor internal pressure: 0.5 Torr.

放電箱カニ50W、 放電時間:60m1n0 この表面層の組成分析を行ったところ、ケイ素原子に対
する窒素原子の原子数比は約0.8であった。
Discharge box crab 50W, discharge time: 60m1n0 When the composition of this surface layer was analyzed, the atomic ratio of nitrogen atoms to silicon atoms was about 0.8.

以上のようにしてアルミニウム支持体上に製造された電
荷注入阻止層、光導電層、表面層を有する感光体を複写
機内で評価したところ、初期時(数サイフルル数10サ
イクル)より激しい画像流れを呈した。
When a photoreceptor having a charge injection blocking layer, a photoconductive layer, and a surface layer manufactured on an aluminum support as described above was evaluated in a copying machine, it was found that severe image blurring occurred from the initial stage (several cycles to several tens of cycles). presented.

比較例2 実施例と同一の装置、同一の条件・方法によって、アル
ミニウム支持体上に電荷注入阻止1苦、光導電層及び表
面層を順次生成させた。但し、第二の表面層は生成させ
なかった。
Comparative Example 2 A charge injection blocking layer, a photoconductive layer, and a surface layer were sequentially formed on an aluminum support using the same apparatus, the same conditions, and the same method as in Example. However, the second surface layer was not formed.

得られた電子写真用感光体を複写懇で画質計1西を行っ
たところ、初期時(数サイフルル故10サイクル)は三
環境において鮮明な画像を示した。
When the obtained electrophotographic photoreceptor was subjected to an image quality test at a copying conference, it showed clear images in the three environments at the initial stage (10 cycles due to several cycles).

一方、初期画質評価の市と、20℃150%RHの環境
の下に約20,000枚の複写試論を行い、そののち環
境を変えて画質評価を行ったところ、20°C150%
RHの環境下においては鮮明な画像が得られたが、30
℃/85%RH及び10℃/15%RHの環境下では、
画像流れを呈した。
On the other hand, in the initial image quality evaluation, approximately 20,000 copies were made in an environment of 20°C, 150% RH, and then the image quality was evaluated under a different environment.
Although clear images were obtained under the RH environment,
Under the environment of ℃/85%RH and 10℃/15%RH,
The image showed blurring.

比較例3 比較例2で作製された電子写真用感光体を同様にして画
像評価を行った。しかしながら、プリンター内のドラム
加熱装置を作動させ、ドラム表面が約45°Cとなるよ
うにした。
Comparative Example 3 Image evaluation of the electrophotographic photoreceptor produced in Comparative Example 2 was performed in the same manner. However, the drum heating device in the printer was turned on to bring the drum surface to about 45°C.

この場合、初期時は三環境において鮮明な画像を示した
。一方、初期画質評価のめと、20℃150%RHの環
境の下に約20.000枚の複写試験を行い、そののち
プリンターの設置環境を変えて画質評価を行ったところ
、30℃/85%RHの環境下においては鮮明な画像が
得られたが、20℃150%RH及び10℃/15%R
Hの環境下では、画像流れを呈した。
In this case, clear images were shown in the three environments at the initial stage. On the other hand, for initial image quality evaluation, we performed a copying test of approximately 20,000 sheets in an environment of 20°C/150% RH, and then changed the printer installation environment and evaluated the image quality. %RH environment, clear images were obtained, but at 20°C/150%RH and 10°C/15%R
Under the H environment, image blurring occurred.

発明の効果 本発明の電子写真用感光体は上記のような構成を有する
から、高品位の初期画像を与え、かつ経時安定性及び耐
刷性にすぐれている。また、この電子写真用感光体は、
可視光領域において高い光感度を有し、また暗抵抗が高
く帯電能力に優れ、ざらに、使用環境に対する特性の依
存性も小さいという優れた性質を有している。
Effects of the Invention Since the electrophotographic photoreceptor of the present invention has the above-described structure, it provides a high-quality initial image and has excellent stability over time and printing durability. In addition, this electrophotographic photoreceptor is
It has excellent properties such as high photosensitivity in the visible light region, high dark resistance, excellent charging ability, and low dependence of characteristics on the environment in which it is used.

したがって、得られた複写画像は、解像度及び階調再現
性に優れ、かつ初期時及び長時間の反復操作後のいずれ
においても、かぶりのない高い像濃度を示す。
Therefore, the obtained copied image has excellent resolution and gradation reproducibility, and exhibits high image density without fog both at the initial stage and after a long period of repeated operations.

ざらにまた、本発明の電子写真用感光体は、感光体の少
なくとも表面が35〜50℃に加熱された状態で操作す
る電子写真プロセスにおいて、特に有利に使用すること
ができる。すなわち、感光体表面が上記の範囲に加熱さ
れた状態で用いると、どのような使用環境の下でも安定
かつ高品位な初期測置を与え、かつ繰り返し操作しても
画質の劣化を生じることがない。
Furthermore, the electrophotographic photoreceptor of the present invention can be particularly advantageously used in an electrophotographic process in which at least the surface of the photoreceptor is heated to 35 to 50°C. In other words, when used with the photoconductor surface heated to the above range, it provides stable and high-quality initial positioning under any usage environment, and does not cause deterioration of image quality even after repeated operations. do not have.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の電子写真用感光体の構造を示す模式
図、第2図は、本発明の電子写真用感光体を使用した電
子写真装置の概略の構成を示す説明図である。 1・・・支持体、2・・・電荷注入阻止層、3・・・光
導電層、4・・・第一の表面層、5・・・第二の表面層
、6・・・電子写真用感光体、7・・・帯電手段、8・
・・潜像形成手段、9・・・現象手段、10・・・転写
手段、11・・・定着手段、12・・・クリーニング手
段、13・・・転写紙、14・・・感光体加熱手段。 特許出願人  富士ゼロックス株式会社代理人    
弁理士  洞部 閃l 第1図 第2図
FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of the electrophotographic photoreceptor of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram showing the general structure of an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photoreceptor of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Support, 2... Charge injection blocking layer, 3... Photoconductive layer, 4... First surface layer, 5... Second surface layer, 6... Electrophotography photoreceptor for use, 7...charging means, 8.
...Latent image forming means, 9... Phenomenon means, 10... Transfer means, 11... Fixing means, 12... Cleaning means, 13... Transfer paper, 14... Photoreceptor heating means . Patent applicant Fuji Xerox Co., Ltd. Agent
Patent Attorney Senl Horabe Figure 1 Figure 2

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に光導電層、第一の表面層、および第二
の表面層を順次積層することにより構成され、かつ該光
導電層は非晶質ケイ素を主体としてなり、また該第一の
表面層および第二の表面層はそれぞれ窒素原子が添加さ
れた非晶質ケイ素を主体としてなり、かつ第二の表面層
における窒素原子濃度が第一の表面層における窒素原子
濃度よりも高いことを特徴とする電子写真用感光体。
(1) It is constructed by sequentially laminating a photoconductive layer, a first surface layer, and a second surface layer on a support, and the photoconductive layer is mainly made of amorphous silicon, and The first surface layer and the second surface layer each mainly consist of amorphous silicon doped with nitrogen atoms, and the nitrogen atom concentration in the second surface layer is higher than the nitrogen atom concentration in the first surface layer. A photoreceptor for electrophotography characterized by the following.
(2)前記光導電層が0.1−100ppmの範囲の第
III族原子を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の電子写真用感光体。
(2) The photoconductive layer has a concentration of 0.1-100 ppm.
Claim 1 characterized in that it contains a group III atom.
The electrophotographic photoreceptor described in .
(3)前記支持体と光導電層との間に電荷注入阻止層を
有することを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の
電子写真用感光体。
(3) The electrophotographic photoreceptor according to claim 2, further comprising a charge injection blocking layer between the support and the photoconductive layer.
(4)前記電荷注入阻止層が10−5000ppmの範
囲の第III族または第V族原子を添加された非晶質ケイ
素であることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載
の電子写真用感光体。
(4) Electrophotography according to claim 3, wherein the charge injection blocking layer is amorphous silicon doped with Group III or Group V atoms in a range of 10-5000 ppm. Photoreceptor for use.
(5)感光体の少なくとも表面が35〜50℃に加熱さ
れた状態で操作する電子写真プロセスにおいて使用する
ための特許請求の範囲第1項、第2項、第3項又は第4
項に記載の電子写真用感光体。
(5) Claims 1, 2, 3, or 4 for use in an electrophotographic process in which at least the surface of the photoreceptor is heated to 35 to 50°C.
The electrophotographic photoreceptor described in .
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01321440A (en) * 1988-06-24 1989-12-27 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH02124578A (en) * 1988-10-11 1990-05-11 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH0488350A (en) * 1990-08-01 1992-03-23 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56115573A (en) * 1980-02-15 1981-09-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Photoconductive element
JPS5910949A (en) * 1982-06-15 1984-01-20 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photoreceptor
JPS59147353A (en) * 1983-02-12 1984-08-23 Minolta Camera Co Ltd Photosensitive body
JPS6026345A (en) * 1983-07-21 1985-02-09 Seiko Epson Corp Electrophotographic sensitive body
JPS6045258A (en) * 1983-08-23 1985-03-11 Sharp Corp Electrophotographic sensitive body
JPS61183661A (en) * 1985-02-08 1986-08-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive body
JPS6281641A (en) * 1985-09-30 1987-04-15 ゼロツクス コ−ポレ−シヨン Overcoating type amorphous silicon image forming member

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56115573A (en) * 1980-02-15 1981-09-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Photoconductive element
JPS5910949A (en) * 1982-06-15 1984-01-20 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photoreceptor
JPS59147353A (en) * 1983-02-12 1984-08-23 Minolta Camera Co Ltd Photosensitive body
JPS6026345A (en) * 1983-07-21 1985-02-09 Seiko Epson Corp Electrophotographic sensitive body
JPS6045258A (en) * 1983-08-23 1985-03-11 Sharp Corp Electrophotographic sensitive body
JPS61183661A (en) * 1985-02-08 1986-08-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive body
JPS6281641A (en) * 1985-09-30 1987-04-15 ゼロツクス コ−ポレ−シヨン Overcoating type amorphous silicon image forming member

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01321440A (en) * 1988-06-24 1989-12-27 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH02124578A (en) * 1988-10-11 1990-05-11 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body
JPH0488350A (en) * 1990-08-01 1992-03-23 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic sensitive body

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