JPS62295063A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPS62295063A
JPS62295063A JP13817686A JP13817686A JPS62295063A JP S62295063 A JPS62295063 A JP S62295063A JP 13817686 A JP13817686 A JP 13817686A JP 13817686 A JP13817686 A JP 13817686A JP S62295063 A JPS62295063 A JP S62295063A
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Japan
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layer
photoreceptor
amorphous silicon
surface layer
electrophotographic photoreceptor
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Kenichi Karakida
唐木田 健一
Shigeru Yagi
茂 八木
Yuzuru Fukuda
福田 讓
Masayuki Nishikawa
雅之 西川
Yasuo Ro
盧 泰男
Noriyoshi Takahashi
高橋 徳好
Masahito Ono
雅人 小野
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    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/08Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
    • G03G5/082Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
    • G03G5/08214Silicon-based
    • G03G5/08235Silicon-based comprising three or four silicon-based layers

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Abstract

PURPOSE:To form a high-quality initial image and to enhance stability against the lapse of time and printing resistance by forming a photoconductive layer composed essentially of amorphous silicon containing Ge, and the second surface layer containing nitrogen higher in concentration than N contained in the first surface layer. CONSTITUTION:The photoconductive layer 3 is formed on an electric charge injection blocking layer 2 formed on a substrate 1, the layer 3 is composed essentially of amorphous silicon containing Ge in at least one layer region of it, and the first surface layer 4 and the second surface layer 5 are composed essentially of amorphous silicon containing nitrogen in a concentration higher in the layer 5 than in the layer 4. It is preferred to control the nitrogen concentration of the layer 4 in the range of 10-100atom% of Si, and its film thickness in the range of 0.01-5mum. On the other hand, it is preferred to control the nitrogen concentration of the layer 5 in the range of 50-130atom% of Si, and its film thickness in the range of 0.01-5mum.

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 本発明は、非晶質ケイ素を含む電子写真用感光体に関す
る。
Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention Field of Industrial Application The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor containing amorphous silicon.

従来の技術 電子写真用感光体の野命は主として電気特性上の劣化、
表面における傷の発生、感光体材料自体の変質(特に熱
的変化)などの要因によって支配されていることが知ら
れている。近年、非晶質ケイ素を主体とする材料を用い
た感光体が注目されているのは、その材料が従来の感光
体のもつ上記寿命要因を根本的に除去できる可能性を有
しているからでおる。すなわち、非晶質ケイ素材料は電
気特性上安定な繰返し特性を有し、高硬度かつ熱的にも
安定であり、極めて長寿命な感光体を提供できるポテン
シャルを有している。
Conventional technology The future of electrophotographic photoreceptors is mainly due to deterioration in electrical characteristics,
It is known that this is controlled by factors such as the occurrence of scratches on the surface and changes in the quality of the photoreceptor material itself (especially thermal changes). In recent years, photoreceptors using materials mainly composed of amorphous silicon have been attracting attention because these materials have the potential to fundamentally eliminate the above-mentioned lifespan factors of conventional photoreceptors. I'll go. That is, the amorphous silicon material has stable repeatability in terms of electrical properties, high hardness and thermal stability, and has the potential to provide a photoreceptor with an extremely long life.

また、非晶質ケイ素は単に長寿命を期待させるばかりで
なく、高い光感度をもら、中・高速の複写はおるいはプ
リンターへの適用の可能性を有している。
In addition, amorphous silicon not only has a long life expectancy, but also has high photosensitivity, and has the potential to be used in medium to high speed copying and printers.

発明か解決しようとする問題点 非晶質ケイ素は、感光体用材料としてこのように湊れた
ポテンシャルを有するものでおるが、瑛実には暗抵抗、
長波長における光感度、態域的強度(とりわけ延性)、
経時安定性、ざらには画質の環境雰囲気(温度、湿度)
依存性において問題を有している。
Problems to be Solved by the Invention Amorphous silicon has great potential as a photoreceptor material, but it has dark resistance,
photosensitivity at long wavelengths, regional strength (especially ductility),
Environmental stability (temperature, humidity) for stability over time and image quality
It has problems with dependencies.

たとえば、非晶質ケイ素材料は確かに高い光感度を有し
てはいるが、そのピークは700nm付近であり、それ
より長波長側になると急激な感度低下が12察される。
For example, although an amorphous silicon material does have high photosensitivity, its peak is around 700 nm, and a sharp drop in sensitivity is observed at wavelengths longer than that.

したがうて、この材料を約aoonmの波長をもつ半導
体レーザーを光源としたプリンター用の感光体に適用し
ようとした場合、感度は未だ十分とはいえない。また、
800nm付近において感度−波長の関係は急激な傾き
を有しているので、感光体の製造上のバラツキあるいは
半導体レーザーの波長のバラツキによって感光体の実効
的感度が大きく変化してしまうという不安定性を内在し
ている。
Therefore, when this material is applied to a photoreceptor for a printer using a semiconductor laser having a wavelength of about aoonm as a light source, the sensitivity is still insufficient. Also,
Since the relationship between sensitivity and wavelength has a steep slope in the vicinity of 800 nm, there is instability in that the effective sensitivity of the photoreceptor changes significantly due to variations in the manufacturing process of the photoreceptor or variations in the wavelength of the semiconductor laser. It is inherent.

また、非晶質ケイ素材料は確かに高硬度で必つ−て、ヴ
イツカース硬度は1000オーダーの1直を示すが、そ
れよりも低硬度の材料(たとえば、複写用紙端あるいは
複写機内のクリーニング ブレードなど)と接触するこ
とによってその接融部分が画像ぬけを呈するという問題
を有している。
Furthermore, although amorphous silicon materials do have high hardness and exhibit a Witzkers hardness of the order of 1000, materials with lower hardness (for example, the edges of copy paper or cleaning blades in copy machines, etc.) ) has the problem that the welded portion exhibits image omission when it comes into contact with the fused portion.

ざらに、非晶質ケイ素感光体は、複写機(又はプリンタ
ー)内で比較的長期にわたって繰り返し使用した場合、
解像度の低下(画像流れ)を引き起こすことが知られて
いる。この原因は感光体表面への異物の付着及び/ある
いは感光体自身の変質によるものと考えられている。
Generally speaking, when an amorphous silicon photoreceptor is repeatedly used in a copier (or printer) for a relatively long period of time,
This is known to cause a decrease in resolution (image blur). The cause of this is thought to be the attachment of foreign matter to the surface of the photoreceptor and/or deterioration of the photoreceptor itself.

ざらに、画像流れ現象は、感光体への異物の付着や変質
によるもののほかに、感光体の構成上の理由、(例えば
不適切な表面層の使用)に劣っても生じるか、この場合
には画像流れは、初期時、すなわち、故サイクルないし
数10サイクル程度以内で発生する。
In general, the image blurring phenomenon may occur not only due to the adhesion of foreign matter to the photoconductor or deterioration of its quality, but also due to structural reasons of the photoconductor (for example, the use of an inappropriate surface layer), or in this case, In this case, image deletion occurs at the initial stage, that is, within about one to several ten cycles.

本発明は、上記非晶質ケイ累感光体の諸問題を解決しよ
うとするものでおる。
The present invention aims to solve the problems of the amorphous silicon photoreceptor described above.

すなわち、本発明の目的は、高品位の初期画像を与え、
かつ経時安定性および耐刷性にすぐれた電子写真用感光
体を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to provide a high-quality initial image,
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that has excellent stability over time and printing durability.

本発明の別の目的は、可視光領域のみならす半導体レー
ザーの発1辰波長である近赤外領域までにわたって光感
度の高い電子写真用感光体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having high photosensitivity not only in the visible light region but also in the near-infrared region, which is the emission wavelength of a semiconductor laser.

本発明の他の目的は、暗抵抗が高く帯電能力にすぐれた
電子写真用感光体を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor with high dark resistance and excellent charging ability.

本発明の他の目的は、使用環境に対する待[生の依存性
の小ざい感光体を提供することにおる。
Another object of the present invention is to provide a photoreceptor that is less dependent on the operating environment.

本発明のざらに他の目的は、すべての使用環境において
安定かつ高品位な初期画質を与え、かつ、繰返し使用に
よっても劣化を生じない電子写真用感光体を提供するこ
とにある。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that provides stable and high initial image quality in all usage environments and that does not deteriorate even after repeated use.

問題点を解決するための手段 本発明の前記諸口的は次の電子写真用感光体によって達
成できる。すなわち、本発明の電子写真用感光体は、支
持体上に光導電層、第一の表面層、および第二の表面層
を順次積層することにより溝成され、かつ該光導電層は
その留領域の少なくとも一部にゲルマニウム原子か添加
された非晶質ケイ素を主体としてなり、また該第一の表
面図および第二の表面図はそれぞれ窒素原子が添加され
た非晶質ケイ素を主体としてなり、かつ第二の表面層に
おける窒素原子濃度か第一の表面層における窒素原子濃
度よりも高いことを特徴とする。
Means for Solving the Problems The above aspects of the present invention can be achieved by the following electrophotographic photoreceptor. That is, in the electrophotographic photoreceptor of the present invention, a groove is formed by sequentially laminating a photoconductive layer, a first surface layer, and a second surface layer on a support, and the photoconductive layer At least a part of the region is mainly composed of amorphous silicon doped with germanium atoms, and the first surface view and the second surface view are each mainly composed of amorphous silicon doped with nitrogen atoms. , and the nitrogen atom concentration in the second surface layer is higher than the nitrogen atom concentration in the first surface layer.

以下、図面に従い本発明の電子写真用感光体について詳
細に説明する。
Hereinafter, the electrophotographic photoreceptor of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図ないし第3図は、それぞれ本発明の電子写真用感
光体の典型的構造を例示する模式図でおる。図中の1は
支持体、2は電荷注入阻止層、3は光導電層、31は電
荷輸送層、32は、電荷発生層、そして4および5はそ
れぞれ第一の表面層および第二の表面層である。
1 to 3 are schematic diagrams each illustrating a typical structure of the electrophotographic photoreceptor of the present invention. In the figure, 1 is a support, 2 is a charge injection blocking layer, 3 is a photoconductive layer, 31 is a charge transport layer, 32 is a charge generation layer, and 4 and 5 are a first surface layer and a second surface, respectively. It is a layer.

支持体1としてはアルミニウム、ニッケル、クロム、ス
テンレス鋼等の金属類、または導電膜を有するプラスチ
ックシート、ガラス、紙、など目的に応じて適宜選択す
ることができる。
The support 1 can be appropriately selected depending on the purpose, such as metals such as aluminum, nickel, chromium, and stainless steel, or plastic sheets with conductive films, glass, and paper.

上記2から5までの各層は非晶質ケイ素を主体とする層
であって、グロー放電分解法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法、真空蒸着法などの手段によって形
成することができる。グロー放電分解を例にとってその
製造法を示すと次のようになる。まず、原料ガスとして
は、ケイ素原子を含む主原料ガスと必要な添加物原子を
含む原料ガスの混合体を用いる。この場合、必要によっ
て、この混合体に、ざらに水素ガスあるいは不活性ガス
などのキャリアガスを混合してもよい。成膜条件は交流
放電を例とすると、周波数50 Hz−5GH2、反応
器内圧1O−4−5Torr、放電電力1O−2000
W、また支持体温度は30−300 ℃でおる。各層の
膜厚は放電時間の調整により適宜設定することかできる
。また、上記ケイ素原子を含む主原料ガスとしてはシラ
ン類、特にSiH4および/あるいはSi2H6が用い
られる。
Each of the layers 2 to 5 above is a layer mainly composed of amorphous silicon, and can be formed by a glow discharge decomposition method, a sputtering method, an ion blasting method, a vacuum evaporation method, or the like. Taking glow discharge decomposition as an example, the manufacturing method is as follows. First, as the raw material gas, a mixture of a main raw material gas containing silicon atoms and a raw material gas containing necessary additive atoms is used. In this case, if necessary, a carrier gas such as hydrogen gas or an inert gas may be mixed into this mixture. Taking AC discharge as an example, the film forming conditions are: frequency 50 Hz-5GH2, reactor internal pressure 10-4-5 Torr, discharge power 10-2000.
W, and the support temperature is 30-300°C. The thickness of each layer can be appropriately set by adjusting the discharge time. Further, as the main raw material gas containing silicon atoms, silanes, particularly SiH4 and/or Si2H6, are used.

電荷注入阻止層2は、第■族元素または第V族元素が添
加された非晶質ケイ素よりなる。添加物の量は110−
5000ppの範囲が好ましい。
The charge injection blocking layer 2 is made of amorphous silicon doped with a group Ⅰ element or a group V element. The amount of additives is 110-
A range of 5000 pp is preferred.

また膜厚は0.01−5μmの範囲が好ましい。Further, the film thickness is preferably in the range of 0.01-5 μm.

添加物として第■族元素を用いるかあるいは第V族元素
を用いるかは、感光体の帯電符号によって決められる。
Whether a Group Ⅰ element or a Group V element is used as an additive is determined by the charge sign of the photoreceptor.

層形成にざいして第■族元素を含む原料ガスとしては典
型的にはジボラン(B2H6)が、また、第V族元素を
含む原料ガスとしては典型的にはホスフィン(PH3)
が用いられる。非晶質ケイ素を主体とするこの電荷注入
阻止層には、第■族必るいは第V族元素に加え、さまざ
まな目的で、ざらに他の元素を添加することも可能であ
る。
For layer formation, diborane (B2H6) is typically used as a raw material gas containing Group I elements, and phosphine (PH3) is typically used as a raw material gas containing Group V elements.
is used. In addition to the Group I or Group V elements, other elements may be added to this charge injection blocking layer mainly composed of amorphous silicon for various purposes.

光導電層3は、その層領域の少なくとも一部にゲルマニ
ウム原子が添加された非晶質ケイ素を主体としてなる。
The photoconductive layer 3 is mainly made of amorphous silicon with germanium atoms added to at least a portion of its layer region.

膜厚は1−100μmの範囲が望ましい。層形成にざい
して、ゲルマニウム原子を含む原料ガスとしては、ゲル
マニウムを構成要素とし気相で使用し得るものであれば
何でも用いることがてきるが、典型的にはゲルマン(G
eH4>ガスか使用される。また、この光導電層は、第
2図および第3図に例示するように、電荷発生層と電荷
輸送層の二層をもって構成し機能分離をすることによっ
て、その効果は一層顕著となる。
The film thickness is preferably in the range of 1-100 μm. For layer formation, any source gas containing germanium atoms can be used as long as it contains germanium as a component and can be used in the gas phase, but germanium (G) is typically used.
eH4>gas is used. Further, as illustrated in FIGS. 2 and 3, this photoconductive layer is composed of two layers, a charge generation layer and a charge transport layer, for functional separation, thereby making the effect even more remarkable.

電荷輸送層31は第■族元索か添加された非晶質ケイ素
を主体としてなる。膜厚は、1−100μmの範囲が望
ましい。層形成にさいして、第■族元素を含む原:Y1
カスとしては、!1′tl型的にはジボランが用いられ
る。また、第■族元累の添加量は0.11−1O0pp
の範囲が好ましい。
The charge transport layer 31 is mainly composed of amorphous silicon doped with a Group 1 element. The film thickness is preferably in the range of 1-100 μm. In layer formation, an element containing a group Ⅰ element: Y1
As for the dregs! Diborane is used in the 1'tl type. In addition, the amount of Group Ⅰ elements added is 0.11-1O0pp.
A range of is preferred.

電荷発生層32はゲルマニウム原子か添加された非晶質
ケイ素を主体としてなる。膜厚は0. 1−10μmの
範囲が望ましい。また、ゲルマニウム原子の添加量は、
ケイ素原子に対する原子数比として、0.1−1.5の
範囲か好ましい。
The charge generation layer 32 is mainly composed of amorphous silicon doped with germanium atoms. Film thickness is 0. A range of 1-10 μm is desirable. In addition, the amount of germanium atoms added is
The atomic ratio to silicon atoms is preferably in the range of 0.1-1.5.

非晶質ケイ素を主体とする光導電層3必るいはそれを構
成する電荷発生層32および電荷輸送層31には、さま
ざまな目的で、上に記したちの以外の原子を添加するこ
とも可能である。
Atoms other than those mentioned above may be added to the photoconductive layer 3 mainly composed of amorphous silicon, or to the charge generation layer 32 and charge transport layer 31 that constitute it, for various purposes. It is.

表面層4および5は窒素原子か添加された非晶質ケイ素
を主体としてなる。層形成にざいして、窒素原子を含む
原料ガスとしては窒素原子を(構成要素とし気相で使用
し得る単体おるいは化合物であればすべて用いることが
できるが、例としては、N2単体ガスおるいはN H3
、N2H4、HN 3等の水素化窒素化合物のカスを挙
げることかできる。第一及び第二の表面層4及び5て使
用される窒素原子を含む原料ガスは同一て必っても必る
いは異なっていてもよい。ただし、第二の表面層5にお
ける窒素濃度は第一の表面層4における窒素原子濃度よ
りも高くなければならない。また、非晶質ケイ素を主体
とするこれら第一及び第二の表面図4及び5には、さま
ざまな目的で、窒素原子に加えざらに他の元素を添加す
ることも可能である。
The surface layers 4 and 5 are mainly composed of amorphous silicon doped with nitrogen atoms. For layer formation, nitrogen atoms can be used as a raw material gas containing nitrogen atoms (any single substance or compound that can be used as a constituent element in the gas phase can be used, but for example, N2 gas or RuihaNH3
, N2H4, HN3, etc. can be mentioned. The raw material gases containing nitrogen atoms used in the first and second surface layers 4 and 5 may be the same or different. However, the nitrogen concentration in the second surface layer 5 must be higher than the nitrogen atom concentration in the first surface layer 4. In addition to nitrogen atoms, other elements can also be added to these first and second surfaces (FIGS. 4 and 5), which are mainly composed of amorphous silicon, for various purposes.

第一の表面図4における窒素原子濃度は、ケイ素原子に
対する原子数比として0.1−L Oの範囲にあるのが
好ましい。また、その膜厚は0.01−5μmの範囲で
あることが望ましい。
The nitrogen atom concentration in the first surface diagram 4 is preferably in the range of 0.1-LO as an atomic ratio to silicon atoms. Moreover, the film thickness is preferably in the range of 0.01-5 μm.

第二の表面層5における窒素原子濃度は、ケイ素原子に
対する原子数比として0.5−1.3の範囲にあるのが
好ましい。また、その膜厚は0.01−5μmの範囲で
あることが望ましい。
The nitrogen atom concentration in the second surface layer 5 is preferably in the range of 0.5-1.3 as an atomic ratio to silicon atoms. Moreover, the film thickness is preferably in the range of 0.01-5 μm.

本発明の電子写真用感光体は、どのような電子写真プロ
セスにおいても使用できるが、特に、感光体の少なくと
も表面が35〜50℃に加熱された状態で操作する電子
写真プロセスにおいて、一層有利に使用することができ
る。なぜならば、感光体表面が上記の範囲に加熱された
状態で用いると、どのような使用環境の下でも安定かつ
高品位な初期画像を与え、かつ繰り返し使用しても画質
の劣化を生じることがないからである。
The electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used in any electrophotographic process, but is particularly advantageous in an electrophotographic process in which at least the surface of the photoreceptor is heated to 35 to 50°C. can be used. This is because when used with the photoreceptor surface heated to the above range, it provides a stable and high-quality initial image under any usage environment, and the image quality does not deteriorate even after repeated use. That's because there isn't.

この様な電子写真プロセスについて、第4図によって説
明する。
Such an electrophotographic process will be explained with reference to FIG.

第4図は、本発明の電子写真用感光体を使用した電子写
真装置の概略の溝成を示すもので、6は本発明の電子写
真用感光体でおり、7は感光体を暗所にて一様帯電する
ための帯電手段、8は原画像に対応する光像を感光体に
露光して潜像を形成するための潜像形成手段、9は潜像
をトナー粉末により顕像化するための現像手段、10は
現像した象を転写部材上に転写するための転写手段、1
1は転写画像を定着するための定着手段、12はクリー
ニング手段、13は転写紙、14は感光体加熱手段で、
回動軸中に石英ランプが取り付けられている。
FIG. 4 shows a schematic groove configuration of an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photoreceptor of the present invention, where 6 is the electrophotographic photoreceptor of the present invention, and 7 is the photoreceptor placed in a dark place. 8, a latent image forming means for exposing a photoreceptor to a light image corresponding to the original image to form a latent image; 9, making the latent image visible with toner powder; 10 is a transfer means for transferring the developed image onto a transfer member; 1
1 is a fixing means for fixing the transferred image, 12 is a cleaning means, 13 is a transfer paper, 14 is a photoreceptor heating means,
A quartz lamp is installed in the rotating shaft.

感光体を加熱する手段は任意の位置に設けることができ
る。第4図においては、感光体加熱手段14は、感光体
を回動するための回動軸内部に設けられているか、その
ほか、現像手段、帯電手段、転写手段などと同様に感光
体周面の適当な位置に設けてもよい。また、感光体層側
だけでなく、支持体側【こ設けることも可能でおる。支
持体側に設ける場合、その位置は任意に設定できるが、
例えば、感光体支持体側に一様に密行して感光体を加熱
する面状のヒーターの形態が好ましい。
The means for heating the photoreceptor can be provided at any position. In FIG. 4, the photoreceptor heating means 14 is provided inside the rotation shaft for rotating the photoreceptor, or is placed on the circumferential surface of the photoreceptor like the developing means, charging means, transfer means, etc. It may be provided at an appropriate position. Further, it is possible to provide this not only on the photoreceptor layer side but also on the support side. When provided on the support side, its position can be set arbitrarily, but
For example, a planar heater that heats the photoreceptor evenly close to the photoreceptor support side is preferable.

感光体加熱手段としては、加熱ランプ、例えば石英ガラ
ス中にニクロム線を設けてなる石英ランプ(クォーツラ
ンプ)おるいはシリコーンゴム等の耐熱可撓[生ゴム中
にニクロム線を配置した面状ヒーター等がめげられ、そ
の他、熱風送風型のヒーター、赤外線などの輻射熱を利
用したもの、定着部の熱を利用したちの等か適用可能で
おる。これ等感光体加熱手段への通電手段としては、任
意のものか使用できるが、特に加熱手段が感光体支持体
よりも内側に設けられる場合には、感光体が回動するた
め、スリップリングを介して通電するようなものか好ま
しい。
As a means for heating the photoreceptor, heat lamps such as quartz lamps (quartz lamps) in which nichrome wires are arranged in quartz glass, heat-resistant flexible materials such as silicone rubber [sheet heaters in which nichrome wires are arranged in raw rubber, etc.] are used. However, other methods such as a hot air blower type heater, a heater that uses radiant heat such as infrared rays, and a heater that uses heat from the fixing section are also applicable. Any means for supplying electricity to the photoreceptor heating means can be used, but in particular when the heating means is provided inside the photoreceptor support, the photoreceptor rotates, so a slip ring may be used. It is preferable to use a device that conducts electricity through the device.

実施例 以下、実施例と比較例とにより本発明を具体的に説明す
る。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained using examples and comparative examples.

実施例1 円筒上支持体上への非晶質ケイ素膜の生成が可能な容量
結合型プラズマCVD装置を用い、シラン(SIH4)
ガス、水素(H2)ガス、及びジホラン(B2H6)カ
スの混合体をグロー放電分解することにより、円筒上ア
ルミニウム支持体上に約0.5μmの膜厚を有する電荷
注入阻止層を生成した。このときの製造条件は次の通り
であった。
Example 1 Using a capacitively coupled plasma CVD device capable of forming an amorphous silicon film on a cylindrical support, silane (SIH4) was
A charge injection blocking layer having a thickness of about 0.5 μm was produced on a cylindrical aluminum support by glow discharge decomposition of a mixture of gas, hydrogen (H2) gas, and diphorane (B2H6) scum. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流1 :  100cm3/mi眠
11001)l)水素希釈ジボランガス流’J= : 
 2006m3/mi眠反応器内圧:0.5丁orr 
1 放電型カニ100W。
100% silane gas flow 1: 100cm3/mi 11001) l) Hydrogen diluted diborane gas flow 'J=:
2006m3/mi Sleep reactor internal pressure: 0.5 tons orr
1 Discharge type crab 100W.

放電時間:30m1口、 放電周波数、  13.56聞Z1 支持体温度:250°C0 (なあ、以下に記述するすべての実施例及び比較例にお
いて、各層の製造条件における放電周波数及び支持体温
度は、上記の値に固定した。)電荷注入阻止層生成のの
ち、反応器内を十分に排気し、次いでシランガス、水素
ガス、及びジボランガスの混合体を導入してグロー放電
分解することにより電荷注入阻止層上に約20μmの膜
厚を有する電荷輸送層°を生成した。このときの製造条
件は次の通りであった。
Discharge time: 30 m/hole, Discharge frequency, 13.56 min Z1 Support temperature: 250°C0 (Incidentally, in all the examples and comparative examples described below, the discharge frequency and support temperature under the manufacturing conditions of each layer are as follows: (The value was fixed at the above value.) After forming the charge injection blocking layer, the inside of the reactor was sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and diborane gas was introduced and decomposed by glow discharge to form a charge injection blocking layer. A charge transport layer with a thickness of about 20 μm was formed on top. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流fij :  2000m3/m
in、ioo%水素ガス流1jA :  1806m3
/min。
100% silane gas flow fij: 2000m3/m
in, ioo% hydrogen gas flow 1jA: 1806m3
/min.

1100pp水素希釈ジポランガス流量: 20cm3
/min、反応器内圧:  1.5 Torr 。
1100pp hydrogen diluted diporan gas flow rate: 20cm3
/min, reactor internal pressure: 1.5 Torr.

放電筒カニ3004、 放電時間: 240 m1n0 電荷輸送層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次い
でシランガス、水素ガス、及びゲルマン(G e H4
)ガスの混合体を導入してグロー放電分解することによ
り電荷輸送層上に約2μmの膜厚を有する電荷発生層を
生成した。このときの製造条件は次の通りであった。
Discharge cylinder crab 3004, discharge time: 240 m1n0 After the charge transport layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then silane gas, hydrogen gas, and germane (G e H4
) A charge generation layer having a thickness of about 2 μm was produced on the charge transport layer by introducing a gas mixture and performing glow discharge decomposition. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流74 :  120cm/min
100% silane gas flow 74: 120cm/min
.

ioo%水素ガス流m :  1500m3/mi眠1
00%ゲルマンカス流m :  30 cm3/min
、反応器内圧:  1.3 Torr、 放電筒カニ200W、 放電時間H3Om1n。
ioo% hydrogen gas flow m: 1500m3/mi 1
00% Germanic gas flow m: 30 cm3/min
, reactor internal pressure: 1.3 Torr, discharge cylinder crab 200W, discharge time H3Om1n.

電荷発生層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次い
でシランガス、水素カス、及びアンモニアガスの混合体
を導入してグロー放電分解することにより電荷発生層上
に約0.3μmの膜厚を有する第一の表面層を生成した
。このときの製造条件は次の通りであった。
After the charge generation layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen scum, and ammonia gas is introduced and decomposed by glow discharge to form a film with a thickness of approximately 0.3 μm on the charge generation layer. A first surface layer was produced having a . The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流% :  30 cm3/mi眠
100%水素ガス流m :  2000m3/mi眠i
oo%アンモニアガス流m :  30 cm3/mi
n、反応器内圧:0.5Torr 1 放電筒カニ50−1 放電時間:60m1n0 この表面層の組成分析を行ったところ、ケイ素原子に対
する窒素原子の原子数比は約0.6で必つた。
100% silane gas flow%: 30 cm3/mi 100% hydrogen gas flow: 2000 m3/mi
oo% ammonia gas flow m: 30 cm3/mi
n, Reactor internal pressure: 0.5 Torr 1 Discharge cylinder crab 50-1 Discharge time: 60 m1n0 When the composition of this surface layer was analyzed, the atomic ratio of nitrogen atoms to silicon atoms was approximately 0.6.

第一の表面層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次
いでシランガス、水素ガス、及びアンモニアガスの混合
体を導入してグロー放電分解することにより、第一の表
面層上に約0.1μmの膜厚を有する第二の表面層を生
成した。このときの製造条件は次の通りであった。
After the formation of the first surface layer, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia gas is introduced for glow discharge decomposition, so that about 0% A second surface layer was produced with a thickness of .1 μm. The manufacturing conditions at this time were as follows.

100%シランガス流ti :  17 cm3/mi
n、100%水素カス流量:  2000m3/min
、100%アンモニアガス流量:  43 cm3/m
i眠反応器内圧:  0.5 Torr 。
100% silane gas flow ti: 17 cm3/mi
n, 100% hydrogen scum flow rate: 2000m3/min
, 100% ammonia gas flow rate: 43 cm3/m
Sleep reactor internal pressure: 0.5 Torr.

放電筒カニ50讐、 放電時間:20m1n0 この表面層の組成分析を行ったところ、ケイ素原子に対
する窒素原子の原子数比は約0.8であった。
Discharge cylinder crab 50mm, discharge time: 20m1n0 When the composition of this surface layer was analyzed, the atomic ratio of nitrogen atoms to silicon atoms was about 0.8.

以上のようにして得られたアルミニウム支持体上に電荷
注入阻止層、電荷輸送層、電荷発生層、第一の表面層及
び第二の表面層を有する電子写真用感光体を半導体レー
ザープリンターで画質評価を行った。プリンターの設定
環境は30℃/85%RH,20℃150%RH1及び
10℃/15%RHの三種とした。(以下、これ等3種
の環境を総称して三環境という。)また、プリンター内
のドラム加熱装置は、ドラム表面か約45°Cとなるよ
うに作動させた。
An electrophotographic photoreceptor having a charge injection blocking layer, a charge transport layer, a charge generation layer, a first surface layer, and a second surface layer on an aluminum support obtained as described above is printed using a semiconductor laser printer to improve image quality. We conducted an evaluation. The printer settings were three types: 30° C./85% RH, 20° C. 150% RH1, and 10° C./15% RH. (Hereinafter, these three types of environments will be collectively referred to as three environments.) Furthermore, the drum heating device in the printer was operated so that the temperature of the drum surface was approximately 45°C.

この場合、初期時では三環境において鮮明な画像を示し
た。また、初期画質評価の市と、20℃150%RHの
環境下で約20.000枚の印刷試験を行い、そののち
プリンターの設置環境を変えて画質評価を行ったところ
、三環境のいずれにおいても初期時と実質的に変わらぬ
鮮明な画像か得られた。
In this case, clear images were shown in the three environments at the initial stage. In addition, we conducted a printing test of approximately 20,000 sheets in an environment of 20°C and 150% RH for the initial image quality evaluation, and then evaluated the image quality by changing the printer installation environment. I was able to obtain clear images that were virtually unchanged from the initial images.

ざらに、本評価で得られた印刷物は、初期時及び約20
.000枚複写後のいずれにおいても、かぶりのない高
い像濃度を示した。また、感光体表面の傷などに基づく
画質欠陥は認められなかった。
In general, the printed matter obtained in this evaluation was at the initial stage and at about 20
.. Even after copying 1,000 sheets, high image density with no fog was exhibited. Furthermore, no image quality defects due to scratches on the surface of the photoreceptor were observed.

またざらに、本実施例で作製した電子写真用感光体を複
写機内で評価したところ、い1−れの環境においでも解
像度及び階調再現性にすぐれ、かぶりのない高い@濃度
を示した。
Furthermore, when the electrophotographic photoreceptor produced in this example was evaluated in a copying machine, it was found to have excellent resolution and gradation reproducibility even in any environment, and exhibited high density without fogging.

実施例2 実施例1と同一の装置、同一の条件・方法によって、ア
ルミニウム支持体上に電荷注入阻止@を生成ざぜた。
Example 2 A charge injection blocker was produced on an aluminum support using the same equipment and the same conditions and method as in Example 1.

電荷注入阻止層生成ののち、反応器内を十分に排気し、
次いでシランガス、水素ガス、及びゲルマンガスの混合
体を導入してグロー放電分解することにより電荷注入阻
止層上に約2μ汎の膜厚を有する電荷発生層を生成した
。このときの製造条件は実施例1における電荷発生層生
成の条件と同じにした。
After the charge injection blocking layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated.
Next, a mixture of silane gas, hydrogen gas, and germane gas was introduced and decomposed by glow discharge to form a charge generation layer having a thickness of approximately 2 μm on the charge injection blocking layer. The manufacturing conditions at this time were the same as those for forming the charge generation layer in Example 1.

電荷発生層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次い
でシランガス、水素ガス、及びジボランガスの混合体を
導入してグロー放電分解することにより電荷発生層上に
約20μmの膜厚を有する電荷輸送層を生成した。この
ときの製造条件は実施例1における電荷輸送層生成の条
件と同じにした。
After the charge generation layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and diborane gas is introduced and glow discharge decomposition is performed to form a charge having a film thickness of about 20 μm on the charge generation layer. A transport layer was generated. The manufacturing conditions at this time were the same as those for forming the charge transport layer in Example 1.

電荷輸送層生成にひきつづき、実施例1におけるものと
同一の条件・方法により電荷輸送層上に第一の表面層及
び第二の表面層を順次生成させた。
Following the formation of the charge transport layer, a first surface layer and a second surface layer were sequentially formed on the charge transport layer under the same conditions and method as in Example 1.

以上のようにして得られたアルミニウム支持体上に電荷
注入阻止層、電荷発生層、電荷輸送層、第一の表面層及
び第二の表面層を有する電子写真用感光体を半導体レー
ザープリンターで画質評価を行った。このとき、プリン
ター内のドラム加熱装置はドラム表面が45°Cとなる
ように作動させた。
An electrophotographic photoreceptor having a charge injection blocking layer, a charge generation layer, a charge transport layer, a first surface layer, and a second surface layer on an aluminum support obtained as described above is printed using a semiconductor laser printer to improve image quality. We conducted an evaluation. At this time, the drum heating device in the printer was operated so that the temperature of the drum surface was 45°C.

この場合、初期時では三環境において鮮明な画像を形成
した。また、初期画質評価のあと、20℃150%RH
の環境下で約20,000枚の印刷試験を行い、そのの
ちプリンターの設置環境を変えて画質評価を行ったとこ
ろ、三環境のいずれにおいても初期時と実質的に変わら
ぬ鮮明な画像が得られた。
In this case, clear images were formed in the three environments at the initial stage. In addition, after initial image quality evaluation, 20℃ 150%RH
We conducted a printing test of approximately 20,000 sheets under the following environment, and then evaluated the image quality by changing the printer's installation environment. In all three environments, we were able to obtain clear images that were virtually unchanged from the initial one. It was done.

ざらに、本評価で得られた印側物は、初期時及び約20
,000枚複写俊のいずれにおいても、かぶりのない高
い像濃度を示した。また、感光体表面の傷などに基づく
画質欠陥は認められなかった。
Roughly speaking, the stamp side objects obtained in this evaluation are initial and about 20
,000 copies, it showed high image density with no fog. Furthermore, no image quality defects due to scratches on the surface of the photoreceptor were observed.

またざらに、本実施例で作製した電子写真用感光体を複
写は内で評価したところ、いずれの環境においても解像
度及び階調再現性にすぐれ、かぶりのない高い像濃度を
示した。
In addition, when the electrophotographic photoreceptor produced in this example was evaluated in a copying machine, it showed excellent resolution and gradation reproducibility and high image density without fogging in any environment.

比較例1 実施例1と同一の装置、同一の条件・方法によって、ア
ルミニウム支持体上に電荷注入阻止層、電荷輸送層、及
び電荷発生層を順次生成させた。
Comparative Example 1 A charge injection blocking layer, a charge transport layer, and a charge generation layer were sequentially formed on an aluminum support using the same apparatus and the same conditions and method as in Example 1.

但し、第一の表面層及び第二の表面層は生成させなかっ
た。
However, the first surface layer and the second surface layer were not formed.

jqられた電子写真用感光体を、半導体レーザーを光源
とするプリンターにおいて画質評価を行ったところ、初
期時は鮮明な画像を与えたが約1.000枚の複写試験
の後、画像ぼけか観察された。
When we evaluated the image quality of the photoreceptor for electrophotography using a printer that uses a semiconductor laser as a light source, we found that initially it gave a clear image, but after about 1,000 copy tests, we noticed that the image was blurry. It was done.

比較例2 実施例2と同一の装置、同一の条件・方法によって、ア
ルミニウム支持体上に電荷注入阻止層、電荷発生層、及
び電荷輸送層を順次生成させた。
Comparative Example 2 A charge injection blocking layer, a charge generation layer, and a charge transport layer were sequentially formed on an aluminum support using the same apparatus, the same conditions, and the same method as in Example 2.

但し、第一の表面層及び第二の表面層は生成させなかっ
た。
However, the first surface layer and the second surface layer were not formed.

得られた電子写真用感光体を、半導体レーザーを光源と
するプリンターにおいて画質評価を行ったところ、初期
時は鮮明な画像を与えたが約1.000枚の複写試験の
後、画像ぼけがI2察された。
When the image quality of the obtained electrophotographic photoreceptor was evaluated using a printer using a semiconductor laser as a light source, it gave a clear image at the initial stage, but after about 1,000 copy tests, the image blur became I2. It was noticed.

比較例3 実施例1と同一の装置、同一の条件・方法によって、ア
ルミニウム支持体上に電荷注入阻止層、電荷輸送層、及
び電荷発生層を順次生成させた。
Comparative Example 3 A charge injection blocking layer, a charge transport layer, and a charge generation layer were sequentially formed on an aluminum support using the same apparatus, the same conditions, and the same method as in Example 1.

電荷発生層生成ののち、反応器内を十分に排気し、次い
でシランガス、水素ガス、及びアンモニアガスの混合体
を導入してグロー放電分解することにより電荷発生図上
に約0.3μ汎の膜厚を有する表面層を生成した。この
ときの製造条件は次の通りであった。
After the charge generation layer is formed, the inside of the reactor is sufficiently evacuated, and then a mixture of silane gas, hydrogen gas, and ammonia gas is introduced, and glow discharge decomposition is performed to form a film of about 0.3μ on the charge generation diagram. A surface layer with a thickness was produced. The manufacturing conditions at this time were as follows.

ioo%シランガス流呈:  170(B3/q+in
、100%水素ガス流1a :  200cR+3/m
in、100%アンモニアガス流量:  43 cm 
 /min。
ioo% silane gas flow: 170 (B3/q+in
, 100% hydrogen gas flow 1a: 200cR+3/m
in, 100% ammonia gas flow rate: 43 cm
/min.

反応器内圧:  0.5 Torr 。Reactor internal pressure: 0.5 Torr.

放電電カニ50臀、 放電時間:60m1n。Electric discharge crab 50 buttocks, Discharge time: 60mln.

この表面層の組成分析を行ったところ、ケイ素原子に対
する窒素原子の原子数比は約0.8であった。
When the composition of this surface layer was analyzed, the atomic ratio of nitrogen atoms to silicon atoms was approximately 0.8.

以上にようにして、アルミニウム支持体上に形成された
電荷注入阻止層、電荷輸送層、電荷発生層、及び表面層
を有する電子写真用感光体を半導体レーザープリンター
で画質評価を行ったところ、初期時(数サイフルル数1
0サイクル)より三環境のそれぞれにおいて、激しい画
像ぼけが観察された。
When the image quality of an electrophotographic photoreceptor having a charge injection blocking layer, a charge transport layer, a charge generation layer, and a surface layer formed on an aluminum support as described above was evaluated using a semiconductor laser printer, the initial Time (number 1
0 cycles), severe image blurring was observed in each of the three environments.

比較例4 実施例1と同一の装置、同一の条件・方法によって、ア
ルミニウム支持体上に電荷注入阻止層、電荷輸送層、電
荷発生層、第1の表面層を順次生成させた。但し、第二
の表面層は生成させなかった。
Comparative Example 4 A charge injection blocking layer, a charge transport layer, a charge generation layer, and a first surface layer were sequentially formed on an aluminum support using the same apparatus and the same conditions and method as in Example 1. However, the second surface layer was not formed.

得られた電子写真用感光体を半導体レーザープリンター
で画質評価を行ったところ、初期時は三環境において鮮
明な画像を示した。一方、初期画質評価のあと、20℃
150%RHの環境の下に約20.000枚の複写試験
を行い、そののち環境を変えて画質評価を行ったところ
、20℃150%RHの環境下においては解像度、像濃
度、かぶり、等の項目は初期時と実質的に変わらぬりれ
たものであったが、30℃/85%RH及び10℃/1
5%RHの環境下では、画像流れを呈した。
When the image quality of the obtained electrophotographic photoreceptor was evaluated using a semiconductor laser printer, it showed clear images in the three environments at the initial stage. On the other hand, after initial image quality evaluation,
A copying test of approximately 20,000 sheets was conducted in an environment of 150% RH, and then the image quality was evaluated in different environments.As a result, resolution, image density, fog, etc. Items were wet, substantially different from the initial condition, but at 30℃/85%RH and 10℃/1
In an environment of 5% RH, image blurring was observed.

比較例5 比較例4で作製された電子写真用感光体を同様にして画
像評価を行った。しかしながら、プリンター内のドラム
加熱装置を作動させ、ドラム表面が約45℃となるよう
にした。
Comparative Example 5 Image evaluation of the electrophotographic photoreceptor produced in Comparative Example 4 was performed in the same manner. However, the drum heating device in the printer was turned on to bring the drum surface to about 45°C.

この場合、初期時は三環境において鮮明な画像を示した
。一方、初期画質評価のめと、20℃150%RHの環
境の下に約20,000枚の複写試験を行い、そののち
プリンターの設置環境を変えて画質評価を行ったところ
、30℃/85%RHの環境下においては鮮明な画像が
得られたが、20℃150%RH及び10℃/15%R
Hの環境下では、画像流れを呈した。
In this case, clear images were shown in the three environments at the initial stage. On the other hand, for initial image quality evaluation, we conducted a copying test of approximately 20,000 sheets in an environment of 20°C/150% RH, and then changed the printer installation environment and evaluated the image quality. %RH environment, clear images were obtained, but at 20°C/150%RH and 10°C/15%R
Under the H environment, image blurring occurred.

発明の効果 本発明の電子写真用感光体は上記のような構成を有する
から、高品位の初期画像を与え、かつ経時安定性及び耐
刷性にすぐれている。また、この電子写真用感光体は、
可視光領域のみならず、半導体レーザーの発(辰波長で
おる近赤外領域までにわたって高い光感度を有し、また
暗抵抗が高く帯心能力に優れ、さらに、使用環境に対す
る特性の依存性も小さいという優れた性質を有している
Effects of the Invention Since the electrophotographic photoreceptor of the present invention has the above-described structure, it provides a high-quality initial image and has excellent stability over time and printing durability. In addition, this electrophotographic photoreceptor is
It has high photosensitivity not only in the visible light region but also in the near-infrared region emitted by semiconductor lasers (radius wavelength), has high dark resistance and excellent centering ability, and also has characteristics that are not dependent on the usage environment. It has the excellent property of being small.

したがって、得られた複写画像は、解像度及び階調再現
性に優れ、かつ初期時及び長時間の反復操作後のいずれ
においても、かぶりのない高い像濃度を示す。
Therefore, the obtained copied image has excellent resolution and gradation reproducibility, and exhibits high image density without fog both at the initial stage and after a long period of repeated operations.

ざらにまた、本発明の電子写真用感光体は、感光体の少
なくとも表面が35〜50℃に加熱された状態で操作す
る電子写真プロセスにおいて、特に有利に使用すること
ができる。すなわち、感光体表面が上記の範囲に加熱さ
れた状態で用いると、どのような使用環境の下でも安定
かつ高品位な初期画像を与え、かつ繰り返し操作しても
画質の劣化を生じることがない。
Furthermore, the electrophotographic photoreceptor of the present invention can be particularly advantageously used in an electrophotographic process in which at least the surface of the photoreceptor is heated to 35 to 50°C. In other words, when used with the photoreceptor surface heated to the above range, it provides a stable and high-quality initial image under any usage environment, and does not cause deterioration in image quality even after repeated operations. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第3図は、それぞれ本発明の電子写真用感
光体の構造を示す模式図、第4図は、本発明の電子写真
用感光体を使用した電子写真に置の概略の構成を示す説
明図でおる。 1・・・支持体、2・・・電荷注入阻止層、3・・・光
導電層、31・・・電荷輸送層、32・−・電荷発生層
、4・・・第一の表面層、5・・・第二の表面層、6・
・・電子写真用感光体、7・・−帯電手段、8・・・潜
(象形成子段、9・・・現像手段、10・・・転写手段
、11・・・定石手段、12・・・クリーニング手段、
13・・・転写紙、14・・・感光体加熱手段。 第7図 篇2図 篇3図 篤4図
1 to 3 are schematic diagrams showing the structure of the electrophotographic photoreceptor of the present invention, and FIG. 4 is a schematic diagram showing the structure of an electrophotographic device using the electrophotographic photoreceptor of the present invention. This is an explanatory diagram. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Support, 2... Charge injection blocking layer, 3... Photoconductive layer, 31... Charge transport layer, 32... Charge generation layer, 4... First surface layer, 5... second surface layer, 6.
. . . Photoreceptor for electrophotography, 7 . . . -Charging means, 8 . . .・Cleaning means,
13... Transfer paper, 14... Photoreceptor heating means. Figure 7, Figure 2, Figure 3, Atsushi, Figure 4

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に光導電層、第一の表面層、および第二
の表面層を順次積層することにより構成され、かつ該光
導電層はその層領域の少なくとも一部にゲルマニウム原
子が添加された非晶質ケイ素を主体としてなり、また該
第一の表面層および第二の表面層はそれぞれ窒素原子が
添加された非晶質ケイ素を主体としてなり、かつ第二の
表面層における窒素原子濃度が第一の表面層における窒
素原子濃度よりも高いことを特徴とする電子写真用感光
体。
(1) Constructed by sequentially laminating a photoconductive layer, a first surface layer, and a second surface layer on a support, and the photoconductive layer is doped with germanium atoms in at least a part of its layer area. The first surface layer and the second surface layer each mainly contain amorphous silicon doped with nitrogen atoms, and the second surface layer contains nitrogen atoms. An electrophotographic photoreceptor characterized in that the concentration of nitrogen atoms is higher than the concentration of nitrogen atoms in the first surface layer.
(2)光導電層が電荷発生層と電荷輸送層の二層からな
り、該電荷発生層はゲルマニウム原子が添加された非晶
質ケイ素を主体としてなり、かつ該電荷輸送層は第III
族元素が添加された非晶質ケイ素を主体としてなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の電子写真用
感光体。
(2) The photoconductive layer is composed of two layers: a charge generation layer and a charge transport layer, the charge generation layer is mainly made of amorphous silicon doped with germanium atoms, and the charge transport layer is a third layer.
The photoreceptor for electrophotography according to claim 1, characterized in that the electrophotographic photoreceptor is mainly composed of amorphous silicon to which a group element is added.
(3)支持体と光導電層との間に電荷注入阻止層を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項に
記載の電子写真用感光体。
(3) The electrophotographic photoreceptor according to claim 1 or 2, further comprising a charge injection blocking layer between the support and the photoconductive layer.
(4)電荷注入阻止層が第III族元素または第V族元素
を添加された非晶質ケイ素であることを特徴とする特許
請求の範囲第3項に記載の電子写真用感光体。
(4) The electrophotographic photoreceptor according to claim 3, wherein the charge injection blocking layer is made of amorphous silicon doped with a group III element or a group V element.
(5)感光体の少なくとも表面が35〜50℃に加熱さ
れた状態で操作する電子写真プロセスにおいて使用する
ための特許請求の範囲第1項、第2項、第3項又は第4
項に記載の電子写真用感光体。
(5) Claims 1, 2, 3, or 4 for use in an electrophotographic process in which at least the surface of the photoreceptor is heated to 35 to 50°C.
The electrophotographic photoreceptor described in .
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