JPS62294436A - 低温プラズマ処理装置 - Google Patents
低温プラズマ処理装置Info
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- JPS62294436A JPS62294436A JP61138922A JP13892286A JPS62294436A JP S62294436 A JPS62294436 A JP S62294436A JP 61138922 A JP61138922 A JP 61138922A JP 13892286 A JP13892286 A JP 13892286A JP S62294436 A JPS62294436 A JP S62294436A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J15/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with non-particulate solids, e.g. sheet material; Apparatus specially adapted therefor
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
8、 発明の詳細な説明
産業上の利用分野
本発明は、布帛あるいはフィルム等のごとき、シート状
の高分子樹脂成型物(以下、シート状物という。)の低
温プラズマ処理装置に関するものである。
の高分子樹脂成型物(以下、シート状物という。)の低
温プラズマ処理装置に関するものである。
従来の技術
従来、工業的に織物、編物、不織布などの布帛を連続的
に加工する工程、たとえば染色加工における準備工程に
は、その布帛に付着している挨水性夾雑物を除去あるい
は親水化し、布帛に染料が容易に浸透しうるようにする
ための精練工程があり、染色後には柔軟、挨水、静電防
止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工程があるが
、いずれの工程も水系で処理を行なっている。このため
従来のこの種の処理工程においては、多量の熱量を必要
とすること、さらには精練工程の場合、処理された布帛
に含まれる残液あるいは夾雑物、および/′または付着
物を除去するための多数の水洗機、およびこれらの各水
洗機内に供給すべき多量の水が必要であること、さらに
水洗の排液を廃棄処理するための装置が必要であること
などから、布帛を処理するには、多量の水資源、熱エネ
ルギ、設備費等を要するのが現状である。
に加工する工程、たとえば染色加工における準備工程に
は、その布帛に付着している挨水性夾雑物を除去あるい
は親水化し、布帛に染料が容易に浸透しうるようにする
ための精練工程があり、染色後には柔軟、挨水、静電防
止、防汚、吸水などの特性を付与する仕上工程があるが
、いずれの工程も水系で処理を行なっている。このため
従来のこの種の処理工程においては、多量の熱量を必要
とすること、さらには精練工程の場合、処理された布帛
に含まれる残液あるいは夾雑物、および/′または付着
物を除去するための多数の水洗機、およびこれらの各水
洗機内に供給すべき多量の水が必要であること、さらに
水洗の排液を廃棄処理するための装置が必要であること
などから、布帛を処理するには、多量の水資源、熱エネ
ルギ、設備費等を要するのが現状である。
上記のごとき点から、最近では、布帛等のシート状物を
低温プラズマ雰囲気で処理して、布帛の糊抜、精練効果
あるいは仕上加工効果を得ることが提案されている。シ
ート状物を処理する従来の内部電極型の低温プラズマ処
理装置、Qtは、第2図にその−例を示すごとく、真空
を保持し得るようにした処理室(1)内に、高電圧印加
電極板(2)とそれに平行に一定の間隔をおいて対向す
る接地電極板(3)とを配設し、前記高電圧印加電極板
(2)のほぼ中央に給電点(4)を設け、接地電極板(
3)のほぼ中央に接地点(5)を設け、両電極(2)、
(3)間に高周波電源装置(6)により高周波高電圧
を印加する。真空シールさした入口(8a)から被処理
シート状物(7)を、供給ローラ(9a)により送込み
、前記両電極(2)、 (3)間で処理し、出口(8b
)から巻取ローラ(9b)により巻取る。
低温プラズマ雰囲気で処理して、布帛の糊抜、精練効果
あるいは仕上加工効果を得ることが提案されている。シ
ート状物を処理する従来の内部電極型の低温プラズマ処
理装置、Qtは、第2図にその−例を示すごとく、真空
を保持し得るようにした処理室(1)内に、高電圧印加
電極板(2)とそれに平行に一定の間隔をおいて対向す
る接地電極板(3)とを配設し、前記高電圧印加電極板
(2)のほぼ中央に給電点(4)を設け、接地電極板(
3)のほぼ中央に接地点(5)を設け、両電極(2)、
(3)間に高周波電源装置(6)により高周波高電圧
を印加する。真空シールさした入口(8a)から被処理
シート状物(7)を、供給ローラ(9a)により送込み
、前記両電極(2)、 (3)間で処理し、出口(8b
)から巻取ローラ(9b)により巻取る。
なお処理室(1)内は、排気口(ioa)から排気した
後、空気、酸素、窒素9等の所定の気体を、給気口(1
0b )から所定圧力となるよう供給する。
後、空気、酸素、窒素9等の所定の気体を、給気口(1
0b )から所定圧力となるよう供給する。
発明が解決しようとする問題点
上記のシート秋物の低温プラズマ処理において、処理室
(1)内でシート秋物(7)が処理される際の低温プラ
ズマ雰囲気、すなオつち低温プラズマ密度が不−1−ノ
ーであると、シート状物に対する処理が不均一となるこ
とは当然のことである。17かしながら、従来の(1(
温プラズマ処理装置においては、上記のごとく高電圧印
加電極板(2)と接地m極板(3)とが平行に隔設され
Cいるか、平行に隔設された電極の場合、どのような(
rZ置に給電点(4)を移動させCも電極間に均一なプ
ラズマを発生させることは困難であった。すなわち、高
電圧印加電極板(2)の給電点(4)付近は、電位が高
いため、生成するプラズマは強くなり、給電点(4)を
離れるにしたがって電位が下がり、プラズマも弱くなる
。」二記のごとく給等化することが考えられるが、その
対策として給電点の数を増しても効果はない。なぜなら
ば、給電点を増すためには、給電部の長さが必然的に長
電は単なるエネルギ損にとどまらず、局所過熱による劣
化や錆の発生などを促し、設備の寿命を縮める結果とな
る。
(1)内でシート秋物(7)が処理される際の低温プラ
ズマ雰囲気、すなオつち低温プラズマ密度が不−1−ノ
ーであると、シート状物に対する処理が不均一となるこ
とは当然のことである。17かしながら、従来の(1(
温プラズマ処理装置においては、上記のごとく高電圧印
加電極板(2)と接地m極板(3)とが平行に隔設され
Cいるか、平行に隔設された電極の場合、どのような(
rZ置に給電点(4)を移動させCも電極間に均一なプ
ラズマを発生させることは困難であった。すなわち、高
電圧印加電極板(2)の給電点(4)付近は、電位が高
いため、生成するプラズマは強くなり、給電点(4)を
離れるにしたがって電位が下がり、プラズマも弱くなる
。」二記のごとく給等化することが考えられるが、その
対策として給電点の数を増しても効果はない。なぜなら
ば、給電点を増すためには、給電部の長さが必然的に長
電は単なるエネルギ損にとどまらず、局所過熱による劣
化や錆の発生などを促し、設備の寿命を縮める結果とな
る。
本発明は、シート状物を処理する低温プラズマ処理装置
における、上記のごとき問題点を解決し、均一な処理効
果を得ることができる低温プラズマ処理装置を提供しよ
うとするものである。
における、上記のごとき問題点を解決し、均一な処理効
果を得ることができる低温プラズマ処理装置を提供しよ
うとするものである。
問題点を解決するための手段
本発明の低温プラズマ処理装置は、シート状物を処理す
る内部電極型の低温プラズマ処理装置において、高電圧
印加電極のシート状物の幅方向に対応する一側端部に給
電点を設け、対向する接地電極の他方の側端部に接地点
を設け、かつ前記両電極間の間隔を給電点から接地点方
向へ漸減させたことを特徴とするものである。
る内部電極型の低温プラズマ処理装置において、高電圧
印加電極のシート状物の幅方向に対応する一側端部に給
電点を設け、対向する接地電極の他方の側端部に接地点
を設け、かつ前記両電極間の間隔を給電点から接地点方
向へ漸減させたことを特徴とするものである。
作用
本発明の低温プラズマ処理装置においては、高電圧印加
電極の給電点と、接地電極の接地点間に物理的に距離を
もたせたことにより、両電極間に積極的に高周波電位に
傾きが与えられ、また両電極間の間隔を、給電点から接
地点方向へ向って漸減させたことにより、両電極間の静
電容量は対向する?電極間の距離に反比例して増加する
ため、給?1文点から接地点方向に向って漸増する。し
たがって:ilj ?tt極の各部分の電位と、その部
分の静電容量とがバランスして、すなわち静電容量の小
さい部分は電位が高く、逆に静電容量の大きい部分は電
位が低い状態でそれぞれ放電して、電極の給電点からの
距離にかかわらず、均一なプラズマが発生し、シート状
物の均一な低温プラズマ処理が可能となる。
電極の給電点と、接地電極の接地点間に物理的に距離を
もたせたことにより、両電極間に積極的に高周波電位に
傾きが与えられ、また両電極間の間隔を、給電点から接
地点方向へ向って漸減させたことにより、両電極間の静
電容量は対向する?電極間の距離に反比例して増加する
ため、給?1文点から接地点方向に向って漸増する。し
たがって:ilj ?tt極の各部分の電位と、その部
分の静電容量とがバランスして、すなわち静電容量の小
さい部分は電位が高く、逆に静電容量の大きい部分は電
位が低い状態でそれぞれ放電して、電極の給電点からの
距離にかかわらず、均一なプラズマが発生し、シート状
物の均一な低温プラズマ処理が可能となる。
実施例
本発明の一実施例を第1図に基づいて説明する。
低温プラズマ処理装置01)として、真空を保持し得る
ようにした処理室@内に、水平板状の高電圧印加電極α
枠とそれに対向する板状の接地電極041とを配設し、
被処理シート状物(1のを真空シールされた入口(16
a)から供給ローラ(1,7a )により送込み、両電
極0→、04)間を通過させて、出口(16b)から巻
取ローラ(17b)により引出して巻取るよう配備する
。前記高電圧印加電極03の、被処理シート状物θQの
幅方向に対応する、−側端部(18a)に給電点0杓を
設けて、封部する接地電極自刃の他方の側端部(14b
)に接地点(11を設け、給電点Q81に高周波電圧印
加用の高周波電圧印加用を接続する。さらに、水平に設
置した高電圧印加電極α]に対し接地電極(+4)を、
給電点(ハ)を設けた高電圧印加電極−の側端部(18
a)と対向する該接地電極α荀の側端部(14a)から
、接地点Qlを設けた他方の側端部(14b)側を調節
自在に上向きに傾斜させて、両電極03.(14)間の
間隔を、給電点(へ)を設けた側端部(18a) 、
(14a)間から接地点a9を設けた側端部(18b)
、 (14b)間に向って、各部分の電位と静電容量
とがバランスして均一なプラズマが発生するよう、漸減
させて設置している。なお両電極(13Q4)の配置に
おいて、高電圧印加電極(至)を傾斜させ、接地電極(
14)を水平としてもよく、また両電極03.Q4)を
傾斜させるようにしてもよい。処理室0功内には、排気
口(21a)から排気した後、空気、酸素、窒素等の所
定の気体を給気口(21,b )から所定圧力となるよ
う供給する。
ようにした処理室@内に、水平板状の高電圧印加電極α
枠とそれに対向する板状の接地電極041とを配設し、
被処理シート状物(1のを真空シールされた入口(16
a)から供給ローラ(1,7a )により送込み、両電
極0→、04)間を通過させて、出口(16b)から巻
取ローラ(17b)により引出して巻取るよう配備する
。前記高電圧印加電極03の、被処理シート状物θQの
幅方向に対応する、−側端部(18a)に給電点0杓を
設けて、封部する接地電極自刃の他方の側端部(14b
)に接地点(11を設け、給電点Q81に高周波電圧印
加用の高周波電圧印加用を接続する。さらに、水平に設
置した高電圧印加電極α]に対し接地電極(+4)を、
給電点(ハ)を設けた高電圧印加電極−の側端部(18
a)と対向する該接地電極α荀の側端部(14a)から
、接地点Qlを設けた他方の側端部(14b)側を調節
自在に上向きに傾斜させて、両電極03.(14)間の
間隔を、給電点(へ)を設けた側端部(18a) 、
(14a)間から接地点a9を設けた側端部(18b)
、 (14b)間に向って、各部分の電位と静電容量
とがバランスして均一なプラズマが発生するよう、漸減
させて設置している。なお両電極(13Q4)の配置に
おいて、高電圧印加電極(至)を傾斜させ、接地電極(
14)を水平としてもよく、また両電極03.Q4)を
傾斜させるようにしてもよい。処理室0功内には、排気
口(21a)から排気した後、空気、酸素、窒素等の所
定の気体を給気口(21,b )から所定圧力となるよ
う供給する。
上記の低温プラズマ処理装置Q、])を使用して、ポリ
エステル加工糸織物を下記の条件で低温プラズマ処理し
た。
エステル加工糸織物を下記の条件で低温プラズマ処理し
た。
(条件)被処理布帛・・ポリエステル加工糸織物(経1
50D、 110シ吋;緯150DX2.55外鋤)処
理ガス ・・・ 酸素 処理ガス流量・・・ 41/min 真空度 −・0.5TOrr 処理速度 ・・・ ioocm/min高周波電源装
置周波数・・・18.56用出力・・・5Kw 電極寸法 ・・・ 長さ900m、幅1800m電極
間隔 ・・・ 100〜8ONMまた比較例として、
第2図に示す装置を使用し、電極間隔を90mとして、
上記実施例と同一布帛を同一プラズマ発生条件で処理し
た。
50D、 110シ吋;緯150DX2.55外鋤)処
理ガス ・・・ 酸素 処理ガス流量・・・ 41/min 真空度 −・0.5TOrr 処理速度 ・・・ ioocm/min高周波電源装
置周波数・・・18.56用出力・・・5Kw 電極寸法 ・・・ 長さ900m、幅1800m電極
間隔 ・・・ 100〜8ONMまた比較例として、
第2図に示す装置を使用し、電極間隔を90mとして、
上記実施例と同一布帛を同一プラズマ発生条件で処理し
た。
上記実施例および比較例で得た処理織物の吸水性を、J
IS−1096(バイシック法)により、織物の幅方向
に測定した。その結果は第3図に示すとおりであり、第
1図の実施例の装置を使用した場合、織物の幅方向に均
一で、かつすぐれた吸水性能が付与された。これに対し
、電極間が平行な第2図の装置を使用した場合、吸水性
能は、織物の幅方向に不均一で、両側端(耳)側はど低
く、好ましくなかった。これらの結果からも明らかなご
とく、上記実施例の低温プラズマ処理装置(ロ)は、プ
ラズマ発生状態が極めて高効率かつ均一であり、均一な
処理を行なうことができる。
IS−1096(バイシック法)により、織物の幅方向
に測定した。その結果は第3図に示すとおりであり、第
1図の実施例の装置を使用した場合、織物の幅方向に均
一で、かつすぐれた吸水性能が付与された。これに対し
、電極間が平行な第2図の装置を使用した場合、吸水性
能は、織物の幅方向に不均一で、両側端(耳)側はど低
く、好ましくなかった。これらの結果からも明らかなご
とく、上記実施例の低温プラズマ処理装置(ロ)は、プ
ラズマ発生状態が極めて高効率かつ均一であり、均一な
処理を行なうことができる。
発明の効果
本発明の低温プラズマ処理装置は、プラズマ発生状態が
極めて均一かつ効率的であり、シート状物に対して極め
て均一な処理効果を与えることができる。
極めて均一かつ効率的であり、シート状物に対して極め
て均一な処理効果を与えることができる。
第1図は本発明の一実施例を示し、(ト)は概略側面図
、(B)は概略正面図、(C)は概略平面図、第2図は
従来装置の一例を示し、(5)は概略側面図、Q3)は
概略正面図、(C)は概略平面図、第8図は処理織物の
幅方向における吸水性能値を示す線図である。 0υ・・・低温プラズマ処理装置、@・・・処理室、o
3・・・高電圧印加電極、C14)・・・接地電極、C
51・・・被処理シート状物、08)・・・給電点、o
l・・・接地点、に)・・・高周波電源装置。
、(B)は概略正面図、(C)は概略平面図、第2図は
従来装置の一例を示し、(5)は概略側面図、Q3)は
概略正面図、(C)は概略平面図、第8図は処理織物の
幅方向における吸水性能値を示す線図である。 0υ・・・低温プラズマ処理装置、@・・・処理室、o
3・・・高電圧印加電極、C14)・・・接地電極、C
51・・・被処理シート状物、08)・・・給電点、o
l・・・接地点、に)・・・高周波電源装置。
Claims (1)
- 1、シート状物を処理する内部電極型の低温プラズマ処
理装置において、高電圧印加電極のシート状物の幅方向
に対応する一側端部に給電点を設け、対向する接地電極
の他方の側端部に接地点を設け、かつ前記両電極間の間
隔を給電点から接地点方向へ漸減させたことを特徴とす
る低温プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61138922A JPH0698300B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 低温プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61138922A JPH0698300B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 低温プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62294436A true JPS62294436A (ja) | 1987-12-21 |
JPH0698300B2 JPH0698300B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=15233268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61138922A Expired - Lifetime JPH0698300B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 低温プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0698300B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102679336B1 (ko) * | 2020-06-17 | 2024-06-28 | 주식회사 엠나노 | 기능성 섬유 제조방법 |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP61138922A patent/JPH0698300B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0698300B2 (ja) | 1994-12-07 |
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