JPS62294202A - インテグレ−タ−およびそれを用いた露光装置 - Google Patents

インテグレ−タ−およびそれを用いた露光装置

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JPS62294202A
JPS62294202A JP61138555A JP13855586A JPS62294202A JP S62294202 A JPS62294202 A JP S62294202A JP 61138555 A JP61138555 A JP 61138555A JP 13855586 A JP13855586 A JP 13855586A JP S62294202 A JPS62294202 A JP S62294202A
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Japan
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integrator
light
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light source
exposure
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Japanese (ja)
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Kazufumi Ogawa
一文 小川
Masaru Sasako
勝 笹子
Masataka Endo
政孝 遠藤
Takeshi Ishihara
健 石原
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232226A (ja) * 1996-02-22 1997-09-05 Sony Corp スキャン式露光装置
JP2014503856A (ja) * 2011-01-10 2014-02-13 リモ パテントフェルヴァルトゥング ゲーエムベーハー ウント コー．カーゲー 強度分布が回転対称であるレーザビームにレーザビームの形状を変換するための装置
JP2015512786A (ja) * 2012-02-10 2015-04-30 リモ パテントフェルヴァルトゥング ゲーエムベーハー ウント コー．カーゲーＬＩＭＯ Ｐａｔｅｎｔｖｅｒｗａｌｔｕｎｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．ＫＧ 加工対象物の表面を加工するための、または加工対象物の外側面または内側面上のコーティングを後処理するための装置

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