JPS62289587A - ジシリルメタンの合成方法 - Google Patents

ジシリルメタンの合成方法

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JPS62289587A
JPS62289587A JP62134785A JP13478587A JPS62289587A JP S62289587 A JPS62289587 A JP S62289587A JP 62134785 A JP62134785 A JP 62134785A JP 13478587 A JP13478587 A JP 13478587A JP S62289587 A JPS62289587 A JP S62289587A
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JP
Japan
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reaction
chlorosilane
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disilylmethane
reactor
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JP62134785A
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ジェーン ポウル ピロット
クラウデ ビラン
エリク バクエ
ポウレッテ ラポウイヤーデ
ジャクエス ドノゲス
ピエール オルリイ
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Societe Europeenne de Propulsion SEP SA
Original Assignee
Societe Europeenne de Propulsion SEP SA
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/121Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
    • C07F7/122Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
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    • C07F7/0801General processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0896Compounds with a Si-H linkage

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ジシリルメタンの合成方法に関する。
ジシリルメタンは次のようなfヒ学式を有する化合物で
ある。
に                       八
このような化合物、特に−1,3位置におけるジクロロ
誘導体は、非常に興味ある中間物を構成する可能性を持
つ、残念ながら、これらジシリルメタンの簡単で一最的
な合成方法は知られていない。
本発明の目的は、ジシリルメタンを合成するための簡単
で安価な方法を提供することである。
この方法の特徴は、クロロシランを用いて塩化メチレン
(CHユCLユ)と反応させることであるやクロロシラ
ンの化学式は次のとおりである98〜 この反応はマグネシア反応である。つまりマグネシウム
とドナータイプの無水溶媒とを介在させた反応である。
また、この反応は、他の金属を介在させることによって
促進されることが発見された。これは、前記他の金属が
、塩化メチレンまたはマグネシウムを活性化させる可能
性と提供するためと考えられるや前記他の金属としては
、亜鉛、カドミウム、銅、アルミニウム、または水銀で
あるが、亜鉛が好ましい、使用される金属の含有量は、
使用されるマグネシウムの5〜70重旦%である。金属
の含有量が5重量%より少ないと、反応に対する効果が
ほとんどなく、逆に70重量%より多いと、無用である
ばかりでなく二次反応を引き起こす可能性があり有害で
ある。
塩化メチレンとクロロシランとの反応は、次のように書
ける。
クロロシランの3個の基は、同一または異なる基であり
、H基、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、ア
リルアルキル基、アルキルアリル基、アルケニル基、ま
たはこれらの置換基、およびC1から選択できる。
試薬として使用可能なりロロシランは、純粋化合物また
は混合物であり、例えばメチルクロロシランの直接工業
合成の残W物である。
使用可能なドナータイプの溶媒は、マグネシア合成物と
して知られるものである0例えば、DME(ジメトキシ
エタン)またはTHF (テトラヒドロフラン)、また
はN−2−メチルピロリドンである。これらの中で好ま
しいのはTHFである。
前記反応は、約10〜70℃の温度で起きる。
この温度は、特に溶媒の特性と使用する試薬に依存する
。この反応は不活性雰囲気の中で発生させることが好ま
しいや 本発明に基づく反応は、比較的ゆっくりであり、約8〜
72時間を必要とする。
前記反応が終了すると、液体(溶媒)が得られる9この
液体中には、最終生成物が溶射している。
この生成物は、Mgおよび金属からなるある種の可溶性
錯体と、マグネシウムの誘導体および金属の誘導体によ
って構成される固体とを含有する9これら液体と固体と
は、流過まなは液体の蒸留によって分離される9これか
ら得られる液体において、最終生成物は、−iに分留に
よって得られる9下記の例は、本発明を説明するもので
あるが、本発明を限定するものではない。
(第1例) [(CH3)2H3l]2CHユの合成。
乾燥させた反応器を使用する。この反応器は、滴下漏斗
と、磁気撹拌器と、電球冷却器と、不活性ガス(アルゴ
ン)用の入口とを備える。
0.4 mol (37,8g)の(CH3)x H3
iC1と、0.1molのC)1.C1□(8,5g)
と、0.2グラム原子(4,86g)のMgと、3gの
亜鉛とを、前記反応器に導入する9200 mlのテト
ラヒドロフラン(THF)を反応器内に滴下する3 温度は40℃に保持する。
24時間にわたって加熱した後、反応″!−停止させ、
冷却する。揮発性生成物を真空中においてベーンポンプ
によって蒸発させ、液体窒素で冷却したトラップ内に回
収する。
加熱後、ワインディングバンド分離管内において、トラ
ップ内に回収した生成物を蒸留し、次のものを回収する
初期回収物(最高温度70℃)とじて溶媒。
中間回収物(70〜105℃)としてわずかの最終生成
物とわずかの溶媒。
105℃において純粋生成物、これは約9.4gであり
、収率は71%である。
なお、収率は、本例および下記の例において。
使用される塩化メチレンに対して計算した。
(第2例) 第1例において説明したものと同様の装置を使用する。
170gのCH2Cl2と、1150 gのCH35I
HC裟、97.3gのマグネシウムターニングと、40
 gの亜鉛粉末とを、前記反応器に導入する。
数滴のテトラヒドロフラン(THF’)を反応器内に滴
下する。これにより反応が引き起こされ、温度が上昇す
る。この温度は約20℃まで戻される。
テトラヒドロフランは10時間にわたって、その総量が
1500 ilとなるまで滴下する。
反応は合計時間が約48時間になるまで続行させる。
分離は次のように行う。
すなわち、一方において、ドライアイス/アセトンの混
合物で冷却したトラップで保護したフィルタポンプによ
り、揮発性生成物を蒸発させ、過剰なりロロシランおよ
びTHFを回収する。
また、他方において、前記蒸発の後において反応器内に
残るペースト状固体を、700 mlのヘキサンで3回
洗浄するとともに、不活性雰囲気内において得た媒体を
流過する。
これら二つの処理において得た有機相を合一し、蒸留す
る。この蒸留において、初期回収物(110”Cまで)
は基本的に溶媒で構成されており、中心回収物と残留物
とは要求のジシリルメタンを含有している。この中心回
収惣は、約104gの(CH3S iHC1)2CH2
(収率30z)からなり、残留物はこれと同一のジシリ
ルメタンを一部含有しているが、これは測定できても決
定できなかった。
(第3例) (PhMe、Si )、 CH,の合成。
第1例で説明したものと同様の装置を使用する。
8.5gのCH,CI、と、40 gのPhKte2S
iC1と、4.9gのMgターニングと、13 gのZ
n粉末とを、前記反応器に導入する。数滴のテトラヒド
ロフラン(THF)を反応器内に滴下する。これにより
反応が引き起こされ、温度が上昇する。テトラヒドロフ
ランは3時間にわたって連続的に滴下しくIQQ mL
ン、媒質の温度は40℃に保持する。この反応は合計時
間が約90時間になるまで続行させる。次に第2例と同
様の処理を行い、蒸留(b、 9. o、5 =115
°C,10,0g)の後、35.2Fl:の収率で要求
のジシリルメタンが得られる。
(第4例) (CH2=CH3iMe2)2CHユの合成。
第1例で説明したものと同様の装置を使用する。
8.5gのCHC1と、30 gのCHz :CH3z
 Me 2C1と、4.9gのMgターニングと、5.
2gのZn粉末とを、前記反応器に導入する。数滴のテ
トラヒドロフラン(THE)を反応器内に滴下する。こ
れにより反応が引き起こされ、温度が上昇する。  (
60/40 mL)の溶媒THF/ジエチルエーテルは
、3時間にわたって連続的に滴下し、媒質の温度は25
℃に保持する9次に40℃に加熱する(合計48時間)
。次に第1例と同様の処理を行い、蒸留(b、p、3゜
・75’C,5,2g)の後、28%の収率で要求のジ
シリルメタンが得られる。
(第5例) (EtSiH,)2CH2の合成。
第1例で説明したものと同様の装置を使用する。
8.5gのCH2Cl2と、19 gのEtSiH2C
1と、4.9gのMgと、5.2gのZn粉末とを、前
記反応器に導入する。
数滴のテトラヒドロフラン(THF’)を反応器内に滴
下する。これにより反応が引き起こされ、温度が上昇す
る。 THFを連続的に滴下する(総量は4時間におい
て180 mL) 、媒質の温度は30℃に制御する。
この媒質は室温(20℃)において48時間放置する。
次に第1例と同様の処理を行い、蒸留(b。
p、ワ、、=128°c、 5.1 g) (7)後、
38.7F’)収率で要求のジシリルメタンが得られる
(第6例) (PhH8iC1)2CH,の合成。
第1例で説明したものと同様の装置を使用する。
4.3gのCH2Cl、と、35 gのPhS i H
C1□と、2.5gのMgターニングと、2.6gのZ
n粉末とを、前記反応器に導入する。数滴のテトラヒド
ロフラン(THF)を反応器内に滴下する。これにより
反応が引き起こされ、温度が上昇する。THF (50
11117を2時間(こわたって連続的に滴下する。反
応媒質の温度は30℃に制街する。この媒質は、室温に
おいて48時間放置する。次に第2例と同様の処理を行
い、蒸留(b、 p、 3. =81°C,10,5g
) (7)後、71J:ノ収率で要求のジシリルメタン
が得られる。
(第7例) [(CH3)3 S 112 CH2の合成。
第1例で説明したものと同様の装置を使用する。
8.5gのCH2Cl□と、25 gの1i(easi
C1と、4.9gのMgターニングと、5.23のZn
粉末とを、前記反応器に導入する。数滴のテトラヒドロ
フラン(THF) 9反応器内に滴下する。これにより
反応が引き起こされ、温度が上昇する。この溶媒は3時
間にわたって連続的に滴下する。媒質の温度は40℃に
保持する(滴下するTHFの総量は100 mL) 、
この反応は、48時間にわたって放置する9次に第1例
と同様の処理を行い、蒸留(7,2g+ b、p、ワ。
。2125°C)の後、45zの収率で要求のビス(ト
リメチルシリル)メタンが得られる。
(第8例) はぼ1Je23 C13,、Si2なる化学式と有する
メチルクロロシランの直接工業合成の残留物であるクロ
ロシランの混合から、前記した例と同様のテストを繰り
返した。試薬の量は次のとおりである。
クロロジシラン(44,’3 g) 、 CH,Cl2
(31,25g)、Mg (17,9g) 、Zn (
5g) 、およびTHF (溶媒、250 iL) 。
この反応混合物と60時間にわたって50〜60℃に保
持した後、黄色油(27,13g)が得られた。
これを分析したところ、2次元または3次元のジシリル
メチレンオリゴマー鎖形成によって基本的に構成されて
いた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、亜鉛、カドミウム、銅、アルミニウム、および水銀
    から選択される金属と、マグネシウムとが存在する電子
    ドナー溶媒中において、塩化メチレンと少なくとも一つ
    のクロロシランとの間にマグネシア反応を起こさせる段
    階を備える、マグネシア反応によってジシリルメタンを
    合成する方法。 2、前記クロロシランの化学式が、 ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、前記化学式における各Rは、同一または異なる
    基を表わし、H、アルキル、シクロアルキル、アルケニ
    ル、アリル、アリルアルキル、アルキルアリル、の基ま
    たは互換基、およびClから選択される、特許請求の範
    囲第1項に記載の方法。 3、前記クロロシランが、大気圧における130〜15
    0℃での分留によるクロロシランの直接工業合成の残留
    物である、特許請求の範囲第1項に記載の方法。 4、前記電子ドナー溶媒が、ジメトキシエタン、テトラ
    ヒドロフラン、およびN−2−メチルピロリドンから選
    択される、特許請求の範囲第1項から第3項までのいず
    れかに記載の方法。 5、マグネシウムと共に使用される前記金属が亜鉛であ
    る、特許請求の範囲第1項から第4項までのいずれかに
    記載の方法。 6、前記反応が10〜70℃において8〜72時間にわ
    たって行われる、特許請求の範囲第1項から第5項まで
    のいずれかに記載の方法。
JP62134785A 1986-05-30 1987-05-29 ジシリルメタンの合成方法 Pending JPS62289587A (ja)

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FR8607814 1986-05-30
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FR2599369B1 (fr) 1989-03-31

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