JPS62288560A - バイオセンサ− - Google Patents
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- JPS62288560A JPS62288560A JP61131107A JP13110786A JPS62288560A JP S62288560 A JPS62288560 A JP S62288560A JP 61131107 A JP61131107 A JP 61131107A JP 13110786 A JP13110786 A JP 13110786A JP S62288560 A JPS62288560 A JP S62288560A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
& 発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は、電界効果トランジスタを利用したバイオセン
サーに関し、さらに詳しくは、該トランジスタのゲート
絶縁膜表面に特定の高分子薄膜を形成してなるバイオセ
ンサーKpAする。
サーに関し、さらに詳しくは、該トランジスタのゲート
絶縁膜表面に特定の高分子薄膜を形成してなるバイオセ
ンサーKpAする。
(従来の技術)
電界効果トランジスタのゲート絶縁膜表面に高分子薄膜
を被着させ、この高分子薄膜に抗原、抗体等の感応性物
質を固定化させたものが、バイオセンサーとして提案さ
れており、生体関連物質の検出、濃度測定等が正確かつ
短時間で行なうことができるものとして期待されている
。このバイオセンサーにおいては、上記感応性物質を上
記ゲート絶縁膜表面に直接固定化することは困難であり
。
を被着させ、この高分子薄膜に抗原、抗体等の感応性物
質を固定化させたものが、バイオセンサーとして提案さ
れており、生体関連物質の検出、濃度測定等が正確かつ
短時間で行なうことができるものとして期待されている
。このバイオセンサーにおいては、上記感応性物質を上
記ゲート絶縁膜表面に直接固定化することは困難であり
。
従って、上記の高分子薄膜を介して感応性物質の固定化
が行なわれる。そこで高分子薄膜の選択が。
が行なわれる。そこで高分子薄膜の選択が。
バイオセンサーの性能に大きな影響を及1デす。
該高分子薄膜としては、メタクロレインをプラズマ重合
させたもの(を子通信学会技術研究報告84巻257号
23〜28頁、1985年)、ポリバラキシリレンを真
空蒸着したもの(特開昭59−203951号公報)、
〔ス2〕バランクaファンを気相熱分解して形成された
ポリバラキシリレンフィルム(tP!f開昭54−16
1992号公報)などが知られている。
させたもの(を子通信学会技術研究報告84巻257号
23〜28頁、1985年)、ポリバラキシリレンを真
空蒸着したもの(特開昭59−203951号公報)、
〔ス2〕バランクaファンを気相熱分解して形成された
ポリバラキシリレンフィルム(tP!f開昭54−16
1992号公報)などが知られている。
(発明が解決しようとする問題点)
前記のメタクロレインのプラズマ重合膜は、プラズマ重
合中に、メタクロレインに帰因する酸素原子がプラズマ
ガス中に発生し、これによって重合反応が抑制され、高
密度に架橋した高分子薄膜が得られず、このために水溶
液中に浸漬して使用する場合、該薄膜が剥離しヤすい。
合中に、メタクロレインに帰因する酸素原子がプラズマ
ガス中に発生し、これによって重合反応が抑制され、高
密度に架橋した高分子薄膜が得られず、このために水溶
液中に浸漬して使用する場合、該薄膜が剥離しヤすい。
また、形成されたプラズマ重合膜ンこ上記酸素原子に由
来する極性基が膜表面だけでなく膜中にも導入されるた
め。
来する極性基が膜表面だけでなく膜中にも導入されるた
め。
バイオセンサーの1史用にあたって、該プラズマ重す−
の感贋が低下する。
の感贋が低下する。
ポリバラキシリレンを真空蒸着し次薄膜は、この薄膜の
形成時VCamに曝さなければならないために熱劣化に
よる低分子量化が起こり、また、ゲート絶縁@表面への
付着力が小さく、さらに、真空蒸着法では平滑な薄膜が
得られないために、実用上多くの問題点を有している。
形成時VCamに曝さなければならないために熱劣化に
よる低分子量化が起こり、また、ゲート絶縁@表面への
付着力が小さく、さらに、真空蒸着法では平滑な薄膜が
得られないために、実用上多くの問題点を有している。
〔ス2〕バラシクロフγノを気相熱分解して形成された
ポリパラキシリレンフィルムは、主に鎖状の分子からな
り、架槁督度が極めて小さく、このため被測定溶液に対
する安定性が小さい。
ポリパラキシリレンフィルムは、主に鎖状の分子からな
り、架槁督度が極めて小さく、このため被測定溶液に対
する安定性が小さい。
(問題点を鱗決するための手段)
本発明は、電界効果トランジスタのゲート絶縁膜表面に
、ベンゼン、トルエン及びキシレンからなる群から選ば
れる少なくとも一種の化合物をプラズマ重合させて形成
した高分子薄膜に、生体感応性物5!1ヲ固定化してな
るバイオセンサーに関する。
、ベンゼン、トルエン及びキシレンからなる群から選ば
れる少なくとも一種の化合物をプラズマ重合させて形成
した高分子薄膜に、生体感応性物5!1ヲ固定化してな
るバイオセンサーに関する。
本発明において電界効果トランジスタとしては従来知ら
れているものが使用でき1例えば、%開昭51−139
289号公報、特開昭54−66194号公報に示され
るようなものがある。該電界効果トランジスタのゲート
部には、5i02等の絶縁膜を有するもの、該絶縁膜上
にさらに5izN4膜を有するものがある。電界効果ト
ランジスタとしては。
れているものが使用でき1例えば、%開昭51−139
289号公報、特開昭54−66194号公報に示され
るようなものがある。該電界効果トランジスタのゲート
部には、5i02等の絶縁膜を有するもの、該絶縁膜上
にさらに5izN4膜を有するものがある。電界効果ト
ランジスタとしては。
例えば、従来、イオン感応型電界効果トランジスタ(I
SFET)として知られているものが使用できる。
SFET)として知られているものが使用できる。
本発明においては、電界効果トランジスタのゲート絶縁
膜表面に、ベンゼン、トルエン又はキシレンのプラズマ
重合膜が形成される。ここで、キシレンとしては、オル
ト・キシレン、メタ・キシレン又はパラ・キシレンが使
用される。
膜表面に、ベンゼン、トルエン又はキシレンのプラズマ
重合膜が形成される。ここで、キシレンとしては、オル
ト・キシレン、メタ・キシレン又はパラ・キシレンが使
用される。
プラズマ重合法は1次のようにして行なわれる。
用いられる装置としては、容量結合型、誘導結合型、外
部電極型及び内部電極性のうちいずれを用いてもよく、
電界効果トランジスタを固定する基板ホルダーが十分に
接地(アース)されており。
部電極型及び内部電極性のうちいずれを用いてもよく、
電界効果トランジスタを固定する基板ホルダーが十分に
接地(アース)されており。
かつ、ヒーター等によって加熱可能なものが好ましい。
電界効果トランジスタは、ゲート周辺部、特に電極部が
樹脂、ガラス等で被覆されているものが好ましい。
樹脂、ガラス等で被覆されているものが好ましい。
プラズマ重合は、従来知られた方法から適宜選択して行
なうことができるが2例えば、ベンゼン。
なうことができるが2例えば、ベンゼン。
トルエン又はキシレンを10〜15cc/分、装置内圧
力が0.1〜0.35トールになるように導入し。
力が0.1〜0.35トールになるように導入し。
族1!電力が5〜10Wであるような条件で行なわれる
。この場合1重合時間は1〜5分間で十分でアル。ベン
ゼン、トルエン又ハキシレンハ、ニードルパルプ等を通
して装置内に導入される。
。この場合1重合時間は1〜5分間で十分でアル。ベン
ゼン、トルエン又ハキシレンハ、ニードルパルプ等を通
して装置内に導入される。
高分子薄膜の4濾は、10μm以下が好ましく。
特に100A〜1μmが好ましいが、ピンホールを生じ
ない程度で薄くできる。また、この厚さが大きすぎると
感度が低下しやすい。
ない程度で薄くできる。また、この厚さが大きすぎると
感度が低下しやすい。
電界効果トランジスタは、上記プラズマ重合前に9次の
ように、前処理しておくのが好ましい。
ように、前処理しておくのが好ましい。
すなわち、電界効果トランジスタを基板ホルダーに設置
後、装置内を104トール(Torr)程度に減圧し、
基板ホルダーを50〜60°Cに加熱して。
後、装置内を104トール(Torr)程度に減圧し、
基板ホルダーを50〜60°Cに加熱して。
該トランジスタ表面及び装置内の脱ガスを行ない。
次いで、アルゴンガス等の不活性ガスを10〜20cc
/分程度の流速で導入し、装置内の圧力を0.1〜0.
4ト一ル程度に保って、高電圧下に、アルゴンプラズマ
を発生させて、電界効果トランジスタのゲート絶縁膜表
面をアルゴンプラズマでエツチング洗浄する。
/分程度の流速で導入し、装置内の圧力を0.1〜0.
4ト一ル程度に保って、高電圧下に、アルゴンプラズマ
を発生させて、電界効果トランジスタのゲート絶縁膜表
面をアルゴンプラズマでエツチング洗浄する。
電界効果トランジスタのゲート絶縁膜表面に形成された
高分子薄膜への生体感応性物質の固定化は、徨々知られ
た方法を採用することができるが。
高分子薄膜への生体感応性物質の固定化は、徨々知られ
た方法を採用することができるが。
共有結合的に行なうのが好ましい。共有結合的な固定化
は、上記高分子薄膜へのN)h基、OH基等の官能基の
導入とこの官能基への生体感応性物質の直接的な又は架
橋剤を介した反応によって行なうことができる。
は、上記高分子薄膜へのN)h基、OH基等の官能基の
導入とこの官能基への生体感応性物質の直接的な又は架
橋剤を介した反応によって行なうことができる。
上記高分子薄膜への官能基の導入は、酸素、水蒸気、窒
素、アンモニア等のガスを含む雰囲気下でのプラズマ処
理によって行なうことができる。
素、アンモニア等のガスを含む雰囲気下でのプラズマ処
理によって行なうことができる。
NHz基の導入は、t¥jに窒素と水素の混合ガス、ア
ンモニアと水素の混合ガス等の雰囲気下に行なうのが特
に好ましい。
ンモニアと水素の混合ガス等の雰囲気下に行なうのが特
に好ましい。
NHz基の導入は、上記高分子薄膜を有する電界効果ト
ランジスタを、アンモニアガス雰囲気下又は窒素/水素
が1/2(モル比)の混合ガス雰囲気下、0.3)−ル
、ioowでプラズマ処理する方法が具体的に考えられ
9例えば、ジャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・
サイエンス(Journal of Applied
polymer 5cience )13巻807頁(
1969年)に開示される方法を採用することができる
。
ランジスタを、アンモニアガス雰囲気下又は窒素/水素
が1/2(モル比)の混合ガス雰囲気下、0.3)−ル
、ioowでプラズマ処理する方法が具体的に考えられ
9例えば、ジャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・
サイエンス(Journal of Applied
polymer 5cience )13巻807頁(
1969年)に開示される方法を採用することができる
。
固定化されるべき生体感応性物質としては、抗体、抗原
、酵素、微生物、オルガネラ、抗生物質。
、酵素、微生物、オルガネラ、抗生物質。
大
核酸、レセプター等、生体内に存在する物質eは生体に
対して何らかの感応性を有する物質である。
対して何らかの感応性を有する物質である。
本発明に使用される抗体としては、抗アルブミン抗体、
抗免疫グロブリン抗体等のタンパク質に対する抗体、抗
体α−フェノプロティン抗体、抗癌胎児性抗原(CEA
)抗体等の癌特異性抗原に対する抗体、抗HBs(B型
肝炎表面抗原)抗体等の病原性ウィルス抗原に対する抗
体、抗インシュリン抗体、抗hCG(ヒト絨毛性腺刺激
ホルモン)抗体、抗ステロイドホルモン抗体等のホルモ
ンに対する抗体等がある。
抗免疫グロブリン抗体等のタンパク質に対する抗体、抗
体α−フェノプロティン抗体、抗癌胎児性抗原(CEA
)抗体等の癌特異性抗原に対する抗体、抗HBs(B型
肝炎表面抗原)抗体等の病原性ウィルス抗原に対する抗
体、抗インシュリン抗体、抗hCG(ヒト絨毛性腺刺激
ホルモン)抗体、抗ステロイドホルモン抗体等のホルモ
ンに対する抗体等がある。
本発明に使用される抗原としては、サイクログロブリン
、マイクロシーム、細胞核等の自己免疫疾患関連抗原、
HBsのような病原性ウィルス抗原等がある。
、マイクロシーム、細胞核等の自己免疫疾患関連抗原、
HBsのような病原性ウィルス抗原等がある。
また1本発明に使用される酵素としては、卵白リゾチー
ム、グルコースオキシダーゼ、ウレアーゼ、インベルタ
ーゼ、リボプロティンリパーゼ。
ム、グルコースオキシダーゼ、ウレアーゼ、インベルタ
ーゼ、リボプロティンリパーゼ。
ホスホリパーゼD、コレステロールエステラーゼ。
β−グルコシダーゼ、ベニシリナーゼ、アデノシンデア
ミナーゼ、シュウ酸脱炭酸酵素等がある。
ミナーゼ、シュウ酸脱炭酸酵素等がある。
また9本発明に使用し得る微生物としては、シュードモ
ナス・フルオレセンス(P sendomonasFe
uorescence )等がある。
ナス・フルオレセンス(P sendomonasFe
uorescence )等がある。
固定化されるべき生体感応性物質は、抗体、酵素のよう
なタンパク質であれば、その分子鎖末端に存在するα−
アミン基又はカルボキシル基、場合によって分子鎖を構
成するリジン、チロシン又はヒスチジンのそれぞれのε
−アミン基、フェノール性水酸基又はイミダゾール基等
を利用して。
なタンパク質であれば、その分子鎖末端に存在するα−
アミン基又はカルボキシル基、場合によって分子鎖を構
成するリジン、チロシン又はヒスチジンのそれぞれのε
−アミン基、フェノール性水酸基又はイミダゾール基等
を利用して。
また、その他の生体感応性物質についても該物質に結合
している官能基を利用して、前記高分子薄膜に導入され
た官能基と反応させることができる。
している官能基を利用して、前記高分子薄膜に導入され
た官能基と反応させることができる。
この反応は、前記高分子薄膜の官能基と生体感応性物質
の官能基で、架橋剤を介して又は触媒を用いて直接に行
なうのが好ましい。
の官能基で、架橋剤を介して又は触媒を用いて直接に行
なうのが好ましい。
架橋剤としては、グルタルアルデヒド、臭化シアン等が
あり、触媒としては、シクロへキシルカルボジイミド、
1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)−カ
ルボジイミド等がある。
あり、触媒としては、シクロへキシルカルボジイミド、
1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)−カ
ルボジイミド等がある。
固定化反応において、生体感応性物質は適当なモル濃度
及びpHの緩衝液又は電解質容液に溶解又は分散させて
使用するのが好ましい。反応は。
及びpHの緩衝液又は電解質容液に溶解又は分散させて
使用するのが好ましい。反応は。
この溶液又は分散液に官能基が導入され念高分子薄膜を
有する電界効果トランジスタを浸漬することによって行
なうことができる。
有する電界効果トランジスタを浸漬することによって行
なうことができる。
グルタルアルデヒドを用いる反応は9例えば。
次のようにして行なわれる。
官能基としてNH2基が導入された高分子薄膜を有する
電界効果トランジスタを2〜3%のグルタルアルデヒド
水溶液に浸漬し、室温で30〜60分間反応させて1次
に、蒸留水で十分に洗浄し。
電界効果トランジスタを2〜3%のグルタルアルデヒド
水溶液に浸漬し、室温で30〜60分間反応させて1次
に、蒸留水で十分に洗浄し。
未反応のグルタルアルデヒドを取り除き、アルダヒド基
導入素子を得f0一方、固定化されるべき生体感応性物
質は、適当な緩衝液、一般には、濃度が0.IM程度の
リン酸緩衝液(pH5〜7)にあらかじめ溶解させてお
き、そこへ、上記のアルデヒド基導入素子を浸漬して、
低温(4℃付近)で−晩程度反応させ、濱らに、水素化
ホウ素ナトリウムなどの温和な還元剤を用いて4℃で1
時間反応させることにより生体感応性物質を固定化する
ことかできる。
導入素子を得f0一方、固定化されるべき生体感応性物
質は、適当な緩衝液、一般には、濃度が0.IM程度の
リン酸緩衝液(pH5〜7)にあらかじめ溶解させてお
き、そこへ、上記のアルデヒド基導入素子を浸漬して、
低温(4℃付近)で−晩程度反応させ、濱らに、水素化
ホウ素ナトリウムなどの温和な還元剤を用いて4℃で1
時間反応させることにより生体感応性物質を固定化する
ことかできる。
下
反応過程は、以Iのようであると考えられる。
体感応性物質の残基を示し、以下においても同様である
。
。
臭化シアン(BrCN)を用いる反応は9次のようであ
る。
る。
高分子薄膜を被着し、該薄膜をHz Oプラズマ処理な
どして水酸基が導入された電界効果トランジスタをpH
10〜pH11の間に水酸化ナトリウムで調整した臭化
シアン水溶液に20分程度浸漬し。
どして水酸基が導入された電界効果トランジスタをpH
10〜pH11の間に水酸化ナトリウムで調整した臭化
シアン水溶液に20分程度浸漬し。
上記薄膜にシアノ基(C−:N)を導入し9次いで水洗
し、て、未反応の臭化シアンを取り除き、シアン基導入
素子を得る。
し、て、未反応の臭化シアンを取り除き、シアン基導入
素子を得る。
一方、固定化されるべき生体感応物質は、0.05M程
[のパルビタール(5,5−ジエチルバルビッル酸)緩
衝液(pH8〜9)にあらかじめ溶解させておく。その
溶液に、シアン基導入素子を浸漬し。
[のパルビタール(5,5−ジエチルバルビッル酸)緩
衝液(pH8〜9)にあらかじめ溶解させておく。その
溶液に、シアン基導入素子を浸漬し。
4〜5℃で約2日間反応させると、生体感度性物質が固
定化される。
定化される。
反応過程は以下のようであると考えられる。
カルボジイミドを用いる反応は次のようにして行々われ
る。0.1M程度のN a Cl水溶液(pH=7)に
、あらかじめ生体感応物質を溶解させておく。
る。0.1M程度のN a Cl水溶液(pH=7)に
、あらかじめ生体感応物質を溶解させておく。
この水溶液に、NH1基が導入され九高分子薄膜を有す
る電界効果トランジスタを浸漬し、さらに。
る電界効果トランジスタを浸漬し、さらに。
シクロへキシルカルボジイミド等のカルボジイミド化合
物を生体感応性物質に対して1〜2mo1%程度添加し
て、攪拌しながら、4℃程度で、約2日間反応させると
アミド結合により生体感応性物質が固定される。
物を生体感応性物質に対して1〜2mo1%程度添加し
て、攪拌しながら、4℃程度で、約2日間反応させると
アミド結合により生体感応性物質が固定される。
反応過程は以下のようであると考えられる。
本発明に係るバイオセンサーを図面を用いて。
測定原理と共に説明する。
第1図は1本発明に係るバイオセンサーの一例とその使
用法を示す模式図である。
用法を示す模式図である。
シリコン半導体基板1(p型)にソース領域2(n型)
及びドレイン領域3(n型)が警戒されており、ゲート
部に8102絶縁層4及びその上に5isN4絶縁層5
が形成されている。5iCh絶縁層4及び5isN4絶
縁層5はいずれも100OA程度の厚さが好ましい。8
1sN<絶縁層には生体感応性物質が結合された高分子
薄膜6が形成されている。
及びドレイン領域3(n型)が警戒されており、ゲート
部に8102絶縁層4及びその上に5isN4絶縁層5
が形成されている。5iCh絶縁層4及び5isN4絶
縁層5はいずれも100OA程度の厚さが好ましい。8
1sN<絶縁層には生体感応性物質が結合された高分子
薄膜6が形成されている。
ソース領域2にはソース電極7が、ドレイン領域3には
ドレイン電極8が接続されており、これら両電極は、絶
縁樹脂9及び10により被覆されている。以上のように
して構成されているバイオセンサーは、上記の生体感応
性物質が結合された高分子薄膜8が被測定試料溶液11
と接触するようにされ、参照電極12が正しくバイアス
されていると、上記高分子薄膜8に結合した生体感応物
質と被測定試料溶液11中の試料の反応又は触媒作用に
応じて溶液と薄膜の界面に生じた電位差が。
ドレイン電極8が接続されており、これら両電極は、絶
縁樹脂9及び10により被覆されている。以上のように
して構成されているバイオセンサーは、上記の生体感応
性物質が結合された高分子薄膜8が被測定試料溶液11
と接触するようにされ、参照電極12が正しくバイアス
されていると、上記高分子薄膜8に結合した生体感応物
質と被測定試料溶液11中の試料の反応又は触媒作用に
応じて溶液と薄膜の界面に生じた電位差が。
ソース領域2とドレイン領域3の間の電導チャンネルの
電導度を変化させ、この変化は電流計13によってドレ
イン電流の変化として測定できる。
電導度を変化させ、この変化は電流計13によってドレ
イン電流の変化として測定できる。
(実施例)
次に1本発明の実施例を示す。
実施例1
第1図で説明したようなl5FET(ゲート部絶縁層表
面を除いて、エポキシ樹脂で封止されている)を内部電
極を有する容量結合型プラズマ重合装置の反応器内の基
板ホルダ(下部電極上に設置しである)に固定した後、
系内を約10−’)−ルに減圧し、同時に基板ホルダを
50℃に加熱して10分間脱ガス操作を行なった。次に
系内にアルゴンガスを流t20SCCM、系内の圧力が
0.40)−ルになるように導入してアルゴンプラズマ
を発生させ、l8FET表面を5分間処理した。次に、
あらかじめ通常の操作で脱気したキシレンのガスを流量
158CCM、系内の圧力が0.35)−ルになるよう
に導入して、電極間距離20mm、電力&5W9周波数
64KHz(正弦波)で1分間プラズマを発生させた。
面を除いて、エポキシ樹脂で封止されている)を内部電
極を有する容量結合型プラズマ重合装置の反応器内の基
板ホルダ(下部電極上に設置しである)に固定した後、
系内を約10−’)−ルに減圧し、同時に基板ホルダを
50℃に加熱して10分間脱ガス操作を行なった。次に
系内にアルゴンガスを流t20SCCM、系内の圧力が
0.40)−ルになるように導入してアルゴンプラズマ
を発生させ、l8FET表面を5分間処理した。次に、
あらかじめ通常の操作で脱気したキシレンのガスを流量
158CCM、系内の圧力が0.35)−ルになるよう
に導入して、電極間距離20mm、電力&5W9周波数
64KHz(正弦波)で1分間プラズマを発生させた。
その結果。
l5FETゲ一ト部分に約100OAのキシレンのプラ
ズマ重合F(高分子薄膜)が形成された。
ズマ重合F(高分子薄膜)が形成された。
ひきつづき、系内に、NH3のガスを流量208CCM
。
。
系内の圧力が0.40)−ルになるように導入し。
出カフWで10分間プラズマで処理を行なった。
プラズマ処理後、プラズマを止めた後系内を一旦約10
−’ )−ルに減圧し、同時に基板ホルダを150℃に
加熱し、3時間アニーリング処理を行なった。
−’ )−ルに減圧し、同時に基板ホルダを150℃に
加熱し、3時間アニーリング処理を行なった。
これとは別に、0.1M NaCl水溶液に濃度が40
0μ9/mlになるように卵白リゾチームを溶解した溶
液を作っておき、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ンプロピル)−カルボジイミドを適当量添加した後、ア
ニーリング処理を行なつ九高分子薄膜を有するl5FE
Tを浸漬した。この状態で、溶液を攪拌しながら、約2
日間放置し。
0μ9/mlになるように卵白リゾチームを溶解した溶
液を作っておき、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ンプロピル)−カルボジイミドを適当量添加した後、ア
ニーリング処理を行なつ九高分子薄膜を有するl5FE
Tを浸漬した。この状態で、溶液を攪拌しながら、約2
日間放置し。
高分子薄膜表面に卵白リゾチームを固定化し、洗浄して
バイオセンサーヲ得り。
バイオセンサーヲ得り。
このバイオセンサー−t 0. I M塩化ナトリウム
溶液10ccに浸漬し、第1図に示すような測定原理に
基づき、参照電極及び電流計を接続しておき。
溶液10ccに浸漬し、第1図に示すような測定原理に
基づき、参照電極及び電流計を接続しておき。
0、3 MのN−アセチルグルコサミン(NAG)水溶
液5ccを滴下した。この0.3 M −N A G水
溶液滴下前後の電流計の変化から、バイオセンサーのゲ
ート電位の変化を求めた結果を第2図に示す。
液5ccを滴下した。この0.3 M −N A G水
溶液滴下前後の電流計の変化から、バイオセンサーのゲ
ート電位の変化を求めた結果を第2図に示す。
太い矢印が0.3 M −N A G水溶液滴下時点を
示す。
示す。
また、上記で得たバイオセンサーを上記と同様に0.1
M塩化ナトリウム溶液に浸漬し、0.3MのNAG水溶
液を所定濃度になるように添加し、この間のゲート電位
の変化量を求めた。この結果を第3図に示す。この結果
から明らかなように、ゲート電位の変化量とNAG濃度
(対数表示)の間に対応関係があることがわかる。
M塩化ナトリウム溶液に浸漬し、0.3MのNAG水溶
液を所定濃度になるように添加し、この間のゲート電位
の変化量を求めた。この結果を第3図に示す。この結果
から明らかなように、ゲート電位の変化量とNAG濃度
(対数表示)の間に対応関係があることがわかる。
なお、上記の電流及び電位の変化は、卵白リゾチームと
N−アセチルグルコサミンの結合反応に帰因すると考え
られる。
N−アセチルグルコサミンの結合反応に帰因すると考え
られる。
比較例1
実施例1で、キシレンにかえてメタクロインを原料に用
いた以外は、同様の条件で作成したセンサについて0.
1MN3C1溶液中に浸漬して、N−アセチルグルコサ
ミンNAGの測定を行なったが。
いた以外は、同様の条件で作成したセンサについて0.
1MN3C1溶液中に浸漬して、N−アセチルグルコサ
ミンNAGの測定を行なったが。
測定中のノイズが大きく有意な電位変化が観測できなか
った。
った。
さらに、測定開始後、1分程度で、センサをとり出し、
光学顕微鏡で表面を観測したところ、膜が一部けがtて
いるのがわかった。
光学顕微鏡で表面を観測したところ、膜が一部けがtて
いるのがわかった。
(発明の効果)
本発明に係るバイオセンサーは、酸素に対スる安定性、
平滑性及び付着性に優れた高分子薄膜がが固定化されて
いるため、センサーとしての性能が優れている。
平滑性及び付着性に優れた高分子薄膜がが固定化されて
いるため、センサーとしての性能が優れている。
第1図は9本発明に係るバイオセンサーの一例及びその
使用法を示す模式図、第2図は実施例1で作製したバイ
オセンサーにおけるN−アセチルグルコサミンによるゲ
ート電位の変化を示すグラフ並びに第3図は実施例1で
作製したバイオセンサーにおけるN−グルコサミン濃度
に対するゲート電位の変化を示すプロット及びグラフで
ある。 符号の説明
使用法を示す模式図、第2図は実施例1で作製したバイ
オセンサーにおけるN−アセチルグルコサミンによるゲ
ート電位の変化を示すグラフ並びに第3図は実施例1で
作製したバイオセンサーにおけるN−グルコサミン濃度
に対するゲート電位の変化を示すプロット及びグラフで
ある。 符号の説明
Claims (1)
- 1、電界効果トランジスタのゲート絶縁膜表面にベンゼ
ン、トルエン及びキシレンからなる群から選ばれる少な
くとも一種の化合物をプラズマ重合させて形成した高分
子薄膜に生体感応性物質を固定化してなるバイオセンサ
ー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61131107A JPS62288560A (ja) | 1986-06-07 | 1986-06-07 | バイオセンサ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61131107A JPS62288560A (ja) | 1986-06-07 | 1986-06-07 | バイオセンサ− |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62288560A true JPS62288560A (ja) | 1987-12-15 |
Family
ID=15050141
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61131107A Pending JPS62288560A (ja) | 1986-06-07 | 1986-06-07 | バイオセンサ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62288560A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100723426B1 (ko) | 2006-04-26 | 2007-05-30 | 삼성전자주식회사 | 이온 물질 검출용 전계 효과 트랜지스터 및 그를 이용한이온 물질 검출 방법 |
JP2008134255A (ja) * | 2007-12-17 | 2008-06-12 | Hitachi Ltd | 生体分子検出装置及びそれを用いた生体分子検出方法 |
US7399668B2 (en) | 2004-09-30 | 2008-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Method for making electronic devices having a dielectric layer surface treatment |
JP2018504612A (ja) * | 2014-11-07 | 2018-02-15 | プロテオセンス | 検体を検出するためのデバイス、システム、及び方法 |
-
1986
- 1986-06-07 JP JP61131107A patent/JPS62288560A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7399668B2 (en) | 2004-09-30 | 2008-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Method for making electronic devices having a dielectric layer surface treatment |
KR100723426B1 (ko) | 2006-04-26 | 2007-05-30 | 삼성전자주식회사 | 이온 물질 검출용 전계 효과 트랜지스터 및 그를 이용한이온 물질 검출 방법 |
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JP2018504612A (ja) * | 2014-11-07 | 2018-02-15 | プロテオセンス | 検体を検出するためのデバイス、システム、及び方法 |
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