JPS62286935A - パラキシレンの分離法 - Google Patents
パラキシレンの分離法Info
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- JPS62286935A JPS62286935A JP13098886A JP13098886A JPS62286935A JP S62286935 A JPS62286935 A JP S62286935A JP 13098886 A JP13098886 A JP 13098886A JP 13098886 A JP13098886 A JP 13098886A JP S62286935 A JPS62286935 A JP S62286935A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、主としてＣ８芳香族炭化水素からなる混合物
からパラキシレン（ｐｘ）を結晶化分離する、いわゆる
三股晶析法の改良に関する。
からパラキシレン（ｐｘ）を結晶化分離する、いわゆる
三股晶析法の改良に関する。
三股晶析法としてはＣ８芳香族炭化水素混合物を晶析器
に送入してｐｘを結晶させ、引続き第７分離装置とそれ
に後続する第２分離装置中でｐｘ結晶を分離して製品と
して抜き出し、涙液の一部を第２分離装置の入口流に循
環し、残部を補助晶析器で再結晶させ、補助分離装置で
分離されたＰＫケーキは第一分離装置の入口流に循環し
、ＰＰ２Ｌは晶析器入口流に循環する方法（Ａ４公昭￥
デーおり夕／）、又はＣ８芳香族炭化水素混合物を第１
晶出帯域に送入してＰＫを結晶させ、次いで第１段分離
帯域でＰＫケーキを得、これを溶解槽で溶解した後、冷
却して第２段分離帯域へ導入し、分離したＰＸケーキは
製品として抜き出し、涙液の一部はＰＸケーキ溶解用と
して溶解槽に循環し、残部は冷却し回収段分離帯域へ導
入し分離したＰＫケーキは製品として抜き出し、涙液は
第１晶出帯域の入口流に循環する方法（特公昭り９−２
６イ／／）が知られている。
に送入してｐｘを結晶させ、引続き第７分離装置とそれ
に後続する第２分離装置中でｐｘ結晶を分離して製品と
して抜き出し、涙液の一部を第２分離装置の入口流に循
環し、残部を補助晶析器で再結晶させ、補助分離装置で
分離されたＰＫケーキは第一分離装置の入口流に循環し
、ＰＰ２Ｌは晶析器入口流に循環する方法（Ａ４公昭￥
デーおり夕／）、又はＣ８芳香族炭化水素混合物を第１
晶出帯域に送入してＰＫを結晶させ、次いで第１段分離
帯域でＰＫケーキを得、これを溶解槽で溶解した後、冷
却して第２段分離帯域へ導入し、分離したＰＸケーキは
製品として抜き出し、涙液の一部はＰＸケーキ溶解用と
して溶解槽に循環し、残部は冷却し回収段分離帯域へ導
入し分離したＰＫケーキは製品として抜き出し、涙液は
第１晶出帯域の入口流に循環する方法（特公昭り９−２
６イ／／）が知られている。
しかしながら、上記公知方法には次の欠点がある。
（１）第二晶析温度はＰＸ純度とＰＸ晶析量との兼合い
で−／！〜０°Ｃの範囲の温度とされるが冷却に要する
冷却剤の消費量が依然として多ｂ０ （２）第３晶析温度は第二晶析温度と第二晶析温度の中
間温度とされるが（１）同様に冷却剤の消費量が依然と
して多Ａ０ （３）特公昭ゲタ−２６６／／の方法では回収段分離帯
域から抜き出すＰＸ結晶の純度が低いので製品とするこ
とはできない。
で−／！〜０°Ｃの範囲の温度とされるが冷却に要する
冷却剤の消費量が依然として多ｂ０ （２）第３晶析温度は第二晶析温度と第二晶析温度の中
間温度とされるが（１）同様に冷却剤の消費量が依然と
して多Ａ０ （３）特公昭ゲタ−２６６／／の方法では回収段分離帯
域から抜き出すＰＸ結晶の純度が低いので製品とするこ
とはできない。
（４）特公昭４１９−２４ｔθ／／では補助分離装置で
分離したＰ液の一部を補助晶析器の入口流に循環する方
が有利であるとされているが、循環するとポンプ設備費
、動力費が必要となる。
分離したＰ液の一部を補助晶析器の入口流に循環する方
が有利であるとされているが、循環するとポンプ設備費
、動力費が必要となる。
又、動力による入熱ロスが増加する。
本発明は以上の問題点を解決したものであり、その目的
は冷却剤の消費量の少ない、即ち晶析の冷却熱負荷の少
ないＰＸの晶析分離法を畏供することにある。他の目的
はプロセスの設備費、動力費が少ない効率的なＰＸ晶析
分離法を提供することにある。
は冷却剤の消費量の少ない、即ち晶析の冷却熱負荷の少
ないＰＸの晶析分離法を畏供することにある。他の目的
はプロセスの設備費、動力費が少ない効率的なＰＸ晶析
分離法を提供することにある。
すなわち、本発明の要旨は
（イ）パラキシレンを７０重量係以上含有するＣ４芳香
族炭化水素混合物を第７段晶出帯域へ送太し、パラキシ
レン結晶を晶出させてスラリーを形成させ、次に第１段
分離帯域に送太し第１段パラキシレンケーキと第１段母
液とに分離し、第１段母液を系外に抜き出し、 （ロ）第１段パラキシレンケーキは溶解槽において第一
段分離帯域から循環された第２段母液を加え、結晶の少
くとも一部を溶解した後、第２段パラキシレンケーキは
溶解槽において第２段分離帯域から循環された第２段パ
ラキシレンケーキと第２段母液に分離し、第２段パラキ
シレンケーキは製品として系外に抜き出し、第２段母液
はコ分し、一方は溶解槽に循環あるいは第２段晶出帯域
に循環し、０→ 他方は回収段晶出帯域から循環された
パラキシレン結晶を晶出させ、次に回収段分離帯域へ送
太し、回収段パラキシレンケーキと回収段母液とに分離
し、回収段パラキシレンケーキを第２段晶出帯域へ循環
し、回収段母液を第１段晶出帯域へ循環 する工程からなるパラキシレンの分離法において（ａ）
第２段分離帯域の分離装置として液体サイクロン及
び遠心分離機を直列に設蓋し、液体サイクロンでパラキ
シレンスラリーをパラキシレンケーキと第２段希薄溶液
どに分離し、第一段希薄溶液を回収段晶出帯域から循環
されたパラキシレンケーキを遠心分離機に送入して第２
段パラキシレンケーキ（製品）と第一段母液とに分離し
、第２段母液を溶解槽に循環あるいは第２段晶出帯域に
循環し、 （ｂ） 回収段分離帯域の分離装置として液体サイク
ロンを設置し、回収段バラキシレフケーキと回収段希薄
溶液とに分離し、回収段パラキシレンケーキを第２段晶
出帯域へ循環し、回収段希薄溶液を第１段晶出帯域へ循
環 することを特徴とするパラキシレンの分離法に存する。
族炭化水素混合物を第７段晶出帯域へ送太し、パラキシ
レン結晶を晶出させてスラリーを形成させ、次に第１段
分離帯域に送太し第１段パラキシレンケーキと第１段母
液とに分離し、第１段母液を系外に抜き出し、 （ロ）第１段パラキシレンケーキは溶解槽において第一
段分離帯域から循環された第２段母液を加え、結晶の少
くとも一部を溶解した後、第２段パラキシレンケーキは
溶解槽において第２段分離帯域から循環された第２段パ
ラキシレンケーキと第２段母液に分離し、第２段パラキ
シレンケーキは製品として系外に抜き出し、第２段母液
はコ分し、一方は溶解槽に循環あるいは第２段晶出帯域
に循環し、０→ 他方は回収段晶出帯域から循環された
パラキシレン結晶を晶出させ、次に回収段分離帯域へ送
太し、回収段パラキシレンケーキと回収段母液とに分離
し、回収段パラキシレンケーキを第２段晶出帯域へ循環
し、回収段母液を第１段晶出帯域へ循環 する工程からなるパラキシレンの分離法において（ａ）
第２段分離帯域の分離装置として液体サイクロン及
び遠心分離機を直列に設蓋し、液体サイクロンでパラキ
シレンスラリーをパラキシレンケーキと第２段希薄溶液
どに分離し、第一段希薄溶液を回収段晶出帯域から循環
されたパラキシレンケーキを遠心分離機に送入して第２
段パラキシレンケーキ（製品）と第一段母液とに分離し
、第２段母液を溶解槽に循環あるいは第２段晶出帯域に
循環し、 （ｂ） 回収段分離帯域の分離装置として液体サイク
ロンを設置し、回収段バラキシレフケーキと回収段希薄
溶液とに分離し、回収段パラキシレンケーキを第２段晶
出帯域へ循環し、回収段希薄溶液を第１段晶出帯域へ循
環 することを特徴とするパラキシレンの分離法に存する。
以下に本発明について詳細に説明する。
本発明方法の原料としてはｐｘを７０重量％以上含有す
るＣ８芳香族炭化水素混合物が好ましく、多くの場合、
改質ナフサ又は分解ガソリンを水素添加したものを溶剤
抽出して芳香族成分のみを分離してＣ３留分を分留した
ものが用いられる。
るＣ８芳香族炭化水素混合物が好ましく、多くの場合、
改質ナフサ又は分解ガソリンを水素添加したものを溶剤
抽出して芳香族成分のみを分離してＣ３留分を分留した
ものが用いられる。
各晶析帯域での冷却法は公知の方法が適用できる。例え
ば原料に冷媒を直接混入する直接冷却法、晶析槽の外壁
を冷媒で冷却する間接冷却法等がある。冷媒としてはエ
チレン、プロピレン等の炭化水素、炭酸ガス、アンモニ
ア、フレオン等が使用される。
ば原料に冷媒を直接混入する直接冷却法、晶析槽の外壁
を冷媒で冷却する間接冷却法等がある。冷媒としてはエ
チレン、プロピレン等の炭化水素、炭酸ガス、アンモニ
ア、フレオン等が使用される。
本発明では、まず、原料であるＣ８炭化水素混条
合物を第１段晶出帯域において出口温度が−／＝θ〜−
７！°Ｃとなるよう忙冷却する。ｐｘ結晶を最大限晶出
させるため晶析器は２〜３個連続して設置し、段階的に
冷却することが好ましい。
７！°Ｃとなるよう忙冷却する。ｐｘ結晶を最大限晶出
させるため晶析器は２〜３個連続して設置し、段階的に
冷却することが好ましい。
去
第１段晶出帯域で得られたスラリーは、次いで第７段分
離帯域に送られ、第１段ｐｘケーキと第７段母液とに分
離される。第１段分離帯域では遠心分離機、濾過器等が
使用されるが一般的には遠心分離機が使用される。第１
段母液は分離：系外へ抜き出すが、母液中にはＣ８留分
が多量含有しているので異性化工程でＰＫに異性化して
分離系循環するのが一般的である。
離帯域に送られ、第１段ｐｘケーキと第７段母液とに分
離される。第１段分離帯域では遠心分離機、濾過器等が
使用されるが一般的には遠心分離機が使用される。第１
段母液は分離：系外へ抜き出すが、母液中にはＣ８留分
が多量含有しているので異性化工程でＰＫに異性化して
分離系循環するのが一般的である。
第１段ＰＫケーキは引き続き溶解槽でＰＫケーキの少く
とも一部を溶解した後、第２段晶出帯域にお込て出口温
度が一／！〜θ℃となる様に冷却される。
とも一部を溶解した後、第２段晶出帯域にお込て出口温
度が一／！〜θ℃となる様に冷却される。
第２段晶出帯域では、晶析器、チラー、熱交換器等が使
用されるが一般的には晶析器が使用される。
用されるが一般的には晶析器が使用される。
第２段晶出帯域で再晶出したスラリーは、次いで第２段
分離帯域へ送入されるが、本発明では、第２段分離帯域
の分離装置として液体サイクロン及び遠心分離機を直列
に設置することを必須要件とする。
分離帯域へ送入されるが、本発明では、第２段分離帯域
の分離装置として液体サイクロン及び遠心分離機を直列
に設置することを必須要件とする。
第λ段ＰＫスラリーは液体サイクロンで第２段希薄溶液
とｐｘケーキとに分離され、ＰＫケーキはさらに遠心分
離機で第一段母液と第２段ｐｘケーキとに分離され、第
λ段ＰＫケーキは製品として系外に抜き出す。第２段母
液は溶解槽に循環して第１段ｐｘケーキの溶解に使用さ
れるかあるいは第２段晶出帯域に循環してスラリー濃度
調整に使用される。
とｐｘケーキとに分離され、ＰＫケーキはさらに遠心分
離機で第一段母液と第２段ｐｘケーキとに分離され、第
λ段ＰＫケーキは製品として系外に抜き出す。第２段母
液は溶解槽に循環して第１段ｐｘケーキの溶解に使用さ
れるかあるいは第２段晶出帯域に循環してスラリー濃度
調整に使用される。
本発明では液体サイクロンで予備分離したのち遠心分離
機で分離して循環するのでｐｘｇ度が低遁母液を少量循
環することができ、冷却熱、負荷を小さくすることがで
きる。
機で分離して循環するのでｐｘｇ度が低遁母液を少量循
環することができ、冷却熱、負荷を小さくすることがで
きる。
第２段希薄溶液は回収段晶出帯域へ送入され、出口温度
が第１段晶析温度と第二段晶析温度の 間の温度になる
ように冷却してＰＸ結晶を晶出させる。
が第１段晶析温度と第二段晶析温度の 間の温度になる
ように冷却してＰＸ結晶を晶出させる。
回収段晶出帯域にお−ては、晶析器、チラー、熱交換器
等が、使用されるが一般的には晶析器が使用される。従
来法では遠心分離機で分離さ′れたｐｘ＠度の高い第４
段母液の一部を多量に供給していたが本発明法では液体
サイクロンで分離されたｐｘｇ度の低い第２段希薄溶液
を少量供給することができるので冷却熱負荷が小さくな
る。
等が、使用されるが一般的には晶析器が使用される。従
来法では遠心分離機で分離さ′れたｐｘ＠度の高い第４
段母液の一部を多量に供給していたが本発明法では液体
サイクロンで分離されたｐｘｇ度の低い第２段希薄溶液
を少量供給することができるので冷却熱負荷が小さくな
る。
回収段晶出帯域からのスラリーは、回収段分離帯域に送
入されるが、本発明では回収段分離帯域の分離装置とし
て液体サイクロンを使用する。ヌラリーは液体サイクロ
ンで回収段Ｐｘケーキと回収段希薄溶液とに分離され、
回収段ＰＸケーキは第２段晶出帯域へ、回収段希薄溶液
は第１段晶出帯域へ循環する。回収段ＰＫケーキは第２
段晶出帯域に直接循環しても、溶解槽に循環しても良い
。
入されるが、本発明では回収段分離帯域の分離装置とし
て液体サイクロンを使用する。ヌラリーは液体サイクロ
ンで回収段Ｐｘケーキと回収段希薄溶液とに分離され、
回収段ＰＸケーキは第２段晶出帯域へ、回収段希薄溶液
は第１段晶出帯域へ循環する。回収段ＰＫケーキは第２
段晶出帯域に直接循環しても、溶解槽に循環しても良い
。
次に本発明の具体的態様を実施例によシ更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を越えない限シ、以下の実
施例に限定されるものではない。
するが、本発明は、その要旨を越えない限シ、以下の実
施例に限定されるものではない。
実施例／
パラキシレン／！、０重量％、メタキシレンＺ／重量矛
、オルンキシレン／’ｌＶＬ量％、エチルベンゼン／４
を重量％、その他Ｃ０〜Ｃ３炭化水素／３重量％を含有
する混合原料を導管９より第１段晶析器に導入した。こ
こで−乙２°Ｃまで冷却しパラキシレン結晶を晶出させ
た後、導管１０から第１段パラキシレンスラリーとして
抜き出し第１段分離帯域の遠心分離機グヘ導入し、第１
段母液と第１段ｐｘケーキとに分離した。
、オルンキシレン／’ｌＶＬ量％、エチルベンゼン／４
を重量％、その他Ｃ０〜Ｃ３炭化水素／３重量％を含有
する混合原料を導管９より第１段晶析器に導入した。こ
こで−乙２°Ｃまで冷却しパラキシレン結晶を晶出させ
た後、導管１０から第１段パラキシレンスラリーとして
抜き出し第１段分離帯域の遠心分離機グヘ導入し、第１
段母液と第１段ｐｘケーキとに分離した。
第１段母液は導管／２より系外へ抜き出して異性化反応
器へ供給し、生成したｐｘ混合物は晶析系へ再循環した
。
器へ供給し、生成したｐｘ混合物は晶析系へ再循環した
。
一方、ＰＫ結晶７？、７重量％の第１段ＰＸケーキは導
管／／から溶解槽乙に導入し、導管／７から導入した第
２段母液で結晶の全量を溶解した。導管／３から温度ｇ
’ＣのＰＫ浴溶液取シ出し、第２段晶析器２へ導入し
て一？ｊ°Ｃ−４で冷却して再結晶した。導管／グから
ＰＸ結晶３／、０重量％の第コ段ＰＸスラリーを取り出
して液体サイクロン７に導入し第２段希薄溶液とｐｘケ
ーキとに分離した。ｐｘケーキは導管／乙から遠心分離
機！に導入し第２段母液と第λ段ｐｘケーキとに分離し
、第２段ｐｘケーキは純度タタ、！チのｐｘ製品として
得る一方、ＰＸ＠度≦２．り多の第＝段母液♂、ｊ／Ｔ
／Ｈは導管／２からＰＸ結結晶溶解槽へ循環した。
管／／から溶解槽乙に導入し、導管／７から導入した第
２段母液で結晶の全量を溶解した。導管／３から温度ｇ
’ＣのＰＫ浴溶液取シ出し、第２段晶析器２へ導入し
て一？ｊ°Ｃ−４で冷却して再結晶した。導管／グから
ＰＸ結晶３／、０重量％の第コ段ＰＸスラリーを取り出
して液体サイクロン７に導入し第２段希薄溶液とｐｘケ
ーキとに分離した。ｐｘケーキは導管／乙から遠心分離
機！に導入し第２段母液と第λ段ｐｘケーキとに分離し
、第２段ｐｘケーキは純度タタ、！チのｐｘ製品として
得る一方、ＰＸ＠度≦２．り多の第＝段母液♂、ｊ／Ｔ
／Ｈは導管／２からＰＸ結結晶溶解槽へ循環した。
次に、ｐｘ濃度！７．！多の第一段希薄溶液Ｊ−、９
Ｔ／Ｈは、導管／乙から回収段晶析器３へ導入し一２乙
°Ｃまで冷却して再度結晶化を行なった。導管／２よシ
取り出した回収段ＰＫスラリーを液体サイクロン？に導
入し回収段母液と回収段ＰＸケーキとに分離し回収段母
液の全量を導管２／から第１段晶出帯域へ循環した。
Ｔ／Ｈは、導管／乙から回収段晶析器３へ導入し一２乙
°Ｃまで冷却して再度結晶化を行なった。導管／２よシ
取り出した回収段ＰＫスラリーを液体サイクロン？に導
入し回収段母液と回収段ＰＸケーキとに分離し回収段母
液の全量を導管２／から第１段晶出帯域へ循環した。
回収段ＰＸケーキは導管、２０から溶解ｔｉｔへ供給し
循環した。
循環した。
その結果、第１段晶析器＝の冷却熱負荷は３、りｊ Ｘ
／ ０” Ｋｃａｌ ／ｈｒ 、第３段晶析器３の冷
却熱負荷は／、／りＸ ／ ０５Ｋｃａｌ ／ｈｒであ
った。っ又、回収段分離装置として液体サイクロン♂を
使用することにより回収段母液の一部を導管２２より
“−二 −回収 段晶析器３に循環する必要がなくなった。
／ ０” Ｋｃａｌ ／ｈｒ 、第３段晶析器３の冷
却熱負荷は／、／りＸ ／ ０５Ｋｃａｌ ／ｈｒであ
った。っ又、回収段分離装置として液体サイクロン♂を
使用することにより回収段母液の一部を導管２２より
“−二 −回収 段晶析器３に循環する必要がなくなった。
比較例／
実施例／のＰＸ晶析分離プロセスに於て４２段晶析器の
温度を−ｊ、Ｋ”Ｃとし第一段晶析器コから取り出しだ
第一段ＰＫスラリーを液体サイクロン７に導入しないで
導管／り′から直接遠心分離機！へ導入し第２段母液と
第２段ＰＸケーキ（純度９９．よ係のｐｘ裂品）とに分
離した。
温度を−ｊ、Ｋ”Ｃとし第一段晶析器コから取り出しだ
第一段ＰＫスラリーを液体サイクロン７に導入しないで
導管／り′から直接遠心分離機！へ導入し第２段母液と
第２段ＰＸケーキ（純度９９．よ係のｐｘ裂品）とに分
離した。
Ｐｘ濃度乙７，７％の第λ殺滅母液の／へＪ、＜Ｔ／Ｈ
を導管／？から溶解槽乙へ循環し、！、に／ Ｔ／Ｈを
導管７７′から回収段晶析器３へ導入した。
を導管／？から溶解槽乙へ循環し、！、に／ Ｔ／Ｈを
導管７７′から回収段晶析器３へ導入した。
導管／９から抜き出した回収段ＰＸＸシラＪ−を液体サ
イクロン！の代りに遠心分離器′して導入し回収段母液
と回収段ＰＸケーキとに分離したが、回収段晶析器３で
のＰＸＸシラＪ−ｍ度を実施例とほぼ同じくするために
回収段母液の３？チを、４管−λから回収段晶析器３へ
循環しなければならなかった。
イクロン！の代りに遠心分離器′して導入し回収段母液
と回収段ＰＸケーキとに分離したが、回収段晶析器３で
のＰＸＸシラＪ−ｍ度を実施例とほぼ同じくするために
回収段母液の３？チを、４管−λから回収段晶析器３へ
循環しなければならなかった。
その結果、第一段晶析器＝の冷却熱負荷はｇ、ｇ ｊ
Ｘ ／ ０’ Ｋｃａｌ／ ｈｒで、第３段晶析器３の
冷却熱負荷は／、！ ／ Ｘ ／ ０５Ｋｃａｌ ／
ｈｒであった。
Ｘ ／ ０’ Ｋｃａｌ／ ｈｒで、第３段晶析器３の
冷却熱負荷は／、！ ／ Ｘ ／ ０５Ｋｃａｌ ／
ｈｒであった。
第７図は本発明の実施例で使用したパラキシレン晶析系
のフローシートである。 実録部分は本発明のフローであり、点線部分は従来の方
法のフローである。 機器名称 ／ 第１段晶析器 λ 第２段晶析器 ３ 回収段晶析器 ９ 遠心分離機 ！ 遠心分離機 ≦ 溶解槽 ２ 液体サイクロン ？ 液体サイクロン 、−−１１’ 、＋−＋
のフローシートである。 実録部分は本発明のフローであり、点線部分は従来の方
法のフローである。 機器名称 ／ 第１段晶析器 λ 第２段晶析器 ３ 回収段晶析器 ９ 遠心分離機 ！ 遠心分離機 ≦ 溶解槽 ２ 液体サイクロン ？ 液体サイクロン 、−−１１’ 、＋−＋
Claims (1)
- （１）（イ）パラキシレンを１０重量％以上含有するＣ
＿３芳香族炭化水素混合物を第１段晶出帯域へ送入し、
パラキシレン結晶を晶出させて スラリーを形成させ、次に第１段分離帯域 に送入し第１段パラキシレンケーキと第１ 段母液とに分離し、第１段母液を系外に抜 き出し、 （ロ）第１段パラキシレンケーキは溶解槽において第２
段分離帯域から循環された第２段 母液を加え、結晶の少くとも一部を溶解し た後、第２段晶出帯域で再晶出して、第２ 段分離帯域へ送入し、第２段パラキシレン ケーキと第２段母液に分離し、第２段パラ キシレンケーキは製品として系外に抜き出 し、第２段母液は２分し、一方は溶解槽ま たは第２段晶出帯域に循環し、 （ハ）他方は回収段晶出帯域へ送入し、パラキシレン結
晶を晶出させ、次に回収段分離帯 域へ送入し、回収段パラキシレンケーキと 回収段母液とに分離し、回収段パラキシレ ンケーキを第２段晶出帯域へ循環し、回収 段母液を第１段晶出帯域へ循環する 工程からなるパラキシレンの分離法において（ａ）第２
段分離帯域の分離装置として液体サイクロン及び遠心分
離機を直列に設置し、 液体サイクロンでパラキシレンスラリーを パラキシレンケーキと第２段希薄溶液とに 分離し、第２段希薄溶液を回収段晶出帯域 へ送入し、パラキシレンケーキを遠心分離 機に送入して第２段パラキシレンケーキ （製品）と第２段母液とに分離し、第２段 母液を溶解槽または第２段晶出帯域に循環 し、 （ｂ）回収段分離帯域の分離装置として液体サイクロン
を設置し、回収段パラキシレンケ ーキと回収段希薄溶液とに分離し、回収段 パラキシレンケーキを第２段晶出帯域へ循 環し、回収段希薄溶液を第１段晶出帯域へ 循環 することを特徴とするパラキシレンの分離法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13098886A JPS62286935A (ja) | 1986-06-05 | 1986-06-05 | パラキシレンの分離法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13098886A JPS62286935A (ja) | 1986-06-05 | 1986-06-05 | パラキシレンの分離法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62286935A true JPS62286935A (ja) | 1987-12-12 |
Family
ID=15047294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13098886A Pending JPS62286935A (ja) | 1986-06-05 | 1986-06-05 | パラキシレンの分離法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62286935A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10502330A (ja) * | 1994-04-04 | 1998-03-03 | モービル・オイル・コーポレイション | 高純度パラキシレン供給原料からのパラキシレンの結晶化 |
| CN103664487A (zh) * | 2012-09-05 | 2014-03-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 对二甲苯结晶方法 |
-
1986
- 1986-06-05 JP JP13098886A patent/JPS62286935A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10502330A (ja) * | 1994-04-04 | 1998-03-03 | モービル・オイル・コーポレイション | 高純度パラキシレン供給原料からのパラキシレンの結晶化 |
| CN103664487A (zh) * | 2012-09-05 | 2014-03-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 对二甲苯结晶方法 |
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