JPS6226400A - 自動吸引−転移弁及びこれを使用した洗滌装置 - Google Patents

自動吸引−転移弁及びこれを使用した洗滌装置

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JPS6226400A
JPS6226400A JP61157762A JP15776286A JPS6226400A JP S6226400 A JPS6226400 A JP S6226400A JP 61157762 A JP61157762 A JP 61157762A JP 15776286 A JP15776286 A JP 15776286A JP S6226400 A JPS6226400 A JP S6226400A
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inlet
housing
upstream
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ターゲ エステルガールド
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/24Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas with means, e.g. a container, for supplying liquid or other fluent material to a discharge device
    • B05B7/26Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device
    • B05B7/28Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device in which one liquid or other fluent material is fed or drawn through an orifice into a stream of a carrying fluid
    • B05B7/30Apparatus in which liquids or other fluent materials from different sources are brought together before entering the discharge device in which one liquid or other fluent material is fed or drawn through an orifice into a stream of a carrying fluid the first liquid or other fluent material being fed by gravity, or sucked into the carrying fluid
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
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    • B05B12/08Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area responsive to condition of liquid or other fluent material to be discharged, of ambient medium or of target ; responsive to condition of spray devices or of supply means, e.g. pipes, pumps or their drive means
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    • Y10T137/87587Combining by aspiration
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  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
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  • Multiple-Way Valves (AREA)
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  • Manipulator (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Pretreatment Of Seeds And Plants (AREA)
  • Nozzles For Electric Vacuum Cleaners (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Control Of The Air-Fuel Ratio Of Carburetors (AREA)
  • Control Of Positive-Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は自動吸引−転移弁及びかかる弁を使用して低圧
での洗滌及び高圧ジェット清掃を交互に行う洗藷装置に
係り、本自動吸引−転移弁は、a)第1入口及び出口を
備えたハウジング。
b)上記第1入口及び上記出口の間にあってこれらを連
通し、かつ上記ハウジングの外側の第2入口と連通して
いる側方入口をもっているインジェクタ。
C)上記第1入口及び上記インジェクタの間にありかつ
これらを連通しているハウジング孔。
及び d)両端を連通している通路を備え、上流端は上記ハウ
ジングの第1入口と連通しかつ下流端は上記インジェク
タの入口ノズルと連通しているピストン弁であって、こ
のピストンは上流に面する表面と下流に面する表面の間
の圧力差の変動の影響を受けて、第1位置:最も上流の
位置と第2位置:最も下流の位置の間を摺動自在であり
、該第1位置:最も上流の位置(第1゜4及び6図)に
おいて、上記ピストン通路の下流端は、該ピストンの下
流端と上記インジェクタ入口ノズルの上流への延長の間
の開いている弁隙間を通って上記ハウジング出口へ通ず
るバイパス導管と連通し、そして第2位置:最も下流の
位置(第3,5及び7図)において、上記弁間隙は上記
上流への延長と係合する上記ピストンの下流端によって
閉じられるようなピストン弁を有している型であり、ま
た本洗滌装置はa)高圧の洗滌流体の供給、 b)低圧での洗滌の期間に上記洗滌流体に混合すべき洗
滌剤の供給、 C)最初に述べた型の自動吸引−転移弁、そして d)上記供給から上記弁を通って供給される流体用の少
なくとも1つの出口ノズルを含むガンで、このガンは上
記弁の作用を制御するため、上記弁からの出口における
圧力を下げるために流れ横断面積を増加する手段を有す
るガンを有する型のものである。
〔従来の技術〕
かかる弁は米国特許明細書第3613997号(リチャ
ード ジー、トムソン)に開示されて居り、特にFig
、3を参照されたい。この周知の吸引−転移弁において
は、インジェクタ(23a 、 25a 、 24a 
)の側方入口(25a )を通る入口経路はハウジング
の孔(16a)の内側の空間を通過するので、本弁が洗
滌剤をハウジング外側入口(14a)が加える作用モー
ドにあるとき、即ち弁ピストン(18a )が、バイパ
ス導管(28a)の上流端を出口(15a)へのハウジ
ングの孔(16a)の内側の空間から分離するとき、ハ
ウジングの孔(16a)の内側の全空間は濃くなった洗
滌剤で充愼され、不還弁(26a)。
(27a )のみが、該洗滌剤が上記バイパス導管内へ
と更に拡がって行くことを防止するか、又は該洗滌剤が
相対的圧力によって上記バイパス導管からの流体によっ
て希釈されるのを防止するだけである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記洗滌モードから水洗モードへ変わるときは、ピスト
ン(18a)は上流へ引戻されそしてピストン(18a
)は洗滌流体をハウジング入口(13a)から直接にハ
ウジング出口(15a)へと上記バイパス導管(28a
 )を通って通過させる。ハウジングの孔(16a)の
内側の上記空間内に存在している体積の洗滌剤は、出口
を通って出て、濃縮されている洗滌剤の栓”を出口ホー
ス(51)に沿って(同じ明細書の第1及び2図を参照
せよ)清掃ガン(53)へと移動させる。これの一つの
不利益は目的物へ適用される洗滌剤の濃度が、上記目的
物の材質が耐え得られる以上に高く処理されるので、修
復不可能な損害が生ずるかも知れないことである。もう
一つの不利益は、希釈してない形の洗滌剤が作業者に対
して危険であること、そして第3の不利益は洗滌剤の明
らかな浪費となることであり、何故ならば、洗滌モード
から水洗モードへの転移は、作業者は最早洗滌剤の使用
は考えず、単に問題の目的物を洗滌又はごしごしこすっ
た後の水洗用のごとき洗滌流体だけの使用を考えるだけ
という状態になるからである。
本発明の目的は上述のごとき自動吸引−転移弁であって
、上述の該不利益を除去するか又は少な(とも本質的に
減少したものを提供するにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の上記目的は最初に述べた形の自動吸引−転移弁
において、 e)上記インジェクタの上記側方入口と上記ハウジング
の第2入口との連通が、上記バイパス導管から分離して
いる少なくとも一つの導管によって構成されていること によって達成された。
かかる弁においては、洗滌剤はインジェクタの側方入口
へハウジングの孔の内部空間から完全に分離している経
路を通って導かれるので、上述の濃縮されている洗滌剤
の流出及び浪費は回避される。さらに、上記空間とバイ
パス導管の間の不還弁は最早必要ではなく、省略するこ
とができ、か(して弁の構造を単純化する。
また本発明によれば、本洗滌装置は e)上記弁の上記インジェクタ(3,4)の上記側方入
口(21)と上記ハウジング側方入口(5)の間の連結
が上記バイパス導管(15)から分離している少なくと
も一つの導管(22)により構成されており、 f)上記ガンは一つ以上のノズルを有しかつ上記弁を制
御するように流れ横断面積の必要な変更を行うため、交
互にかつ手動で、小数のノズル又は多数のノズルを上記
弁の出口へ結合するようにされている。
〔実施例〕
以下本発明を実施例につき図面を参照しながら一層詳細
に説明しよう。
第1〜3図示の実施例においては、自動吸引−転移弁は
、供給Mに連結されている入口(18)を備えているハ
ウジング(1)を有し、供給Mは水のごとき洗滌流体を
、少なくとも5〜10バ一ル程度の圧力で吐出するよう
されている。この弁の出口(19)は、ホース(12)
により2個のノズルCを備えている清掃ガンBに連結さ
れるが、その一つ又は二つのノズルCはガンBの適当な
手段を手動操作することによってホース(12)と結合
することができる。また何れのノズルと結合しないこと
もできる。
ハウジング孔(20)は上記入口(18)と直結され、
孔(20)の中には弁ピストン(2)が第1図示の最も
上流の位置から第3図示の最も下流の位置へ移動し得る
ように摺動自在に支持される。第2図は中間の転移位置
を示す。ピストン(2)はこのピストンの上流端から下
流端まで伸びている通路(17)を有し、よってハウジ
ング入口(18)を孔(20)の下流端(右手)及びイ
ンジェクタ入口ノズル(3)の上流への延長(16)の
形の入口まで連通し、上記インジェクタは側方入口(2
1)及び出口ノズル(4)を有する。この出口ノズル(
4)は上述のハウジング出口(19)と連通している。
孔(20)の下流端はまたインジェクタ(3,21,4
)をバイパスする少なくとも一つのバイパス導管(15
)を通ってハウジング出口(19)と連通している。こ
のインジェクタの側方入口(21)はインジェクタ入口
導管(22)及びハウジングの側方入口(5)を通って
ハウジング(1)の外部と連通し、側方入口(5)は不
還弁(11)を介して洗滌剤リザーバ(図示せず)と連
通している。
第1〜3図示の実施例においては、以下に記載する第4
.5図示の実施例におけると同様に、ハウジングの孔(
20)と弁ピストン(2)は共に2つの異る有効直径d
1及びd2を備えた部分を形成するため段付きとなって
居り、その結果同じ圧力がピストン(2)の両端に加え
られるときに生ずる圧力差はピストン(2)を上流の方
向へ即ち図において左の方へと動かそうとするようにな
っている。シール(9)、  (10)及びベント(8
)及び穴(25)は漏洩及び圧力ポケットの形成をとも
に防止してピストン(2)の適正な作動を確保する。
図示の実施例においては、つる巻圧縮ばね(6)がピス
トン(2)の上で、環状表面(26)と輪状受面(24
)の間に嵌装され、後者は、ピストン(2)の上流部分
(27)がハウジング孔(20)の上流端に形成されて
いる凹部(28)の中に入り得るよう充分小さい直径を
もっているので、ばね(6)は、該上流部分(27)の
上を摺動自在のばね受板(23)により圧縮することが
できるが、輪状受面(24)を通過することはない。(
第1及び2図参照)。
〔作用〕
本吸引−転移弁を含む図示の洗滌装置を作用するときは
、先ず流体圧力をハウジング入口(18)から加えると
、この流体圧力はピストンの通路(17)を通って伝わ
り、そこからインジェクタ(3,21,4)を通る第1
経路を通って出口(19)へ、またバイパス導管(15
)を通る第2経路を通って同じく出口(19)へ伝わる
。もしこの段階で2つの出口ノズルCの中たった一つが
開いているならば、出口(19)より下流の流抵抗がハ
ウジング孔(20)内にかなりの圧力を維持するために
充分となるので、上述の直径の差から生ずる圧力差は第
1図示のごとく、ばね(6)の力に抗して弁ピストン(
2)を上流へと動かすであろう、そしてピストン通路(
17)の下流端の内側と、インジェクタ(3,21,4
)の入口端の上流への延長(16)の外側との間に、か
なりの流れ横断面積の環状隙間(7)をつくり出す。す
ると今やインジェクタ(3゜21.4)はバイパス導管
(15)によって本質的に“短絡”されるので、インジ
ェクタの両端間の圧力差は不充分となり、不還弁(11
)の闇値圧力に抗して洗滌剤の吸引を起させるのに充分
な流速をもった流れをインジェクタを通って生ぜしめる
ことはできなくなる。不還弁は球とばね型とするのが好
ましい。インジェクタはかくして不作用となり、単に水
のごとき純粋な洗滌流体のみが高圧の供給Mから開いて
いる一つの出口ノズルCに送られ、かつそこから水洗目
的に適した高速ジェットとして流出するであろう。
合同様にもう一つの他の出口ノズルCが開くと、ハウジ
ング入口(18)の上流の導管(図示せず)の流れ抵抗
はハウジングの孔(20)の内部圧力に降下を生ずるの
に充分とるので、ばね(6)の力は弁ピストン(2)に
作用する圧力差に打ち勝つのに充分となりそしてピスト
ンを下流の方向へと第2図示の中間位置まで或距離動か
す。この位置において、該環状隙間(7)の流横断面積
は減少し、ハウジング孔(20)の下流端内の圧力に更
に降下を生ずるが、上流端には生ぜず、この絞られた隙
間は中間に横たわっている。弁ピストン(2)に作用す
る圧力は、反対方向となり、即ち下流の方向に作用し、
そしてピストン(2)ばばね(6)に助けられないで第
3図示の端の位置へと更に動き、この位置において、環
状隙間(7)は相互に係合するインジェクタ入口ノズル
(3)とピストン(2)のそれぞれの弁表面(13)及
び(14)により完全に閉じられ、かくしてインジェク
タ(3,21,4)を通る全流量を拘束する。今や出口
(19)から出て行き従って該2つの出口ノズルCの両
方から流出する流体は、水のごとき洗滌流体と、洗滌剤
リザーバ(図示せず)から入口導管(22)、側方入口
(5)及び不還弁(11)を通ってインジェクタ(3,
21,4)により吸引されて加えられた清浄剤又は表面
活性剤のごとき洗滌剤とより成る。出口ノズルCへの入
口の圧力は今や比較的低いので、洗滌流体と洗滌剤の混
合物は、洗滌及び/又はごしごしこする目的に適した比
較的低い速度で流出する。
第1〜3図示の実施例においては、インジェクタ(3,
21,4)の上流への延長(16)は比較的短く、かく
して第1図示の高圧水洗位置においては環状隙間(7)
に、かなり大きい流れ横断面積を残すので、この隙間を
横切る圧力降下は小さい。これは、上述の圧力範囲即ち
5と10バール以上の間で流体を吐出している低圧供給
Mを使用しているときは有利である。何故ならばこの場
所に高い圧力降下ができると二つの有効直径d工及びd
2の差により生ずる圧力差の効果を害することができる
からである。しかしながら第4及び5図示の供給Sによ
り吐出されるごとき約160バール以上の範囲の一層高
い供給圧力においては、この位置において該隙間(7)
により小さい流れ横断面積を与えることが便宜であるが
、何故ならばこれは第2図示の位置に対応する中間位置
(図示せず)から第5図示の終端位置への転移を容易と
する恒久的ではあるが小さい圧力差を保証するからであ
る。第4及び5図示の環状隙間(7′)における減少し
た流れ横断面積は軸方向長さを延長した上流への延長(
16’)を使用することにより達成される。環状隙間(
7)又は(7′)の寸法はピストン通路(17)の下流
端の内側直径及び/又は上流への延長(16)又は(1
6’)又はその一部の外側直径を変更することによって
変化することもできる。
第6及び7図示の実施例においては、ピストン(2)の
上の二つの部分の有効直径d1及びd2の差は、ハウジ
ング入口(1B’)をハウジング孔(20’)に対して
横方向に配置しかつピストン(2)の、減少した直径の
延長(2日)をハウジング(1)の端壁の開口(29)
を通って延長させることにより増加され、上記開口(2
9)及び減少した直径の延長(28)はそれぞれシール
(30)により密封される。穴(31)は流体を入口(
18’)からピストン通路(17’)へ通過させる。第
6及び7図示の実施例は、15から20バ一ル以上のご
とき比較的低圧で流体を吐出している供給Mを用いる用
途に特に適して居り、そしてピストン延長(28)の突
出端がピストン(2・)の位置、即ち該隙間(7)が開
いているか閉じているかを目視的に指示するのに使用で
きるという追加の利益を与える。
第1.4及び6図から判るごとく、インジェクタ(3,
21,4)の側方入口(21)と直接連通している洗滌
剤の量は、側方入口導管(22)の容積及び側方入口(
21)そのものの容積により制限される。不還弁(11
)がこれらの空間への洗滌剤の流入を防止し、かつイン
ジェクタ(3,21,4)はバイパス導管(15)によ
り「短絡」されているので、水洗流体の流れの中へ運び
込まれる洗滌剤の量は仮りに認め得るとしても極端に小
さい。この効果は、バイパス導管(15)は環状隙間(
7)又は(7′)に連続して延び、上記隙間は下流の方
向へと末広がりとなって居るので、隙間(7)とバイパ
ス導管(15)より成る組合せ流路は水洗流体の流れに
対して比較的小さい抵抗を示すという事実によって強め
られる。
本発明の特許請求の範囲の各項に規定した範囲を逸脱す
ることなく、上述し図面に示した実施例に対して多数の
変形をなし得る。かくして、インジェクタ入口ノズル(
3)の入口端及びインジェクタの出口ノズル(4)の出
口端とを、水洗モードで使用するとき如何なる洗滌剤も
系の中へ流れ込まないよう完全に防止するために、不還
弁のとと(、ばね負荷弁を嵌装することもできる。かか
る弁は勿論、インジェクタ(3,21,4)の正常な動
作を保証するため充分低い闇値圧力において開くような
寸法としなければならない。
本発明に係る吸引−転移弁の各種構成部品に使用する材
料は、当業者が周知の方法で選定する如きものとし、堅
牢な部品には黄銅又はステンレススチールの如きものと
し、シール類には合成ゴムとし、ばね(6)及び不還弁
(11)及び上に引用したばね負荷弁におけるごとき任
急の弁ばね(図示せず)にはばね鋼としてよい。
上述した供給M及びSに使用する吐出圧力は問題のユニ
ットの所謂「循環圧力」であることを注意すべきである
。ここに参照する種類のユニットの「循環圧力」とは該
ユニットの出口が塞がれて、ポンプが依然運転している
間ユニット内部を流体が循環するとき、このユニットの
出口において測定される圧力のことである。流体が吐出
されているときの有効吐出圧力は、かかるユニットに使
用される自動制御装置の性質のため、上記循環圧力より
高くも低くもなるが、高い方が好ましい。吐出圧力より
低い「循環圧力」は、勿論ユニットが閉鎖システムに対
して動作しているときはエネルギ節約となる。何故なら
ば、圧力降下に抗して流体を汲みあげる際喪失する出力
はより少ないであろうからである。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明に係る自動吸引−転移弁の一実施例の洗
滌剤のない高圧水洗モードにあるものの縦断面図、第2
図は2つの作用モードの間の中間位置にあるものの第1
図と同様な縦断面図、第3図は洗滌流体に洗滌剤を加え
た低圧洗滌モードにある、第1.2図と同様な縦断面図
、第4及び5図は本発明に係る自動吸引−転移弁の第2
の実施例の、それぞれ高圧水洗モード及び低圧洗滌モー
ドにあるものの第1〜3図と同様な縦断面図、そして第
6及び7図は本発明に係る自動吸引−転移弁の第3の実
施例の、それぞれ高圧水洗モード及び低圧洗滌モードに
あるものの縦断面図である。 (1ンはハウジング、(2)は弁ピストン、(3)はジ
ェット入口ノズル、(4)はジェット出口ノズル、(5
)は側方入口、(6)はばね、[7)、  (7’)は
弁隙間、(11)は不還弁、(15)はバイパス導管、
(16) 、  (16’)は上流への延長、(17)
は通路、(18) 、  (18’)は入口、(19)
は出口、(20) 、  (20’)はハウジング孔、
(21)はインジェクタ側方入口、(22)は導管、(
28)は減少−直径延長、(M)、  (S)は流体供
給、(B)はガン、(c)は洗滌ノズルである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、a)第1入口(18)及び出口(19)を備えたハ
    ウジング(1)、 b)上記第1入口(18)及び上記出口(19)の間に
    あってこれらを連通しかつ上記ハウジング(1)の外側
    にある第2入口(5)と連通している側方入口(21)
    をもっているインジェクタ(3、4) c)上記第1入口(18)と上記インジェクタ(3、4
    )の間にありかつこれらと連通しているハウジング孔(
    20)、及び d)両端を相互連結している通路(17)、上記ハウジ
    ング入口(18)と連通している上方端、及び上記イン
    ジェクタ(3、4)の入口ノズル(3)と連通している
    上流端を備えた弁ピストン(2)であって、上記ピスト
    ン(2)は上流に面する表面と下流に面する表面の間の
    圧力差の変動の影響を受けて第1位置:最も上流の位置
    (第1、4及び6図)と第2位置:最も下流の位置(第
    3、5及び7図)の間を摺動自在であり、該第1位置に
    おいては上記ピストン通路(17)の下流端が、該ピス
    トン(2)の下流端と上記インジェクタ入口ノズル(3
    )の上流への延長(16、16′)の間に開いている弁
    隙間(7、7′)を通って上記ハウジング出口(19)
    に至るバイパス導管(15)に連通し、そして該第2位
    置においては上記弁隙間(7、7′)は上記上流への延
    長(16、16′)と係合している上記ピストン(2)
    の下流端により閉じられているような弁ピストン(2)
    を有する自動吸引−転移弁において、 e)上記インジェクタ(3、4)の上記側方入口(21
    )と上記ハウジング側方入口(5)の間の連結が上記バ
    イパス導管(15)から分離している少なくとも一つの
    導管(22)により構成されていることを 特徴とする自動吸引−転移弁。 2、上記ピストン(2)の下流端と上記インジェクタ入
    口ノズル(3)の上記上流への延長(16、16′)が
    、一つが他の中へ入り込みうるごとく相互に形状を与え
    て上記弁隙間(7、7′)を形成している特許請求の範
    囲第1項記載の自動吸引−転移弁。 3、上記ハウジング孔(20)と上記上流への延長(1
    6、16′)を備えている上記インジェクタ(3、4)
    が相互に本質的に同軸上にあり、 a)上記ピストン(2)の上記下流端と上記インジェク
    タ入口ノズル(3)の上記上流への延長(16、16′
    )が、上記ピストン通路(17)の下流端の中へ入り込
    みうるごとく相互に形状を与えられるので、開かれたと
    きに形成される上記弁隙間(7、7′)が下流への方向
    に末広がりとなって居り、そして b)上記バイパス導管(15)が上記ハウジング出口(
    19)の方へ一般に上記弁隙間(7、7′)と連続して
    伸びている 特許請求の範囲第1項記載の自動吸引−転移弁。 4、上記ピストン(2)に軸方向に力を及ぼしているば
    ね(6)を有し、上記ばね(6)は上記第1位置:最も
    上流の位置から上記第2位置:最も下流の位置へ向う方
    向に上記ピストン(2)に力を及ぼすようになっている
    特許請求の範囲第1〜第3項のいずれか1項に記載の自
    動吸引−転移弁。 5、上記ばね(6)が上記ピストンに上記方向において
    、上記第1位置から上記第2位置までの運動の可能な行
    程の最初の部分の間だけ力を及ぼすようになっている特
    許請求の範囲第4項記載の自動吸引−転移弁。 6、上記ピストン(2)に力を及ぼしているばね(6)
    を有し、上記ばね(6)が上記ピストン(2)の外側で
    上記ハウジング孔(20)の内側に置かれている特許請
    求の範囲第1〜5項のいずれか1項に記載の自動吸引−
    転移弁。 7、低圧での洗滌及び高圧ジェット清掃を交互に行う洗
    滌装置であって a)高圧の洗滌流体供給(M、S)、 b)低圧での洗滌の間上記洗滌流体に混合すべき洗滌剤
    の供給((5)において)、 c)自動吸引−転移弁であって、 (イ)第1入口(18)及び出口(19)を備えたハウ
    ジング(1)、 (ロ)上記第1入口(18)及び上記出口(19)の間
    にあってこれらを連通しかつ上記ハウジング(1)の外
    側にある第2入口(5)と連通している側方入口(21
    )をもっているインジェクタ(3、4)、 (ハ)上記第1入口(18)と上記インジェクタ(3、
    4)の間にありかつこれらと連通しているハウジング孔
    (20)、及び (ニ)両端を相互連結している通路(17)、上記ハウ
    ジング入口(18)と連通している上方端、及び上記イ
    ンジェクタ(3、4)の入口ノズル(3)と連通してい
    る上流端を備えた弁ピストン(2)であって、上記ピス
    トン(2)は上流に面する表面と下流に面する表面の間
    の圧力差の変動の影響を受けて第1位置:最も上流の位
    置(第1、4及び6図)と第2位置:最も下流の位置(
    第3、5及び7図)の間を摺動自在であり、該第1位置
    においては上記ピストン通路(17)の下流端が、該ピ
    ストン(2)の下流端と上記インジェクタ入口ノズル(
    3)の上流の延長(16、16′)の間に開いている弁
    隙間(7、7′)を通って上記ハウジング出口(19)
    に至るバイパス導管(15)に連通し、そして該第2位
    置においては上記弁隙間(7、7′)は上記上流への延
    長(16、16′)と係合している上記ピストン(2)
    の下流端により閉じられているような弁ピストン(2)
    を有する自動吸引−転移弁、 d)上記供給より上記自動吸引−転移弁を通って供給さ
    れる流体に使用する少なくとも一つの出口ノズル(c)
    を有するガン(B、C)であって、上記ガンは動作を制
    御するため上記自動吸引−転移弁の出口内の圧力を下げ
    るために流れ横断面積を増加する手段を有するようなガ
    ン、 を有する洗滌装置において、 e)上記自動吸引−転移弁の上記インジェクタ(3、4
    )の上記側方入口(21)と上記ハウジング側方入口(
    5)の間の連結が上記バイパス導管(15)から分離し
    ている少なくとも一つの導管(22)により構成されて
    いること、f)上記ガン(B、C)が1つ以上のノズル
    (c)を有しかつ上記弁を制御するため流れ横断面積の
    必要な変更を行うために、より少ない数のノズル又はよ
    り多い数のノズルを交互にかつ手動で上記弁の出口へ連
    結するようにされている ことを特徴とする洗滌装置。 8、上記、より少ない数が1つである特許請求の範囲第
    7項記載の洗滌装置。 9、上記、より多い数が2つである特許請求の範囲第7
    項記載の洗滌装置。
JP61157762A 1985-07-05 1986-07-04 自動吸引−転移弁及びこれを使用した洗滌装置 Pending JPS6226400A (ja)

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DK155872C (da) 1989-10-30
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EP0207501B1 (en) 1991-06-05
EP0207501A2 (en) 1987-01-07
DK155872B (da) 1989-05-29
ATE64183T1 (de) 1991-06-15
NO862677D0 (no) 1986-07-02
US4726526A (en) 1988-02-23
DK310385D0 (da) 1985-07-05
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