JPS62259467A - カラ−イメ−ジセンサ - Google Patents
カラ−イメ−ジセンサInfo
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- JPS62259467A JPS62259467A JP61102513A JP10251386A JPS62259467A JP S62259467 A JPS62259467 A JP S62259467A JP 61102513 A JP61102513 A JP 61102513A JP 10251386 A JP10251386 A JP 10251386A JP S62259467 A JPS62259467 A JP S62259467A
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- Japan
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- polyimide
- image sensor
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- passivation film
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Landscapes
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- Facsimile Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明け、カラーイメージセンサに関するものである。
一次元密着型イメージセンサは、原稿と同一サイズのセ
ンナ長を持つので、ファクシミリやイメージスキャナの
小型化、低価格化に犬老く寄与する之め、近年その開発
が活発化している。この−次元密着イメージセンナの力
→−化?考えるとき基本的にカラーフィルターの配列疋
け2通りの方法がある。1つは色分解の方向を主走査方
向に行5もので゛、第4図に示すようK、主走査方向に
沿っに、レッドの)、グリーン(()) 、 ブルー
(B)のフィルターシ周期的に並べろものである。もう
1つは、色分解の方向を副走査方向に行うもので、第2
図に示すように、R,G、Bそれぞれのフィルタに対応
し次センサ7レイを独立に3列も5けるものである。色
分解の方向を主走査方向に行へ場合、センサアレイは1
列ですむという利点はあるが、モノクロのセンサと等し
い分解能を得ろためにけ実質的に両紫数な3倍にしなく
てはならず、この結果画素面積hS小さくなり、光出力
が小さくなるので、 R/N比h′−低下するといへ間
暉がある。この理由から、色分解は副走査方向て行5こ
とが望ましい。この場合、カラーフィルターの形成方法
としに、従来は屓2図の一戸鎖線A A’部の断面図で
ある第3図に示すように、光電!換素子部の上をおお5
透明パシベーシヨン嘩上に、R,G、BK対応するカラ
ーフィルターを形灰する構造が者寓されてい皮。
ンナ長を持つので、ファクシミリやイメージスキャナの
小型化、低価格化に犬老く寄与する之め、近年その開発
が活発化している。この−次元密着イメージセンナの力
→−化?考えるとき基本的にカラーフィルターの配列疋
け2通りの方法がある。1つは色分解の方向を主走査方
向に行5もので゛、第4図に示すようK、主走査方向に
沿っに、レッドの)、グリーン(()) 、 ブルー
(B)のフィルターシ周期的に並べろものである。もう
1つは、色分解の方向を副走査方向に行うもので、第2
図に示すように、R,G、Bそれぞれのフィルタに対応
し次センサ7レイを独立に3列も5けるものである。色
分解の方向を主走査方向に行へ場合、センサアレイは1
列ですむという利点はあるが、モノクロのセンサと等し
い分解能を得ろためにけ実質的に両紫数な3倍にしなく
てはならず、この結果画素面積hS小さくなり、光出力
が小さくなるので、 R/N比h′−低下するといへ間
暉がある。この理由から、色分解は副走査方向て行5こ
とが望ましい。この場合、カラーフィルターの形成方法
としに、従来は屓2図の一戸鎖線A A’部の断面図で
ある第3図に示すように、光電!換素子部の上をおお5
透明パシベーシヨン嘩上に、R,G、BK対応するカラ
ーフィルターを形灰する構造が者寓されてい皮。
一方1軍16回固体素子コンファレンス論文集(198
4) P、 555に示すように、光電変換素子と、こ
れ?駆動する走査回路とを同一の石英基板上に集積化し
次密着イメージセンナh;開発されている。
4) P、 555に示すように、光電変換素子と、こ
れ?駆動する走査回路とを同一の石英基板上に集積化し
次密着イメージセンナh;開発されている。
この技術では、1つの石英基板上に多数の密着イメージ
センサな同時に作り込めると層う利点がある。
センサな同時に作り込めると層う利点がある。
この利点な最大限に生かすため、1つの密着イメージセ
ンサの副走査方向の属人をで鎗るだけ小さくする(多数
のイメージセンナを作り込む)必要がある。副走査方向
の厚みを小さくするた、めてけ、走査回路部と光を實換
素子部の両方を副走査方向に対しに、縮める必要h;あ
るのだb;+走査回路部は、性卵上の制約から、ディメ
ンジョンの自由度は小さい。そこで光電qj4素子部を
縮める必要h;出てくる。即ち、第3図のlシ小さくと
る必要hsある。しかり、tを小さくとり過キ゛ろと、
透明バシペーショ゛/嘩上にカラーフィルタをlに成す
る構造をとっているため、透明パシベーション膜を通し
て隣接している色フィルターから光がもれてきて1色分
離性が悪くなる。
ンサの副走査方向の属人をで鎗るだけ小さくする(多数
のイメージセンナを作り込む)必要がある。副走査方向
の厚みを小さくするた、めてけ、走査回路部と光を實換
素子部の両方を副走査方向に対しに、縮める必要h;あ
るのだb;+走査回路部は、性卵上の制約から、ディメ
ンジョンの自由度は小さい。そこで光電qj4素子部を
縮める必要h;出てくる。即ち、第3図のlシ小さくと
る必要hsある。しかり、tを小さくとり過キ゛ろと、
透明バシペーショ゛/嘩上にカラーフィルタをlに成す
る構造をとっているため、透明パシベーション膜を通し
て隣接している色フィルターから光がもれてきて1色分
離性が悪くなる。
また、透明パシベーション噂の嗅厚ばらつきh;大鎗ぐ
なると、各光’Kg換素子と力→−フィルタとの距離め
;ばらつき、結果として各画素の開口率のばらつtにも
なるため、画票毎の出力め;均一;(ならず、ホワイト
バうンスb′−とりにくくなる、更に、透明パシベーシ
ョン噂の透過率は、可視光の波長域で100冬近くを保
証しなくてはならなす、このためパシベーション膜の選
択の@f1″−著しく制限されろ。
なると、各光’Kg換素子と力→−フィルタとの距離め
;ばらつき、結果として各画素の開口率のばらつtにも
なるため、画票毎の出力め;均一;(ならず、ホワイト
バうンスb′−とりにくくなる、更に、透明パシベーシ
ョン噂の透過率は、可視光の波長域で100冬近くを保
証しなくてはならなす、このためパシベーション膜の選
択の@f1″−著しく制限されろ。
従来の力→−イメージセッサは以上のような問題点を有
していた。本発明は以上の問題姿を解決するもので、そ
の目的は、色分離性htよく、ホワイトバランスがとり
やすく、かつ透明でないパシベーション噂を使えるよう
な、カラーフィルターの形成構造な提(#することにあ
る。
していた。本発明は以上の問題姿を解決するもので、そ
の目的は、色分離性htよく、ホワイトバランスがとり
やすく、かつ透明でないパシベーション噂を使えるよう
な、カラーフィルターの形成構造な提(#することにあ
る。
本発明のカラーイメージセンサは、絶縁基板上に、光電
変換素子と該光1!変換素子な駆動する走査回路を有す
るカラーイメージセンサにおいて。
変換素子と該光1!変換素子な駆動する走査回路を有す
るカラーイメージセンサにおいて。
光電f*素子上のパシベーション嗅に開口部なもうけ、
該開口部にカラーフィルターを形成し7たことを特徴と
する。
該開口部にカラーフィルターを形成し7たことを特徴と
する。
第1図に本発明のカラーイメージセンサの実施例を示す
。1h;走査回路部、2 hs光’tf俟素子艮3パバ
シベーション膜% 4h′−カラーフィルター、5 /
1SSiO,噂である。以下、実施例な製造工程を追っ
て説明する。
。1h;走査回路部、2 hs光’tf俟素子艮3パバ
シベーション膜% 4h′−カラーフィルター、5 /
1SSiO,噂である。以下、実施例な製造工程を追っ
て説明する。
まず、絶縁基板である石英基板上に、多結晶シ++コン
薄噂トランジスタから成る走査回路部1を作る。この後
、非晶質シリコンから成ろ光電変換素子部2を作る。こ
の−Hにパシベーションqg 3を形成する。バシベー
シ1ン膜は、有機樹晰系のポリイミド(東し■製 フォ
トニース、LP−54、デュポン@製 Pニー2566
、 PI−2555,E58680−6など)を用いる
。ポリイミドを用いる場合。
薄噂トランジスタから成る走査回路部1を作る。この後
、非晶質シリコンから成ろ光電変換素子部2を作る。こ
の−Hにパシベーションqg 3を形成する。バシベー
シ1ン膜は、有機樹晰系のポリイミド(東し■製 フォ
トニース、LP−54、デュポン@製 Pニー2566
、 PI−2555,E58680−6など)を用いる
。ポリイミドを用いる場合。
ポリイミド原液を専用の希釈液で適切な濃1yに希釈し
、スピンコード(2500〜3000 r7>m )す
ればfVJの厚み(0,2〜2.0μm)のポリイミド
層内;形成され、これを200℃〜250’Cの窒素雰
囲気中で約60分間−P)アすると、ポリイミド薄、W
Aが得られる。この上にレジストff形成しに、CF4
+02ガスプラズマ中でエツチングしに、光電変換素子
上のポリイミド開口部(図1のカラーフィルター4の位
1t)&作る。之だし、東し■製フォトニースを用いろ
場合は、フォトニースが感光性なので、レンスト形成の
必要はなく、フォトニース塗布後、紫外線露光し専用の
現俊液な用いれば希望するバタンが得られろ。こうして
作成17たポリイミド開口部の犬弾さけ、約100μm
X100μmである。この上にSi 02薄噂5をスパ
ッタ法で2000〜6000 ’A成膜する。このRi
Oxをスパッタする目的は、力う一フィルタの染料中
Ktまれる不純物やイオンが光電変換素子に浸入し、リ
ーク電流な増加させるのを防ぐためと、イメージセンナ
全体の耐湿性を向上させる之めである。最後に透明ゼラ
チン模をフォトリソグラフィーでf$1図4の位置にバ
タン形αし、R,G、Bそれぞれの染料で着色してカラ
ーフィルタな作り完成となる。場合によってはこの上に
更に透明パシベーション膿を形成し、耐環境特性を上げ
ることもできる。
、スピンコード(2500〜3000 r7>m )す
ればfVJの厚み(0,2〜2.0μm)のポリイミド
層内;形成され、これを200℃〜250’Cの窒素雰
囲気中で約60分間−P)アすると、ポリイミド薄、W
Aが得られる。この上にレジストff形成しに、CF4
+02ガスプラズマ中でエツチングしに、光電変換素子
上のポリイミド開口部(図1のカラーフィルター4の位
1t)&作る。之だし、東し■製フォトニースを用いろ
場合は、フォトニースが感光性なので、レンスト形成の
必要はなく、フォトニース塗布後、紫外線露光し専用の
現俊液な用いれば希望するバタンが得られろ。こうして
作成17たポリイミド開口部の犬弾さけ、約100μm
X100μmである。この上にSi 02薄噂5をスパ
ッタ法で2000〜6000 ’A成膜する。このRi
Oxをスパッタする目的は、力う一フィルタの染料中
Ktまれる不純物やイオンが光電変換素子に浸入し、リ
ーク電流な増加させるのを防ぐためと、イメージセンナ
全体の耐湿性を向上させる之めである。最後に透明ゼラ
チン模をフォトリソグラフィーでf$1図4の位置にバ
タン形αし、R,G、Bそれぞれの染料で着色してカラ
ーフィルタな作り完成となる。場合によってはこの上に
更に透明パシベーション膿を形成し、耐環境特性を上げ
ることもできる。
以上の工程かられかるように、パシベーション膜3に用
いるポリイミド樹脂は、透明である必要は全くなく、ど
んな種類のものでも使えるhS、むしろ色分離性のよさ
から考えると不透明のものh’−望ましい。バシペーシ
璽ン膜に不透明なものを使えれば、第3図のtけ。原理
的に光電変換素子の画7の大きさと、バタン精度の許す
限り小さくすることができろ。しかし、現実にけパシベ
ーション噂として用いるポリイミド模rriもろ稈度光
を透過するものが多いので自ずとtの大弾さけ制限され
る。それでもパシベーションに透明なものを用いなくて
はrfらなかった従来例に比較すれば、例えば、東し■
製7オトニースvR−3600 (波長500nmけ近
の光だけを透過する)をパシベーション膜3に用いろと
1合分離性は格段に改善され、従来tの値を150μm
以下(Cすることh;難しかったものht、11oμm
までは小さくできるよってな引しこの次め、1本のイメ
ージセンサチップでは、第3図かられかるようだ、40
μm、 X 2 = 80μmだけ幅を狭くできる。1
枚の石英基板から従来50本とれていtものh″−1本
発明により52木までけとれるよ5になっ之。この数字
からは、1枚の基板だけでは効果がうすいように思える
fl”−、量産時には犬ぎなコスト低減が可能となる。
いるポリイミド樹脂は、透明である必要は全くなく、ど
んな種類のものでも使えるhS、むしろ色分離性のよさ
から考えると不透明のものh’−望ましい。バシペーシ
璽ン膜に不透明なものを使えれば、第3図のtけ。原理
的に光電変換素子の画7の大きさと、バタン精度の許す
限り小さくすることができろ。しかし、現実にけパシベ
ーション噂として用いるポリイミド模rriもろ稈度光
を透過するものが多いので自ずとtの大弾さけ制限され
る。それでもパシベーションに透明なものを用いなくて
はrfらなかった従来例に比較すれば、例えば、東し■
製7オトニースvR−3600 (波長500nmけ近
の光だけを透過する)をパシベーション膜3に用いろと
1合分離性は格段に改善され、従来tの値を150μm
以下(Cすることh;難しかったものht、11oμm
までは小さくできるよってな引しこの次め、1本のイメ
ージセンサチップでは、第3図かられかるようだ、40
μm、 X 2 = 80μmだけ幅を狭くできる。1
枚の石英基板から従来50本とれていtものh″−1本
発明により52木までけとれるよ5になっ之。この数字
からは、1枚の基板だけでは効果がうすいように思える
fl”−、量産時には犬ぎなコスト低減が可能となる。
さらに、本発明のカラーイメージセンサは、光電変換素
子上に8i03だけf?−通してカラーフィルターht
接しているので、バクシベーション膜の膜厚ばらつきh
t、光電変換素子の画素開口面積に影響を与えろことも
なく、ホワイパ→ンスもとり中すい。
子上に8i03だけf?−通してカラーフィルターht
接しているので、バクシベーション膜の膜厚ばらつきh
t、光電変換素子の画素開口面積に影響を与えろことも
なく、ホワイパ→ンスもとり中すい。
また、ポリイミドは元来含水性があり、その之めに従来
はイメージセンナ全体の耐湿性がなかったh;、SiO
□嘆5をスパッタしたことにより耐湿性も向上し次。
はイメージセンナ全体の耐湿性がなかったh;、SiO
□嘆5をスパッタしたことにより耐湿性も向上し次。
以上のことから本発明の力、=イメージセンナによれば
、色分離性を向上させ、ホワイトバランスht容易にと
れ、透明でないパシベーション膜も使え、かつ耐湿性も
向上させることh″−できる。
、色分離性を向上させ、ホワイトバランスht容易にと
れ、透明でないパシベーション膜も使え、かつ耐湿性も
向上させることh″−できる。
また、カラーイメージセンサ製造工程の歩留まりを向上
させろことhSでき、コスト低減に多大な効果を有i石
。
させろことhSでき、コスト低減に多大な効果を有i石
。
第1図は、本発明のカラーイメージセンサの断面図(N
12図のA A’に相当)。 第2図は、カラーイメージセンサの光電変換素子部上面
図(本発明例、従来例、共に同じ)。 第3図は、従来の力巧−イメージセンサの断面図(第2
図のA A’に相当)。 第4図は、色分解を主走査方向て行うカラーイメージセ
ンサの光を変換素子部上面図。 1・・・・・・走査回路部 2・・・・・・光11L変換素子部 3・・・・・・パシベーション膜 4・・曲カー7−フィルター 5 ・・・・・・ pio□噂 10・・・・・・主走査方向な示す矢印11・・・・・
・副走査方向な示す矢印301・・・・・・透明ハシベ
ージラン膜以 上
12図のA A’に相当)。 第2図は、カラーイメージセンサの光電変換素子部上面
図(本発明例、従来例、共に同じ)。 第3図は、従来の力巧−イメージセンサの断面図(第2
図のA A’に相当)。 第4図は、色分解を主走査方向て行うカラーイメージセ
ンサの光を変換素子部上面図。 1・・・・・・走査回路部 2・・・・・・光11L変換素子部 3・・・・・・パシベーション膜 4・・曲カー7−フィルター 5 ・・・・・・ pio□噂 10・・・・・・主走査方向な示す矢印11・・・・・
・副走査方向な示す矢印301・・・・・・透明ハシベ
ージラン膜以 上
Claims (2)
- (1)絶縁基板上に、光電変換素子と該光電変換素子上
に形成したパシベーション膜及びカラーフィルターと、
該光電変換素子を駆動する走査回路を有するカラーイメ
ージセンサにおいて、光電変換素子上のパシベーション
膜に開口部をもうけ、該開口部にカラーフィルターを形
成したことを特徴とするカラーイメージセンサ。 - (2)パシベーション膜上、およびパシベーション膜開
口部中にSiO_2膜を形成したことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のカラーイメージセンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61102513A JPS62259467A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | カラ−イメ−ジセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61102513A JPS62259467A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | カラ−イメ−ジセンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62259467A true JPS62259467A (ja) | 1987-11-11 |
Family
ID=14329451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61102513A Pending JPS62259467A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | カラ−イメ−ジセンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62259467A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0669486A (ja) * | 1991-11-06 | 1994-03-11 | Gold Star Co Ltd | カラーコンタクトイメージセンサー及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-05-02 JP JP61102513A patent/JPS62259467A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0669486A (ja) * | 1991-11-06 | 1994-03-11 | Gold Star Co Ltd | カラーコンタクトイメージセンサー及びその製造方法 |
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