JPS62258414A - 精密複写用投影光学系 - Google Patents
精密複写用投影光学系Info
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- JPS62258414A JPS62258414A JP10233686A JP10233686A JPS62258414A JP S62258414 A JPS62258414 A JP S62258414A JP 10233686 A JP10233686 A JP 10233686A JP 10233686 A JP10233686 A JP 10233686A JP S62258414 A JPS62258414 A JP S62258414A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 99
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 29
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 abstract description 9
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 8
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３ ・
産業上の利用分野
本発明は、紫外光、遠紫外光などの極短波長に用いるの
に適する精密複写用投影光学系に関するものである。
に適する精密複写用投影光学系に関するものである。
従来の技術
従来の精密複写用投影光学系としては、例えば、特公昭
５７−１２９６６号公報に示されているようにレンズに
よる屈折系から成るもの、特開昭５５−１７１．９６号
公報に示されているように反射系から成るものが知られ
ている。
５７−１２９６６号公報に示されているようにレンズに
よる屈折系から成るもの、特開昭５５−１７１．９６号
公報に示されているように反射系から成るものが知られ
ている。
以下、図面を参照しながら従来の精密複写用投影光学系
について説明する。
について説明する。
第５図に示すように屈折系のみから成る光学系において
は、光学ガラス０及び光学結晶材Ｏから成る複数枚のレ
ンズが用いられ、像倍率はｌ／１０の縮小系である。
は、光学ガラス０及び光学結晶材Ｏから成る複数枚のレ
ンズが用いられ、像倍率はｌ／１０の縮小系である。
第６図に示すように反射系を用いた複写用投影光学系に
おいては、物体Ｏから出た光線が主鏡１００、副鏡１０
１、主鏡１００の順に反射され、物体Ｏと同一平面上に
１／１の等倍の像■を形成する構成となっており、物体
側、像側共に主光線か光軸に対して平行となる両側テレ
セントＩＪツク光学系となっている。
おいては、物体Ｏから出た光線が主鏡１００、副鏡１０
１、主鏡１００の順に反射され、物体Ｏと同一平面上に
１／１の等倍の像■を形成する構成となっており、物体
側、像側共に主光線か光軸に対して平行となる両側テレ
セントＩＪツク光学系となっている。
発明が解決しようとする問題点
しかし前者においては、光学ガラスＧにショット社製の
Ｕ Ｂ Ｋ ７のように特に紫外域の波長用に調質され
たガラスを用いても、波長が２８０ｎｍでは透過率が２
３％（硝材環５ｍｍの場合）と極端に低下する。一方、
光学結晶材Ｏの内、ＦｉＦ２、ＣａＦ ２ 、Ｋ、Ｃ１
合成水晶のように２０（ｂｍ付近の波長においても約８
０％の透過率が得られるものがあるが、一般的に大型の
結晶材の入手が困難であり、加工性が非常に悪く、高精
度の加工が難しい。また種類が限られるため、設計の自
由度が小さくなる。そのため紫外域、あるいは遠紫外域
の波長においては、透過率を確保するために限られた枚
数で口径比の小さい光学系を実現しようとすると、十分
な収差補正を行うことができず、屈折材料のみにより光
学系を構成するのは、著しく困難となる。
Ｕ Ｂ Ｋ ７のように特に紫外域の波長用に調質され
たガラスを用いても、波長が２８０ｎｍでは透過率が２
３％（硝材環５ｍｍの場合）と極端に低下する。一方、
光学結晶材Ｏの内、ＦｉＦ２、ＣａＦ ２ 、Ｋ、Ｃ１
合成水晶のように２０（ｂｍ付近の波長においても約８
０％の透過率が得られるものがあるが、一般的に大型の
結晶材の入手が困難であり、加工性が非常に悪く、高精
度の加工が難しい。また種類が限られるため、設計の自
由度が小さくなる。そのため紫外域、あるいは遠紫外域
の波長においては、透過率を確保するために限られた枚
数で口径比の小さい光学系を実現しようとすると、十分
な収差補正を行うことができず、屈折材料のみにより光
学系を構成するのは、著しく困難となる。
一方後者においては、反射鏡のみで構成されて５・・
いるため、使用波長に対する制約はない。しかし主鏡１
００、副鏡１０１は物体０１像■の軸上の点Ｐに対して
同心配置となっているため、球面収差、コマ収差、歪曲
収差は良好に補正されているが、タンジェンシャル方向
の非点収差が太きぐ像面が湾曲する。そのためスリット
を用い、タンジェンシャル方向、サジタル方向の非点収
差が一致し、非点隔差がＯとなる像高にて円弧状フィー
ルドを作り、例えば半導体ウェーハ上にマスクパターン
を露光する場合には、物体Ｏとなるマスク、像面ｆとな
るウェーハを同時走査させて必要な投影フィールドを得
、無収差に近い光学系を実現している。
００、副鏡１０１は物体０１像■の軸上の点Ｐに対して
同心配置となっているため、球面収差、コマ収差、歪曲
収差は良好に補正されているが、タンジェンシャル方向
の非点収差が太きぐ像面が湾曲する。そのためスリット
を用い、タンジェンシャル方向、サジタル方向の非点収
差が一致し、非点隔差がＯとなる像高にて円弧状フィー
ルドを作り、例えば半導体ウェーハ上にマスクパターン
を露光する場合には、物体Ｏとなるマスク、像面ｆとな
るウェーハを同時走査させて必要な投影フィールドを得
、無収差に近い光学系を実現している。
しかしながらこの反射光学系を縮小光学系に構成する場
合には、第７図に示すようになり、テレセントリックを
保ったままでは、主鏡１００、主鏡１０２、副鏡１０１
の総てが同心配置とならず、すなわち主鏡１０２と副鏡
３０１をＯを中心とした同心配置とすると主鏡１００の
中心はＣ′とずれるので、軸外収差が悪化する。さらに
物体Ｏと像■が同一平面上とならないだめ、マスクとウ
ェーハを別々に走査し、しかも走査スピードをやはり像
倍率の比だけ変える必要がある。走査スピードの誤差が
投影時の像の歪となるだめ、精密に制御する必要がある
が、投影像が微細となる程、非常に困難となる。
合には、第７図に示すようになり、テレセントリックを
保ったままでは、主鏡１００、主鏡１０２、副鏡１０１
の総てが同心配置とならず、すなわち主鏡１０２と副鏡
３０１をＯを中心とした同心配置とすると主鏡１００の
中心はＣ′とずれるので、軸外収差が悪化する。さらに
物体Ｏと像■が同一平面上とならないだめ、マスクとウ
ェーハを別々に走査し、しかも走査スピードをやはり像
倍率の比だけ変える必要がある。走査スピードの誤差が
投影時の像の歪となるだめ、精密に制御する必要がある
が、投影像が微細となる程、非常に困難となる。
従って第６図に示すような反射光学系を用いて縮小光学
系を実現するのは、光学収差補正、及び機構的に問題が
ある。
系を実現するのは、光学収差補正、及び機構的に問題が
ある。
そこで本発明は、上記問題を解決するもので、光の吸収
量を極力小さく抑え、また光学収差が小さく高解像を得
ることができるようにした紫外域、遠紫外域用の精密複
写用投影光学系を提供しようとするものである。
量を極力小さく抑え、また光学収差が小さく高解像を得
ることができるようにした紫外域、遠紫外域用の精密複
写用投影光学系を提供しようとするものである。
問題点を解決するだめの手段
そして上記問題点を解決するだめの本発明の技術的手段
は、複数の屈折部材から成る屈折光学系と、基準軸を中
心に回転対称に位相補正部材と凸面鏡部材と中心に開口
を備えた凹面鏡部材とを有するカタジオプトリック光学
系とを共軸上で入射瞳を共有し、かつ屈折光学系の後側
主点とカタジオプトリック光学系の前側主点がほぼ一致
するように前記位相補正部材を境界として、物点側に屈
折光学系、像点側にカタジオプトリック光学系が位置す
るように結合され、物点から出た光か屈折光学系を屈折
されながら通過し、像点側のカタジオブトリック光学系
に入射し、位相補正板部材を通過後、凹面鏡部拐により
位度補正部材側に反射され、さらに凸面鏡部拐により位
相補正部材とは反対側に反射され、凹面鏡部材の開口を
通過し、基準軸とは直角面内で、かつ凹面鏡部材の後方
に結像するよう構成したものである。
は、複数の屈折部材から成る屈折光学系と、基準軸を中
心に回転対称に位相補正部材と凸面鏡部材と中心に開口
を備えた凹面鏡部材とを有するカタジオプトリック光学
系とを共軸上で入射瞳を共有し、かつ屈折光学系の後側
主点とカタジオプトリック光学系の前側主点がほぼ一致
するように前記位相補正部材を境界として、物点側に屈
折光学系、像点側にカタジオプトリック光学系が位置す
るように結合され、物点から出た光か屈折光学系を屈折
されながら通過し、像点側のカタジオブトリック光学系
に入射し、位相補正板部材を通過後、凹面鏡部拐により
位度補正部材側に反射され、さらに凸面鏡部拐により位
相補正部材とは反対側に反射され、凹面鏡部材の開口を
通過し、基準軸とは直角面内で、かつ凹面鏡部材の後方
に結像するよう構成したものである。
作用
上記技術的手段による作用は次のようになる。
すなわち、被投影物体を物点側の屈折光学系の焦平面上
に置き被投影物体から出る光を物点側の屈折光学系によ
り一旦平行光となし、像点側のカタジオプトリック光学
系により集光し、像形成を行うので、物点側の屈折光学
系は一種のアフォーカルコンバータとしての働きをなし
、有限距離におかれた被投影物体からの光線の像点側力
タジオプトリック光学系への入射角を小さく抑えること
ができ、軸外の光学収差の発生量を低減することができ
る。
に置き被投影物体から出る光を物点側の屈折光学系によ
り一旦平行光となし、像点側のカタジオプトリック光学
系により集光し、像形成を行うので、物点側の屈折光学
系は一種のアフォーカルコンバータとしての働きをなし
、有限距離におかれた被投影物体からの光線の像点側力
タジオプトリック光学系への入射角を小さく抑えること
ができ、軸外の光学収差の発生量を低減することができ
る。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第１図は本発明の第１実施例における精密複写用投影光
学系を示す全体断面図である。
学系を示す全体断面図である。
各々合成石英から成る凸レンズ１、凹レンズ２、凸レン
ズ３、凸レンズ４により物点側の屈折光学系■が構成さ
れており、被投影物体１は、屈折光学系Ｉの焦平面Ｆ土
に置かれる。
ズ３、凸レンズ４により物点側の屈折光学系■が構成さ
れており、被投影物体１は、屈折光学系Ｉの焦平面Ｆ土
に置かれる。
一方力タジオブトＩＪツク光学系ＩＩは位相補正板５、
中心に開口を備えた凹面鏡６及び凸面鏡７により構成さ
れている。この方タジオグトリック光学系ＩＩは被投影
物体１に対し位相補正板５、凸面鏡６、凹面鏡５の順で
配置されている。これら屈折光学系Ｉとカタジオプ）
ＩＪソック学系１１は共軸上で入射瞳Ｅを共有し、かつ
位相補正板５に対してわずかに離して互いに相対するよ
う結合されている。
中心に開口を備えた凹面鏡６及び凸面鏡７により構成さ
れている。この方タジオグトリック光学系ＩＩは被投影
物体１に対し位相補正板５、凸面鏡６、凹面鏡５の順で
配置されている。これら屈折光学系Ｉとカタジオプ）
ＩＪソック学系１１は共軸上で入射瞳Ｅを共有し、かつ
位相補正板５に対してわずかに離して互いに相対するよ
う結合されている。
９１・−１
凸面鏡７及び凹面鏡６は各々入射瞳Ｅの光軸入点の点Ｃ
を中心として同心配置となっている。壕だレンズ４の■
、側（左側）、位相補正板５のＲ側（右側）及び凹面鏡
６は非球面である。
を中心として同心配置となっている。壕だレンズ４の■
、側（左側）、位相補正板５のＲ側（右側）及び凹面鏡
６は非球面である。
而して被投影物体１の１点から出た光は、屈折シナがら
レンズ１、レンズ２、レンズ３、レンズ４を通過する。
レンズ１、レンズ２、レンズ３、レンズ４を通過する。
レンズ４を通過した光は平行光となり、レンズ４とわず
かに離しておかれた位相補正板５に入射し、凹面鏡６に
より被投影物体１側へ反射され、その後、凸面鏡７によ
り再度、被投影物体１とは反対側へ反射され、凹面鏡６
の開口を通過し、基準軸とは直角面内で、かつ凹面鏡６
の後方に投影像７を形成するようになっている。
かに離しておかれた位相補正板５に入射し、凹面鏡６に
より被投影物体１側へ反射され、その後、凸面鏡７によ
り再度、被投影物体１とは反対側へ反射され、凹面鏡６
の開口を通過し、基準軸とは直角面内で、かつ凹面鏡６
の後方に投影像７を形成するようになっている。
次に本実施例における像倍率βについて第２図を参照し
ながら説明する。今、物体高をｈｌ、像高をｈ２、屈折
光学系Ｉの焦点距離をｆｌ、カタジオプトリック光学系
Ｉｔの焦点距離をｆ２、光軸Ａを基準とし、物体高ｈ１
からの主光線入射角度を０１、像高ｈ２への主光線出射
角度を０２とすると、像倍率βは次式で与えられる。
ながら説明する。今、物体高をｈｌ、像高をｈ２、屈折
光学系Ｉの焦点距離をｆｌ、カタジオプトリック光学系
Ｉｔの焦点距離をｆ２、光軸Ａを基準とし、物体高ｈ１
からの主光線入射角度を０１、像高ｈ２への主光線出射
角度を０２とすると、像倍率βは次式で与えられる。
１０・
ここで、入射瞳］シは位相補正板５の１７側頂点にあり
、屈折光学系Ｉの後側主点とカタジオプトリック光学系
■の前側主点が一致するようになしであるため、θ１−
０２となり、焦点距離の比ｆ２／ｆ１が倍率βを与える
。換言すれば、入射瞳ｉ、ｊを互いに共有し、その有効
径が等しいため、互いの口径比の比が倍率βを与えるこ
ととなる。
、屈折光学系Ｉの後側主点とカタジオプトリック光学系
■の前側主点が一致するようになしであるため、θ１−
０２となり、焦点距離の比ｆ２／ｆ１が倍率βを与える
。換言すれば、入射瞳ｉ、ｊを互いに共有し、その有効
径が等しいため、互いの口径比の比が倍率βを与えるこ
ととなる。
まだ物点からの入射光束は屈折光学系Ｉにより一旦平行
光に変換されてカタジオプトリック光学系■へ入射する
ため、理論解像限界を決定する全系（屈折光学系Ｉ及び
Ｈの結合として得られる）の口径比は、投影像側のカタ
ジオプトリック光学系■で決定され、被投影物体側の屈
折光学系Ｉの口径比には依存しない。そのため屈折光学
系Ｉの口径比を犬きくすることができ、設計、加工は容
易となる。その上、物体側の屈折光学系１が一種ノアフ
ォーカルコンバータとしての働キヲナｔ、、有限距離に
おかれた被投影物体１からの光線の像１１ ・ 点側カタジオプトリック光学系ＩＩへの入射角を小さく
抑え、軸外の光学収差の発生量を低減することができる
。
光に変換されてカタジオプトリック光学系■へ入射する
ため、理論解像限界を決定する全系（屈折光学系Ｉ及び
Ｈの結合として得られる）の口径比は、投影像側のカタ
ジオプトリック光学系■で決定され、被投影物体側の屈
折光学系Ｉの口径比には依存しない。そのため屈折光学
系Ｉの口径比を犬きくすることができ、設計、加工は容
易となる。その上、物体側の屈折光学系１が一種ノアフ
ォーカルコンバータとしての働キヲナｔ、、有限距離に
おかれた被投影物体１からの光線の像１１ ・ 点側カタジオプトリック光学系ＩＩへの入射角を小さく
抑え、軸外の光学収差の発生量を低減することができる
。
一方、カタジオプトリック光学系ＩＩは、入射瞳Ｅの中
心点０を中心として凹面鏡６、凸面鏡７が同心配置とし
ているため、コマ収差、非点収差、歪曲収差の発生を最
小とすることができる。
心点０を中心として凹面鏡６、凸面鏡７が同心配置とし
ているため、コマ収差、非点収差、歪曲収差の発生を最
小とすることができる。
まだ本実施例のような一括投影光学系では、従来に比べ
ると球面収差は大きくなるが、残存する球面収差は、上
記のように位相補正板５、凹面鏡３、レンズ４を非球面
化することにより除去することができる。
ると球面収差は大きくなるが、残存する球面収差は、上
記のように位相補正板５、凹面鏡３、レンズ４を非球面
化することにより除去することができる。
丑だ上記のように被投影物体側の屈折光学系Ｉ、投影像
側のカタジオプトリック光学系■は、独立に、軸」二収
差であるコマ収差、非点収差、歪曲収差が補正されてい
るため、全系として結合した場合においても十分低収差
の光学系を実現している。
側のカタジオプトリック光学系■は、独立に、軸」二収
差であるコマ収差、非点収差、歪曲収差が補正されてい
るため、全系として結合した場合においても十分低収差
の光学系を実現している。
次に本発明の具体的実施例について説明する。
全系ｆ （焦点距離）：１００ｍｍ、有効Ｆナンバー（
１０径比） ： １．３．、使用波長１９３ ｎｍ、
倍率、１１５ｒ、＝２３２．６５９ ａ、＝］３
．０２７ ｎ、＝］、５６０７６９ｒ、＝−１３０
７．０７４０ ｄ２＝１７．６６９ｒｉ： ２１７
．５５２ ｄ３＝７．６８２ ｎ２＝１．５６
０７６９ｒｌ ＝ ２２２．２０３ ｄｔ ＝４
８．３９７ｒｓ ＝： Ｏｄｓ −９，７６８ｎｈ−１
，５６０７６９ｒｅ””−２０９，１３２ｄ６＝Ｏ，１
６３ｒ７＝ ７３２．９６６ ｄ７””５．０２
４ ｎ４＝１．５６０７６９（非球面） ｒ ｍ ＝ Ｏｄ８＝９８ ｒ９＝ Ｏｄ９＝５．０２８ ｎ５＝１．５６０７
６９ｒ＋ｏ＝ Ｏｄ＋ｏ＝９０．４２６ （非球面） ｒＢ＝ −９０４２６ｄｎ’＝ ２４．５５６反射面（
非球面） ｒ＋２＝ −６５，８６９反射面 但し、第２図に示すようにｒ３、ｒ２はレンズ１の屈折
面の曲率半径、ｒ３、ｒ、はレンズ２の屈折面の曲率半
径、ｒ５、ｒ、はレンズ３の屈折面の曲率半径、ｒ７、
ｒ８はレンズ４の屈折面の曲率半径、ｒ９、ｒｌＯは位
相補正板５の各面の曲率半径、ｒｌｌは凹面鏡６の反射
面の曲率半径、ｒ１２は凸面鏡７０反射面の曲率半径、
ｄｌはレンズ１の肉厚、ｄ２はレンズ１の出射側の面と
レンズ２０入射側の面との間隔、ｄ３はレンズ２の肉厚
、ｄ４はレンズ２の出射側の面とレンズ３０入射側の面
との間隔、ｄｓはレンズ３の肉厚、ｄｓはレンズ３の出
射側の面とレンズ４入射側との間隔、ｄ７はレンズ４の
肉厚、ｄ８はレンズ４の出射側の面と位相補正板５の内
隅、ｄ９は位相補正板５の肉厚、ｄｌｏは位相補正板５
の出射側の面と凹面鏡６０反射面との間隔、ｄｌｌは凹
面鏡６０反射面と凸面鏡７の反射面との間隔、ｎｌはレ
ンズ１の屈折率、ｎ２はレンズ２の屈折率、ｎ、はレン
ズ３の屈折率、ｎ、はレンズ４の屈折率、ｎ５は位相補
正板５の屈折率である。
１０径比） ： １．３．、使用波長１９３ ｎｍ、
倍率、１１５ｒ、＝２３２．６５９ ａ、＝］３
．０２７ ｎ、＝］、５６０７６９ｒ、＝−１３０
７．０７４０ ｄ２＝１７．６６９ｒｉ： ２１７
．５５２ ｄ３＝７．６８２ ｎ２＝１．５６
０７６９ｒｌ ＝ ２２２．２０３ ｄｔ ＝４
８．３９７ｒｓ ＝： Ｏｄｓ −９，７６８ｎｈ−１
，５６０７６９ｒｅ””−２０９，１３２ｄ６＝Ｏ，１
６３ｒ７＝ ７３２．９６６ ｄ７””５．０２
４ ｎ４＝１．５６０７６９（非球面） ｒ ｍ ＝ Ｏｄ８＝９８ ｒ９＝ Ｏｄ９＝５．０２８ ｎ５＝１．５６０７
６９ｒ＋ｏ＝ Ｏｄ＋ｏ＝９０．４２６ （非球面） ｒＢ＝ −９０４２６ｄｎ’＝ ２４．５５６反射面（
非球面） ｒ＋２＝ −６５，８６９反射面 但し、第２図に示すようにｒ３、ｒ２はレンズ１の屈折
面の曲率半径、ｒ３、ｒ、はレンズ２の屈折面の曲率半
径、ｒ５、ｒ、はレンズ３の屈折面の曲率半径、ｒ７、
ｒ８はレンズ４の屈折面の曲率半径、ｒ９、ｒｌＯは位
相補正板５の各面の曲率半径、ｒｌｌは凹面鏡６の反射
面の曲率半径、ｒ１２は凸面鏡７０反射面の曲率半径、
ｄｌはレンズ１の肉厚、ｄ２はレンズ１の出射側の面と
レンズ２０入射側の面との間隔、ｄ３はレンズ２の肉厚
、ｄ４はレンズ２の出射側の面とレンズ３０入射側の面
との間隔、ｄｓはレンズ３の肉厚、ｄｓはレンズ３の出
射側の面とレンズ４入射側との間隔、ｄ７はレンズ４の
肉厚、ｄ８はレンズ４の出射側の面と位相補正板５の内
隅、ｄ９は位相補正板５の肉厚、ｄｌｏは位相補正板５
の出射側の面と凹面鏡６０反射面との間隔、ｄｌｌは凹
面鏡６０反射面と凸面鏡７の反射面との間隔、ｎｌはレ
ンズ１の屈折率、ｎ２はレンズ２の屈折率、ｎ、はレン
ズ３の屈折率、ｎ、はレンズ４の屈折率、ｎ５は位相補
正板５の屈折率である。
非球面係数
サグ量Ｚを下式で表現した場合の係数
＋ Ａ ＋ｏ ｈ
１４・・−ノ
面に、 Ａ、 Ａ、。
ｒ７ ０ １．４５００Ｘ１０ ３．２０００
Ｘ１０ｒ１０ ０ ２．４２３３Ｘ］０ ２．
２８９７Ｘ１０ｒｏ Ｏ］、９５７３Ｘ１０
１．１４４６Ｘ］ＯＡｇ Ａ−
＋。
Ｘ１０ｒ１０ ０ ２．４２３３Ｘ］０ ２．
２８９７Ｘ１０ｒｏ Ｏ］、９５７３Ｘ１０
１．１４４６Ｘ］ＯＡｇ Ａ−
＋。
但し、Ｋ−−ｅ２でｅは離心率、ｈは光線入射高さ、Ａ
４、Ａ６、Ａ８、Ａ、 ＋ｏは各面ｒ７、ｒｌｏ、 ｒ
ｌｌの非球面係数、０ ＝ １／ｒでｒは曲率半径であ
る。
４、Ａ６、Ａ８、Ａ、 ＋ｏは各面ｒ７、ｒｌｏ、 ｒ
ｌｌの非球面係数、０ ＝ １／ｒでｒは曲率半径であ
る。
第３図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に上記具体的実施例によ
る球面収差、非点収差歪曲収差を示す。
る球面収差、非点収差歪曲収差を示す。
球面収差は溶融石英から成るレンズ４の非球面及び位相
補正板５により大部分を除き、残存している高次の球面
収差をＵ面鏡６によって補正している。
補正板５により大部分を除き、残存している高次の球面
収差をＵ面鏡６によって補正している。
非点収差、歪曲収差、コマ収差については、カタジオプ
トリック光学系Ｈの凹面鏡６、凸面鏡７を入射瞳Ｅに関
して同心配置とし、凸面鏡７は球面とし、凹面鏡６に対
して軸外光の場合においてもコンセントリックであるよ
うに成し、収差量の発生を非常に軽微なものとしている
。しかも本実施例では屈折材料は合成石英のみであるた
めλ−１９３ｎｍの波長においても３０％以上の透過率
が得られる。
トリック光学系Ｈの凹面鏡６、凸面鏡７を入射瞳Ｅに関
して同心配置とし、凸面鏡７は球面とし、凹面鏡６に対
して軸外光の場合においてもコンセントリックであるよ
うに成し、収差量の発生を非常に軽微なものとしている
。しかも本実施例では屈折材料は合成石英のみであるた
めλ−１９３ｎｍの波長においても３０％以上の透過率
が得られる。
次に本発明の第２実施例について説明する。本実施例に
おいては第４図に示すように上記第１実施例におけるレ
ンズ４及び位相補正板５を互いの平面部で結合して一体
とし、若しくは予め一体に形成し、一つの位相補正部材
４ａにより屈折光学系１１カタジオプトリツク光学系Ｈ
に共用するようにしだものであり、その他の構成は上記
第１実施例と同様である。本実施例においても上記第１
実施例と同様の効果を得ることができる。
おいては第４図に示すように上記第１実施例におけるレ
ンズ４及び位相補正板５を互いの平面部で結合して一体
とし、若しくは予め一体に形成し、一つの位相補正部材
４ａにより屈折光学系１１カタジオプトリツク光学系Ｈ
に共用するようにしだものであり、その他の構成は上記
第１実施例と同様である。本実施例においても上記第１
実施例と同様の効果を得ることができる。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、収差補正の比較的容
易な口径比の大きい屈折光学系と構成的に収差量の発生
を小さくした口径比の小さいカタジオプ） ＩＪソック
学系を位相補正部材を中心に共軸上で互いに結合し、所
望の投影倍率を得ているため、軸上の収差である球面収
差は勿論のこと、軸外収差であるコマ収差、非点収差、
歪曲収差を非常に小さく抑えることができる。
易な口径比の大きい屈折光学系と構成的に収差量の発生
を小さくした口径比の小さいカタジオプ） ＩＪソック
学系を位相補正部材を中心に共軸上で互いに結合し、所
望の投影倍率を得ているため、軸上の収差である球面収
差は勿論のこと、軸外収差であるコマ収差、非点収差、
歪曲収差を非常に小さく抑えることができる。
また主たる屈折力を反射系で得ているため、使用する硝
材は合成石英のみであるため、紫外域、遠紫外域での透
過率を確保することができ、紫外域、遠紫外域への適用
が可能である。
材は合成石英のみであるため、紫外域、遠紫外域での透
過率を確保することができ、紫外域、遠紫外域への適用
が可能である。
第１図乃至第３図は本発明の第１実施例における精密複
写用投影光学系を示し、第１図は全体断面図、第２図は
像倍率の説明図、第３図（ａ）〜（ｃｌはその収差図、
第４図は本発明の第２実施例における精密複写用投影光
学系の位相補正板の断面図、第５図は従来例の屈折系を
用いた複写用縮小投影光学系の全体断面図、第６図は従
来例の反射系を用いた複写用投影光学系の断面図、第７
図は第６図に示しだ従来例を縮小系に変更した場合の想
定概略図である。 １．２．３．４−屈折レンズ、５．５′ 位相補正板
、６・・・凹面鏡、７・・・凸面鏡、８・・投影像、ｌ
ｉｌ。 ・・・入射瞳、Ａ・・・光軸。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男ほか１名第 ４
図 第 ５ 図 第６図
写用投影光学系を示し、第１図は全体断面図、第２図は
像倍率の説明図、第３図（ａ）〜（ｃｌはその収差図、
第４図は本発明の第２実施例における精密複写用投影光
学系の位相補正板の断面図、第５図は従来例の屈折系を
用いた複写用縮小投影光学系の全体断面図、第６図は従
来例の反射系を用いた複写用投影光学系の断面図、第７
図は第６図に示しだ従来例を縮小系に変更した場合の想
定概略図である。 １．２．３．４−屈折レンズ、５．５′ 位相補正板
、６・・・凹面鏡、７・・・凸面鏡、８・・投影像、ｌ
ｉｌ。 ・・・入射瞳、Ａ・・・光軸。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男ほか１名第 ４
図 第 ５ 図 第６図
Claims (4)
- （１）複数の屈折部材から成る屈折光学系と基準軸を中
心に回転対称に位相補正部材と凸面鏡部材と中心に開口
を備えた凹面鏡部材とを有するカタジオプトリック光学
系とを共軸上で入射瞳を共有し、かつ屈折光学系の後側
主点とカタジオプトリック光学系の前側主点がほぼ一致
するように前記位相補正部材を境界として、物点側に屈
折光学系、像点側にカタジオプトリック光学系が位置す
るように結合され、物点から出た光が屈折光学系を屈折
されながら通過し、像点側のカタジオプトリック光学系
に入射し、位相補正部材を通過後、凹面鏡部材により位
度補正部材側に反射され、さらに凸面鏡部材により位相
補正部材とは反対側に反射され、凹面鏡部材の開口を通
過し、基準軸とは直角面内で、かつ凹面鏡部材の後方に
結像するよう構成されていることを特徴とする精密複写
用投影光学系。 - （２）屈折光学系のカタジオプトリック光学系との対向
面となる屈折材の曲率を零となし、カタジオプトリック
光学系の屈折光学系との対向面となる位相補正部材の曲
率を零とし互いにわずかの間隔を有するように共軸上で
結合配置されている特許請求の範囲第１項記載の精密複
写用投影光学系。 - （３）屈折光学系のカタジオプトリック光学系側の最終
屈折材の有するパワーをカタジオプトリック光学系の位
相補正板が負担し、両側が曲率を有した位相補正部材と
し、前記最終屈折材と前記位相補正部材とを一体化した
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の精密複写
用投影光学系。 - （４）共軸上で結合された屈折光学系とカタジオプトリ
ック光学系の各々の口径比の比率が像倍率を与える特許
請求の範囲第１項記載の精密複写用投影光学系。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10233686A JPS62258414A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | 精密複写用投影光学系 |
| US07/043,620 US4757354A (en) | 1986-05-02 | 1987-04-28 | Projection optical system |
| EP87106243A EP0243950B1 (en) | 1986-05-02 | 1987-04-29 | Optical projection system |
| DE8787106243T DE3784963T2 (de) | 1986-05-02 | 1987-04-29 | Optisches projektionssystem. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10233686A JPS62258414A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | 精密複写用投影光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62258414A true JPS62258414A (ja) | 1987-11-10 |
Family
ID=14324667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10233686A Pending JPS62258414A (ja) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | 精密複写用投影光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62258414A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US6995833B2 (en) | 2003-05-23 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US6995918B2 (en) | 2000-02-16 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus |
| US7283294B2 (en) | 2004-10-25 | 2007-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method |
| US8810903B2 (en) * | 2007-01-17 | 2014-08-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54133357A (en) * | 1978-04-07 | 1979-10-17 | Goto Optical Mfg Co | Cataadioptric system for astronomical telescope |
| JPS5538600A (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-18 | Perkin Elmer Corp | Double reflectinggmirror type optical system |
-
1986
- 1986-05-02 JP JP10233686A patent/JPS62258414A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54133357A (en) * | 1978-04-07 | 1979-10-17 | Goto Optical Mfg Co | Cataadioptric system for astronomical telescope |
| JPS5538600A (en) * | 1978-09-08 | 1980-03-18 | Perkin Elmer Corp | Double reflectinggmirror type optical system |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US6995918B2 (en) | 2000-02-16 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus |
| US7075726B2 (en) | 2000-02-16 | 2006-07-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus |
| US7092168B2 (en) | 2000-02-16 | 2006-08-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus |
| US7239453B2 (en) | 2000-02-16 | 2007-07-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus |
| US8967817B2 (en) | 2001-05-25 | 2015-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system with at most 11.6% of the illuminated surfaces of the pupil plane being obscured |
| US6995833B2 (en) | 2003-05-23 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US7053986B2 (en) | 2003-05-23 | 2006-05-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US7283294B2 (en) | 2004-10-25 | 2007-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method |
| US8810903B2 (en) * | 2007-01-17 | 2014-08-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
| US9298100B2 (en) | 2007-01-17 | 2016-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Imaging optical system |
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