JPS62254400A - Charged particle apparatus - Google Patents

Charged particle apparatus

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JPS62254400A
JPS62254400A JP9772186A JP9772186A JPS62254400A JP S62254400 A JPS62254400 A JP S62254400A JP 9772186 A JP9772186 A JP 9772186A JP 9772186 A JP9772186 A JP 9772186A JP S62254400 A JPS62254400 A JP S62254400A
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JP
Japan
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trajectory
charged particle
charged particles
charged
generating means
Prior art date
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Application number
JP9772186A
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Japanese (ja)
Inventor
池上 和律
荘一郎 奥田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、荷電粒子装置に関し、特に電子のような荷
電粒子からなるビームを加速し、あるいは蓄積して偏向
電磁石部から発生する放射光を利用する荷電粒子装置に
関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a charged particle device, and in particular to a device that accelerates or accumulates a beam of charged particles such as electrons to generate synchrotron radiation from a bending electromagnet. This relates to the charged particle device to be used.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は例えば「シンクロトロン放射用超電導レースト
ラック電子蓄積リングおよび共有インジェクタマイクロ
トロン」、ヨシカズ ミャハラ。
Figure 2 is an example of "Superconducting racetrack electron storage ring and shared injector microtron for synchrotron radiation" by Yoshikazu Myahara.

コシ タカタ、テッヤ ナカニシ、l5SP技法。Koshi Takata, Teya Nakanishi, l5SP technique.

シリーズ8.21号、  1984 J  (rsup
erconducting  Racetrack E
lectron Storage Ring andC
oexistent Injector Microt
ron for 5ynchrotr。
Series No. 8.21, 1984 J (rsup
erconducting Racetrack E
lectron Storage Ring andC
oexistent Injector Microt
ron for 5ynchrotr.

n Radiation J  by Toshika
zu Miyahara、 Koji↑akata a
nd Tetsuya Nakanishi、 TBC
HNICAL REPORT of l5SP、 Se
r B No、21.1984 )に示された従来の荷
電粒子装置を示し、図において、1は荷電粒子を蓄積す
る蓄積リング、2は荷電粒子を蓄積リング1に導く入射
部ビームライン、3は平衡軌道4を形成するため荷電粒
子を偏向する偏向電磁石、5は荷電粒子を偏向する際に
発生するシンクロトロン放射光10を、外部に取り出し
てリソグラフィなどに利用するための放射光ビームライ
ン、6は荷電粒子を集束する4掻電磁石、7は荷電粒子
の通路である真空ドーナツツ、8は放射光を放出するこ
とにより失われる荷電粒子のエネルギを補なうため、荷
電粒子を所定のエネルギに加速する高周波空洞、9は荷
電粒子を入射部ビームライン2から真空ドーナツラフ内
に入射するために荷電ビームをパルス的に偏向するセプ
タムマグネットである。
nRadiation J by Toshika
zu Miyahara, Koji↑akata a
nd Tetsuya Nakanishi, TBC
HNICAL REPORT of l5SP, Se
r B No., 21.1984), in which 1 is a storage ring that accumulates charged particles, 2 is an entrance beam line that guides charged particles to storage ring 1, and 3 is an inlet beam line that leads charged particles to storage ring 1. A deflection electromagnet for deflecting charged particles to form a balanced trajectory 4; 5 a synchrotron radiation beam line for extracting synchrotron radiation 10 generated when deflecting charged particles to the outside for use in lithography, etc.; 6; 4 is a scratching magnet that focuses charged particles, 7 is a vacuum donut that is a path for charged particles, and 8 is a magnet that accelerates charged particles to a predetermined energy in order to compensate for the energy of charged particles lost by emitting synchrotron radiation. The high frequency cavity 9 is a septum magnet that deflects the charged beam in a pulsed manner in order to make the charged particles enter the vacuum donut graph from the entrance beam line 2.

次に動作について説明する。入射部ビームライン2によ
り導かれた荷電粒子は、セプタムマグネット9に゛よる
荷電ビームのパルス的偏向により真空ドーナツラフ内に
入射される。そして、入射された荷電粒子は過渡的な軌
道(バンプ軌道という)を経たのち、偏向電磁石3と4
掻電磁石6との配置により定められた平衡軌道4に入り
、該軌道4上を周回する。このとき、上記入射部ビーム
ライン2と真空ドーナッツ7とは通常、同一平面上にあ
る配置をと名、そして、平衡軌道4上を周回する荷電粒
子は、偏向電磁石3の磁界による偏向を受ける際に、制
動放射による電磁波を該軌道4の接線方向に水平に放射
する。これがシンクロトロン放射光10である(以下、
放射光と略す)、該放射光10は偏向電磁石3中の荷電
粒子軌道上の任意の位置から得ることができるので、放
射光ビームライン5は通常多数段けられ、装置の利用効
率が高められている。
Next, the operation will be explained. Charged particles guided by the entrance beam line 2 are incident into the vacuum donut graph by pulsed deflection of the charged beam by a septum magnet 9. Then, the incident charged particles pass through a transient trajectory (referred to as a bump trajectory) and then pass through the bending electromagnets 3 and 4.
It enters the equilibrium orbit 4 determined by the arrangement with the scratching magnet 6 and revolves on the orbit 4. At this time, the incident beam line 2 and the vacuum donut 7 are usually arranged on the same plane, and when the charged particles orbiting on the equilibrium orbit 4 are deflected by the magnetic field of the deflecting electromagnet 3, Then, electromagnetic waves due to bremsstrahlung are radiated horizontally in the tangential direction of the orbit 4. This is synchrotron radiation 10 (hereinafter referred to as
Since the synchrotron radiation 10 can be obtained from any position on the orbit of the charged particles in the bending electromagnet 3, the synchrotron radiation beam line 5 is usually arranged in multiple stages to increase the utilization efficiency of the apparatus. ing.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の荷電粒子装置は以上のように構成されているの、
で、放射光の照射面積は荷電ビームの垂直方向の径によ
り決まってしまい、照射面積を大きくとることが難しい
という問題点があった。
Conventional charged particle devices are configured as described above.
However, the irradiation area of the synchrotron radiation is determined by the diameter of the charged beam in the vertical direction, making it difficult to increase the irradiation area.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、放射光の照射面積を大きくすることのできる
荷電粒子装置を得ることを目的とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is to obtain a charged particle device that can increase the area irradiated with synchrotron radiation.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る荷電粒子装置は、電磁界発生手段を設け
、偏向電磁石中の荷電粒子の軌道を揺動させるようにし
たものである。
A charged particle device according to the present invention is provided with an electromagnetic field generating means to swing the trajectory of charged particles in a bending electromagnet.

〔作用〕[Effect]

この発明においては、電磁界発生手段を設け、偏向電磁
石中の荷電粒子の軌道を揺動させるようにしたので、荷
電ビームの径が大きくなってシンクロトロン放射光の光
源が拡がることとなり、これにより該放射光の照射面積
を大きくすることができる。
In this invention, an electromagnetic field generating means is provided to oscillate the trajectory of the charged particles in the bending electromagnet, so the diameter of the charged beam increases and the light source of synchrotron radiation light expands. The irradiation area of the radiation light can be increased.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例による荷電粒子装置の偏向電磁
石部を示し、図において、3は偏向電磁石、4は偏向電
磁石3の偏向磁界により定められた荷電粒子の平衡軌道
、3aは複数対の永久磁石であり、これは平衡軌道4の
平面内に、各月の各磁石が該軌道4をはさんで相互に対
向し、かつ隣接する2つの対が逆極性となるよう該軌道
4に沿って順次配列されている。3bは永久磁石3aに
よる水平磁界、4aは荷電粒子の揺動軌道、5aは揺動
軌道4aにより大きくなったシンクロトロン放射光の光
源、5bは光源5aから放射されるシンクロトロン放射
光である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
The figure shows a bending electromagnet section of a charged particle device according to an embodiment of the present invention. In the figure, 3 is a bending electromagnet, 4 is an equilibrium trajectory of charged particles determined by the deflection magnetic field of the bending electromagnet 3, and 3a is a plurality of pairs of Permanent magnets, which are arranged in the plane of a balanced orbit 4 along the orbit 4 such that each magnet of each moon faces each other across the orbit 4 and two adjacent pairs have opposite polarity. are arranged sequentially. 3b is a horizontal magnetic field generated by the permanent magnet 3a, 4a is an oscillating orbit of a charged particle, 5a is a light source of synchrotron radiation increased by the oscillating orbit 4a, and 5b is synchrotron radiation emitted from the light source 5a.

本実施例装置では、荷電粒子は偏向電磁石3内に入ると
、従来と同様その偏向磁界により進行方向を曲げられる
が、このとき上記偏向電磁石3には水平磁界3bを発生
するための複数対の永久磁石3aが設置されているので
、上記荷電粒子には鉛直面内で上向きの力、下向きの力
が順次加わることとなり、このため上記荷電粒子の軌道
は波状の揺動軌道4aとなる。そしてこのため、シンク
ロトロン放射光の垂直方向への発散角が増し、該放射光
の光源が拡がり、上記シンクロトロン放射光の照射面積
が拡がることとなる。
In this embodiment device, when charged particles enter the deflecting electromagnet 3, their traveling direction is bent by the deflecting magnetic field as in the conventional case, but at this time, the deflecting electromagnet 3 has a plurality of pairs for generating a horizontal magnetic field 3b. Since the permanent magnet 3a is installed, an upward force and a downward force are sequentially applied to the charged particles in the vertical plane, so that the trajectory of the charged particles becomes a wavy oscillating trajectory 4a. Therefore, the angle of divergence of the synchrotron radiation in the vertical direction increases, the light source of the synchrotron radiation expands, and the irradiation area of the synchrotron radiation increases.

このように本実施例装置では、偏向電磁石中の荷電粒子
の軌道を揺動させることにより、シンクロトロン放射光
の照射面積を拡げることができ、広い面積にわたって均
一な照射を行うことができる。また、ミラーによって放
射光を走査したり、散乱体によって放射光を散乱させる
ような均一照射のための特別な工夫が不必要となる。
As described above, in the device of this embodiment, by swinging the trajectory of the charged particles in the bending electromagnet, the irradiation area of synchrotron radiation light can be expanded, and uniform irradiation can be performed over a wide area. Moreover, special measures for uniform irradiation, such as scanning the emitted light with a mirror or scattering the emitted light with a scatterer, are not required.

なお、上記実施例では、水平磁界を発生するために永久
磁石を用いているが、これは電磁石であってもよく、同
様の効果を奏する。
In the above embodiment, a permanent magnet is used to generate the horizontal magnetic field, but an electromagnet may also be used and the same effect can be obtained.

また、上記実施例では、磁界により荷電粒子軌道を揺動
させているが、これは本発明の第2実施例として、電界
によるものであってもよい、すなわち、複数対の電極を
、荷電粒子の平衡軌道を含む鉛直面内にて、各月の各電
極が上記軌道をはさんで対向し、かつ隣接する2つの対
が逆極性となるよう上記軌道に沿って順次配列して上記
軌道に電界を加えてもよく、これにより上記実施例と同
様に荷電粒子軌道を揺動させることができる。
Furthermore, in the above embodiment, the charged particle trajectory is oscillated by a magnetic field, but this may be done by an electric field as a second embodiment of the present invention. In a vertical plane containing the equilibrium orbit of An electric field may be applied, thereby making it possible to oscillate the charged particle trajectory in the same manner as in the above embodiment.

また、上記実施例及び第2実施例では、荷電粒子軌道を
揺動させるための電磁界を、荷電粒子の平衡軌道を含む
水平面内の磁界及び鉛直面内の電界としているが、これ
はへリカルな磁界であってもよく、同様の効果を奏する
In addition, in the above embodiment and the second embodiment, the electromagnetic field for swinging the charged particle trajectory is a magnetic field in a horizontal plane containing the balanced trajectory of the charged particle and an electric field in a vertical plane. A similar magnetic field may also be used, and the same effect will be achieved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のようにこの発明の荷電粒子装置によれば、偏向電
磁石中の荷電粒子軌道を揺動させるための電磁界発生手
段を設けたので、シンクロトロン放射光の光源を拡大し
て該放射光の照射面積を拡げることができ、広い面積に
わたる均一照射を行うことができる効果がある。
As described above, according to the charged particle device of the present invention, since the electromagnetic field generating means for swinging the charged particle trajectory in the bending electromagnet is provided, the light source of the synchrotron radiation light is enlarged and the synchrotron radiation light source is expanded. This has the effect that the irradiation area can be expanded and uniform irradiation can be performed over a wide area.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例による荷電粒子装置の偏向
電磁石部を示す図、第2図は従来の荷電粒子装置を示す
平面図である。 図において、3は偏向電磁石、3aは永久磁石、3bは
水平磁界、4は平衡軌道、4aは揺動軌道、5aは光源
、5bはシンクロトロン放射光である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a diagram showing a bending electromagnet section of a charged particle device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing a conventional charged particle device. In the figure, 3 is a bending electromagnet, 3a is a permanent magnet, 3b is a horizontal magnetic field, 4 is a balanced orbit, 4a is an oscillating orbit, 5a is a light source, and 5b is synchrotron radiation light. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)その偏向磁界により荷電粒子の進行方向を曲げる
偏向電磁石を備え、一定の軌道上に荷電粒子を周回させ
る荷電粒子装置において、 上記偏向電磁石中の上記荷電粒子の軌道を揺動させるた
めの電磁界を発生する電磁界発生手段を備えたことを特
徴とする荷電粒子装置。
(1) In a charged particle device that is equipped with a bending electromagnet that bends the traveling direction of charged particles by its deflection magnetic field and that makes the charged particles orbit on a fixed trajectory, for swinging the trajectory of the charged particles in the bending electromagnet A charged particle device comprising an electromagnetic field generating means for generating an electromagnetic field.
(2)上記電磁界発生手段は、複数対の永久磁石又は電
磁石を上記荷電粒子軌道の平面内にて、各対の各磁石が
上記軌道をはさんで相互に対向するよう、かつ隣接する
2つの対が逆極性になるよう上記軌道に沿って順次配列
してなる磁界発生手段であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の荷電粒子装置。
(2) The electromagnetic field generating means includes a plurality of pairs of permanent magnets or electromagnets arranged in a plane of the charged particle trajectory so that each pair of magnets face each other across the trajectory, and two or more adjacent 2. The charged particle device according to claim 1, wherein the magnetic field generating means is formed by sequentially arranging two pairs along the trajectory so as to have opposite polarities.
(3)上記電磁界発生手段は、複数対の電極を上記荷電
粒子軌道を含む鉛直平面内にて、各対の各電極が上記軌
道をはさんで相互に対向するよう、かつ隣接する2つの
対が逆極性になるよう上記軌道に沿って順次配列してな
る電界発生手段であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の荷電粒子装置。
(3) The electromagnetic field generating means arranges a plurality of pairs of electrodes in a vertical plane including the charged particle trajectory, so that each electrode of each pair faces each other across the trajectory, and two adjacent electrodes The charged particle device according to claim 1, characterized in that the electric field generating means is formed by sequentially arranging the pairs along the trajectory so that the pairs have opposite polarities.
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