JPS62200699A - Charged particle device - Google Patents

Charged particle device

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Publication number
JPS62200699A
JPS62200699A JP4383786A JP4383786A JPS62200699A JP S62200699 A JPS62200699 A JP S62200699A JP 4383786 A JP4383786 A JP 4383786A JP 4383786 A JP4383786 A JP 4383786A JP S62200699 A JPS62200699 A JP S62200699A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
beam line
synchrotron radiation
charged particle
entrance
charged particles
Prior art date
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Pending
Application number
JP4383786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
俊二 山本
史朗 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4383786A priority Critical patent/JPS62200699A/en
Publication of JPS62200699A publication Critical patent/JPS62200699A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、荷電粒子装置に関するものであり、更に詳
しく言うと、電子ビームのような荷電粒子から成るビー
ムを加速したり、あるいは蓄積して、偏向部から発生す
る放射光を利用する荷電粒子装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] This invention relates to a charged particle device, and more specifically, a device for accelerating or accumulating a beam of charged particles such as an electron beam. , relates to a charged particle device that utilizes synchrotron radiation generated from a deflection section.

第4図は従来の荷電粒子装置の一例を示す平面図である
。1は荷電粒子を蓄積する蓄積リングである。2は荷電
粒子を蓄積リング1に導くための入射部ビームラインで
ある。3は荷電粒子を偏向して平衡軌道4を形成するた
めの偏向電磁石である。5は荷電粒子を偏向する際に発
生する放射光(シンクロトロン放射光(S OR; 5
ynchrotronorbital radiati
on )とも呼ばれる)を外部に取り出してリソグラフ
ィなどに利用するための放射光ビームラインである。6
は荷電粒子を集束させる四極電磁石である。7は荷電粒
子の通路である真空ドーナッツである。8ば放射光を放
射することによる荷電粒子のエネルギ損失を補ない所定
のエネルギに加速するための高周波空洞である。9は荷
電粒子を入射部ビームライン2から真空ドーナツラフ内
に入射させるためにビームをパルス的に偏向させるセプ
タムマグネットである。
FIG. 4 is a plan view showing an example of a conventional charged particle device. 1 is a storage ring that stores charged particles. Reference numeral 2 denotes an entrance beam line for guiding charged particles to the storage ring 1. 3 is a deflecting electromagnet for deflecting charged particles to form a balanced trajectory 4; 5 is synchrotron radiation (SOR) generated when deflecting charged particles.
ynchronorbital radiation
This is a synchrotron radiation beam line for taking out the radiation (also called "on") to the outside for use in lithography, etc. 6
is a quadrupole electromagnet that focuses charged particles. 7 is a vacuum donut which is a passage for charged particles. 8 is a high frequency cavity for accelerating charged particles to a predetermined energy without compensating for energy loss caused by emitting synchrotron radiation. Reference numeral 9 denotes a septum magnet that deflects the beam in a pulsed manner in order to make the charged particles enter the vacuum donut graph from the entrance beam line 2.

次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.

入射部ビームライン2から入射された荷電粒子は、セプ
タムマグネット9によりパルス的に偏向されて真空ドー
ナツラフ内に入射される。その後荷電粒子は、過渡的な
軌道(バンプ軌道という)を経たのち偏向電磁石3と四
極電磁石6との配置により定まった平衡軌道4に入り、
この軌道に沿って長時間回転し続ける。通常入射部ビー
ムライン2と真空ドーナツツ7とは同一平面内となる配
置をとる。たとえば、入射部ビームライン2内の荷電粒
子が水平方向に進行して入射される場合には、セプタム
マグネット9によって荷電粒子は水平方向の偏向を受け
、最終的に、水平な平衡軌道4に沿って回転する。平衡
軌道4に沿って回転する荷電粒子が偏向電磁石3の磁界
により偏向を受ける際に、制動放射により電磁波を軌道
接線方向に水平に放射する。これが放射光である。放射
光は偏向電磁石3中の荷電粒子の軌道上の任意の位置か
ら得ることができるので、通常、放射光ビームライン5
は多数段けられ、装置の利用効率を高めている。
Charged particles incident from the entrance beam line 2 are deflected in a pulsed manner by a septum magnet 9 and enter the vacuum donut graph. After that, the charged particle passes through a transient trajectory (referred to as a bump trajectory) and then enters an equilibrium trajectory 4 determined by the arrangement of the bending magnet 3 and the quadrupole electromagnet 6.
It continues to rotate along this orbit for a long time. Normally, the entrance beam line 2 and the vacuum donut 7 are arranged in the same plane. For example, when a charged particle in the entrance beam line 2 enters while traveling in the horizontal direction, the charged particle is deflected in the horizontal direction by the septum magnet 9 and finally follows the horizontal equilibrium trajectory 4. and rotate. When charged particles rotating along the balanced orbit 4 are deflected by the magnetic field of the bending electromagnet 3, they radiate electromagnetic waves horizontally in the tangential direction of the orbit due to bremsstrahlung radiation. This is synchrotron radiation. Since the synchrotron radiation can be obtained from any position on the orbit of the charged particles in the bending electromagnet 3, the synchrotron radiation beam line 5 is normally used.
are arranged in multiple stages to increase the efficiency of equipment utilization.

〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の荷電粒子装置は以上のように構成されているので
、入射部ビームラインと交わる配置となる放射光ビーム
ラインが存在することとなる。これら2種のビームライ
ンが交わると予想される位置については入射部ビームラ
インが放射光をさえぎるため放射光ビームラインが設置
できなかった。
[Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional charged particle device is configured as described above, there is a synchrotron radiation beam line arranged to intersect with the incident beam line. A synchrotron radiation beam line could not be installed at a position where these two types of beam lines were expected to intersect because the entrance beam line would block the synchrotron radiation.

そのために、放射光の利用効率を著しく低下させてしま
うという問題点があった。
Therefore, there was a problem in that the efficiency of using the synchrotron radiation was significantly reduced.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、入射部ビームラインと放射光ビームラインと
が交差した場合にも放射光を利用でき、放射光の利用効
率を飛曜的に高めることのできる荷電粒子装置を得るこ
とを目的とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to use synchrotron radiation even when the entrance beam line and the synchrotron radiation beam line intersect, dramatically increasing the efficiency of synchrotron radiation use. The purpose is to obtain a charged particle device that can be used to increase

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る荷電粒子装置は、入射部ビームラインと
、このビームラインと交差すると予想される放射光ビー
ムラインとを、互いに交差した状態で設置し、両ビーム
ラインを形成するダクトの側壁に孔をあけて、両ビーム
ラインを同一真空系として接続したものである。
In the charged particle device according to the present invention, an entrance beam line and a synchrotron radiation beam line that is expected to intersect with this beam line are installed so as to intersect with each other, and a hole is formed in the side wall of a duct forming both beam lines. Both beam lines are connected as the same vacuum system with a gap between them.

〔作用〕[Effect]

この発明においては、入射部ビームラインと放射光ビー
ムラインとが交差している場合にも従来例の両ビームラ
インが交差してい雇い場合と同様に、荷電粒子がN桓す
ングに入射され、その後、放射光が全くさえぎられるこ
となく放射される。
In this invention, even when the entrance beam line and the synchrotron radiation beam line intersect, charged particles are incident on the N beam as in the case where both beam lines intersect in the conventional example, Thereafter, the synchrotron radiation is emitted completely unobstructed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、5aは入射部ビームライン2と交差する放
射光ビームライン、2oは入射部ビームライン2と放射
光ビームライン5aとの両ビームラインの交差部である
。交差部2oは爆接など耐真空性のある方法で接続固定
しである。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
In the figure, 5a is a synchrotron radiation beam line that intersects the entrance beam line 2, and 2o is the intersection of the entrance beam line 2 and the synchrotron radiation beam line 5a. The intersection 2o is connected and fixed using a vacuum-resistant method such as explosion welding.

第2図と第3図は各々交差部2oの斜視図、断面斜視図
である。21はカプトン膜であり、真空度の異なる部分
の真空しゃへい壁として用いている。
2 and 3 are a perspective view and a cross-sectional perspective view of the intersection 2o, respectively. 21 is a Kapton film, which is used as a vacuum shielding wall for parts with different degrees of vacuum.

荷電粒子が入射部ビームライン2がら真空ドーナッツ7
ヘセプタムマグネット9によりパルス的に入射される。
Charged particles enter the vacuum donut 7 from the entrance beam line 2.
The light is applied in a pulsed manner by the heseptum magnet 9.

真空ドーナッツ7への入射が完了すると、荷電粒子は入
射ビームライン2の中には存在しない。入射された荷電
粒子が平衡軌道4を何度も回転しながら、偏向電磁石3
中で放射光40を発生し、この放射光40がビームライ
ン5゜5aによって、外部にとり出される。入射部ビー
ムライン2と交差する放射光ビームライン5aの交差部
20においては、パルス的に入射された荷電粒子は急激
に減少してゆくので、放射光はごく短時間を経過した後
には、入射部ビームラインと交差しない放射光ビームラ
イン5中の放射光と全く同等の特性をもつようになる。
When the injection into the vacuum donut 7 is completed, no charged particles are present in the input beam line 2. The incident charged particle rotates around the equilibrium orbit 4 many times, and the deflecting electromagnet 3
Synchrotron radiation 40 is generated inside the beam line 5.degree. 5a, and this radiation light 40 is taken out to the outside by a beam line 5.degree. 5a. At the intersection 20 of the synchrotron radiation beam line 5a that intersects with the entrance beam line 2, the charged particles that are injected in a pulsed manner rapidly decrease, so that the synchrotron radiation stops being incident after a very short period of time. It has completely the same characteristics as the synchrotron radiation in the synchrotron radiation beam line 5 that does not intersect with the other beam lines.

交差部20の真空度はカプトン膜21により真空ドーナ
ッツ2と同一の超高真空に保たれている。
The degree of vacuum at the intersection 20 is maintained at the same ultra-high vacuum level as the vacuum donut 2 by a Kapton membrane 21.

なお、上記実施例では1つの蓄積リングにおいて入射部
ビームラインと放射光ビームラインとを交差させる配置
としたが、ある蓄積リングの入射部ビームラインと、他
の蓄積リングの放射光ビームラインとを交差させてもよ
い。
In the above embodiment, the entrance beam line and the synchrotron radiation beam line in one storage ring are arranged to intersect, but the entrance beam line of one storage ring and the synchrotron radiation beam line of another storage ring are arranged to intersect with each other. May be crossed.

また、入射部ビームライン同士あるいは、放射光ビーム
ライン同士を交差させる配置としてもよい。
Further, the arrangement may be such that the entrance beam lines or the synchrotron radiation beam lines intersect with each other.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明によれば、入射部ビームライン
と放射光ビームラインとを交差させ同−真空系になる構
成としたので、1台の蓄積リングに多数本の放射光ビー
ムラインを設置することができ、新たなマグネットを設
置する等装置を複雑化することなく、放射光の利用効率
を著しく高めることができる効果がある。
As described above, according to the present invention, since the entrance beam line and the synchrotron radiation beam line are configured to intersect and form the same vacuum system, multiple synchrotron radiation beam lines are installed in one storage ring. This has the effect of significantly increasing the efficiency of using synchrotron radiation without complicating the device, such as installing a new magnet.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例による荷電粒子装置を示す
平面図、第2図および第3図は上記実施例分骨便のビー
ムライン交差部を示す斜視図、第4図は従来の荷電粒子
装置を示す平面図である。 2は入射部ビームライン、5aは交差する放射光ビーム
ラインである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a plan view showing a charged particle device according to an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are perspective views showing the beam line intersection of the above embodiment, and FIG. It is a top view showing a particle device. 2 is an entrance beam line, and 5a is an intersecting radiation beam line. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)入射部ビームラインと、 この入射部ビームラインから入射される荷電粒子を蓄積
する蓄積リングと、 この蓄積リングから発生する放射光をとり出す放射光ビ
ームラインとを備えた荷電粒子装置において、 上記入射部ビームラインと放射光ビームラインとを交差
させて同一の真空系にしたことを特徴とする荷電粒子装
置。
(1) In a charged particle device equipped with an entrance beam line, a storage ring that accumulates charged particles incident from the entrance beam line, and a synchrotron radiation beam line that extracts synchrotron radiation generated from the storage ring. , A charged particle device characterized in that the entrance beam line and the synchrotron radiation beam line intersect to form the same vacuum system.
JP4383786A 1986-02-27 1986-02-27 Charged particle device Pending JPS62200699A (en)

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